TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025133924
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-11
出願番号
2025116550,2023126113
出願日
2025-07-10,2015-02-26
発明の名称
配列用マスク
出願人
マクセル株式会社
代理人
個人
主分類
H01L
21/60 20060101AFI20250904BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】半田ボールの搭載不良を防止できる配列用マスクを提供する。
【解決手段】 所定の配列パターンに対応した通孔12内に半田ボール2を振り込むことで、ワーク3上の所定位置に半田ボール2を搭載する配列用マスクである。通孔12が形成されたマスク本体10を備える。通孔12の内面とマスク本体10の表面のそれぞれにはコーティング層が設けられており、通孔12の内面に設けられたコーティング層の厚みと、マスク本体10の表面に設けられたコーティング層の厚みとは異なるものとされている。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
所定の配列パターンに対応した通孔(12)内に半田ボール(2)を振り込むことで、ワーク(3)上の所定位置に前記半田ボール(2)を搭載する配列用マスクであって、
前記通孔(12)が形成されたマスク本体(10
)を
備え、
前記通孔(12)の内面とマスク本体(10)の表面のそれぞれにはコーティング層が設けられており、
前記通孔(12)の内面に設けられたコーティング層の厚みと、前記マスク本体(10)の表面に設けられたコーティング層の厚みとが異な
ることを特徴とする配列用マスク。
続きを表示(約 650 文字)
【請求項2】
前記マスク本体(10)の下面側、すなわち前記ワーク(3)との対向面側には突起部(15)が設けられ、当該突起部(15)の表面にはコーティング層が設けられており、
前記マスク本体(10)の表面に設けられたコーティング層の厚みと、前記突起部(15)の表面に設けられたコーティング層の厚みとが同寸法に設定されている請求項1記載の配列用マスク。
【請求項3】
前記通孔(12)の内面におけるコーティング層の厚みをT1、前記マスク本体(10)の下面、すなわち前記ワーク(3)との対向面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1>T2である請求項1記載の配列用マスク。
【請求項4】
前記通孔(12)の内面におけるコーティング層の厚みをT1、前記マスク本体(10)の下面、すなわち前記ワーク(3)との対向面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1<T2である請求項1記載の配列用マスク。
【請求項5】
前記通孔(12)の内面におけるコーティング層の厚みをT1、前記マスク本体(10)の上面であるスキージ面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1>T2である請求項1記載の配列用マスク。
【請求項6】
前記通孔(12)の内面におけるコーティング層の厚みをT1、前記マスク本体(10)の上面であるスキージ面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1<T2である請求項1記載の配列用マスク。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば半田バンプを形成するのに用いられる、配列用マスクに関する。
続きを表示(約 2,800 文字)
【背景技術】
【0002】
半田バンプの形成方法としては、ウエハ・フレキシブル基板・リジッド基板などのワーク上の電極にフラックスを塗布する印刷工程と、フラックス上に半田ボールを配列する配列工程と、半田ボールを加熱・溶解する加熱工程を経てバンプを形成している。そして、前述の配列工程において、ワーク上に半田ボールを配列する方式としては、マスクを用いた振込方式がある。振込方式では、ワークの電極の配列パターンに対応して半田ボールが挿通可能な位置決め用の通孔を有する配列用マスク(以下、適宜に単に「マスク」と称す)を用いて、半田ボールをワークの電極上に搭載させている。具体的には、通孔と電極とが一致するようにワークに対しマスクを位置合わせしたうえで、マスクの上に供給された半田ボールをスキージやブラシ等で掃引して、各通孔に一つずつ半田ボールを投入する。そして、フラックスに半田ボールを固着させることにより、ワーク上の所定位置に半田ボールを仮止め的に搭載させている。
【0003】
係るマスクとしては特許文献1に開示されたものがある。特許文献1に記載のマスクは、通孔を有するマスク本体の下面に多数本の支持用の突起部を設けており、突起部の突出寸法は同一寸法に設定されている。これにより、ワーク上にマスクを設置した際に、全ての支持用の突起部の下端がワークの上面に当接され、通孔を有するマスク本体とワークとの対向間隙が確保されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2006-287215号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、近年では電子機器の小型化に伴い、バンプの微小化が進んできている。つまり、バンプの微小化に伴って、マスクにおける通孔間隔寸法やパターン領域間隔寸法が狭くなり、通孔間やパターン領域間(パターン領域外周)に配される突起部自身の外形寸法も小さくなる傾向にあるため、マスクとワークとの対向間隔が狭まり、ワークの電極上に配されたフラックスがマスクに付着しやすくなる。マスクの表面にフラックスが付着してしまうと、半田ボールの搭載不良が生じやすくなってしまう。本発明の目的は、半田ボールの搭載不良を防止できる配列用マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明
の配列用マスク
は、所定の配列パターンに対応した通孔12内に半田ボール2を振り込むことで、ワーク3上の所定位置に半田ボール2を搭載する配列用マスクであって、通孔12
が形成された
マスク本体10
を
備え、
通孔12の内面とマスク本体10の表面のそれぞれにはコーティング層が設けられており、通孔12の内面に設けられたコーティング層の厚みと、マスク本体10の表面に設けられたコーティング層の厚みとが異な
ることを特徴とす
る。マスク本体10の下面側、すなわちワーク3との対向面側には突起部15が設けられ、当該突起部15の表面にはコーティング層が設けられており、マスク本体10の表面に設けられたコーティング層の厚みと、突起部15の表面に設けられたコーティング層の厚みとが同寸法に設定されている。
【0007】
通孔12の内面におけるコーティング層の厚みをT1、マスク本体10の下面、すなわちワーク3との対向面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1>T2である。
通孔12の内面におけるコーティング層の厚みをT1、マスク本体10の下面、すなわち前記ワーク3との対向面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1<T2である。
通孔12の内面におけるコーティング層の厚みをT1、マスク本体10の上面であるスキージ面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1>T2である。
通孔12の内面におけるコーティング層の厚みをT1、マスク本体10の上面であるスキージ面におけるコーティング層の厚みをT2としたとき、T1<T2である。
【発明の効果】
【0008】
本発明の配列用マスクによれば、マスク本体下面に、コーティング層が形成されているので、マスク本体下面にフラックスが付着したままの状態を防ぐことができる。また、マスク本体下面及び突起部表面を覆うようにコーティング層を形成することで、コーティング層が突起部の保護層としての機能を果たすことになり、突起部の脱落、変形、破損を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本発明の配列用マスクとワークの全体構成を示す斜視図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの縦断側面図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの平面図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの別実施形態の縦断側面図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの別実施形態の平面図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの別実施形態の縦断側面図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの製造方法の説明図である。
本発明の第1実施形態に係る配列用マスクの製造方法の説明図である。
本発明の第2実施形態に係る配列用マスクの縦断側面図である。
本発明の第2実施形態に係る配列用マスクの製造方法の説明図である。
本発明の第2実施形態に係る配列用マスクの製造方法の説明図である。
本発明の別実施形態に係る配列用マスクの部分拡大平面図である。
本発明の第2実施形態に係る配列用マスクの別実施形態の部分拡大縦断側面図である。
本発明の第2実施形態に係る配列用マスクの別実施形態の製造方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
(第1実施形態)
図1乃至図3に、本発明の第1実施形態に係る半田ボールの配列用マスクを示す。この配列用マスク(以下、単にマスクと記す)1は、半田バンプ形成における半田ボール2の配列工程において使用に供されるものである。図2において、符号3は、マスク1による半田ボール2の搭載対象となるワークを示す。このワーク3は、例えば、ガラスエポキシ基板のベース4に複数個の半導体チップ5を搭載し、ワイヤボンドで配線した後トランスファモールド封止してなるものであり、半導体チップ5を囲むように、ワーク3の上面には、入出力端子である電極6が所定のパターンで形成されている。なお、ワーク3は、バンプの形成後に個片に切断され、個々のLSIチップとされる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
個人
安全なNAS電池
6日前
愛知電機株式会社
電力機器
27日前
日機装株式会社
加圧装置
22日前
個人
フリー型プラグ安全カバー
13日前
ヒロセ電機株式会社
端子
27日前
東レ株式会社
多孔質炭素シート
1日前
エイブリック株式会社
半導体装置
3日前
キヤノン株式会社
電子機器
1日前
ローム株式会社
半導体装置
22日前
エイブリック株式会社
半導体装置
3日前
ローム株式会社
半導体装置
1日前
オムロン株式会社
電磁継電器
10日前
東レ株式会社
ガス拡散層の製造方法
1日前
三菱電機株式会社
回路遮断器
23日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
17日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
9日前
沖電気工業株式会社
アンテナ
13日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
17日前
株式会社ヨコオ
コネクタ
3日前
株式会社カネカ
二次電池
16日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
8日前
トヨタ自動車株式会社
蓄電装置
20日前
ローム株式会社
半導体装置
2日前
ローム株式会社
半導体装置
10日前
ローム株式会社
半導体装置
17日前
愛知電機株式会社
負荷時タップ切換装置
17日前
三菱自動車工業株式会社
放熱構造
22日前
日新イオン機器株式会社
イオン注入装置
22日前
日本航空電子工業株式会社
コネクタ
1日前
株式会社タカトリ
ウエハの研削装置
15日前
三菱マテリアル株式会社
充電プラグ
14日前
大阪瓦斯株式会社
燃料電池システム
16日前
日新イオン機器株式会社
気化器、イオン源
7日前
トヨタ自動車株式会社
電池管理装置
10日前
三菱電機株式会社
半導体装置
2日前
TDK株式会社
電子部品
3日前
続きを見る
他の特許を見る