TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025129558
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-05
出願番号2024026268
出願日2024-02-26
発明の名称寸法計測管理システム及び寸法計測管理方法
出願人株式会社日立製作所
代理人ポレール弁理士法人
主分類G01B 21/04 20060101AFI20250829BHJP(測定;試験)
要約【課題】本発明の目的は、寸法計測の経済性向上が可能な寸法計測管理システム及び寸法計測管理方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の寸法計測管理システムは、対象部材の設計情報から寸法の計測対象となる形状情報を抽出する情報抽出部と、抽出された形状情報から計測座標を算出する計測座標算出部と、前記計測座標算出部で算出された前記計測座標と寸法計測機器の性能情報に基づき、模擬計測データを作成する模擬計測データ生成部と、前記模擬計測データ生成部で生成された模擬計測データを処理して計測誤差を算出する計測誤差算出部と、前記計測誤差と計測座標の公差とを比較する計測判断部とを有することを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
対象部材の設計情報から寸法の計測対象となる形状情報を抽出する情報抽出部と、
前記情報抽出部で抽出された前記形状情報から計測座標を算出する計測座標算出部と、
前記計測座標算出部で算出された前記計測座標と寸法計測機器の性能情報に基づき、模擬計測データを作成する模擬計測データ生成部と、
前記模擬計測データ生成部で生成された前記模擬計測データを処理して計測誤差を算出する計測誤差算出部と、前記計測誤差算出部で算出された前記計測誤差と前記計測座標算出部で算出された前記計測座標の公差とを比較する計測判断部とを有することを特徴とする寸法計測管理システム。
続きを表示(約 1,000 文字)【請求項2】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記寸法計測機器の性能情報を格納し、前記模擬計測データ生成部に前記寸法計測機器の性能情報を送信可能な計測機器データベースを備えたことを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項3】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記寸法計測機器の性能情報は、計測不確かさ情報又は計測誤差情報を含むことを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項4】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記形状情報は、前記対象部材の計測対象となる輪郭又は表面であることを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項5】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記計測判断部は、前記計測誤差と前記計測座標の公差とを比較し、測定可否又は測定点数を判断することを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項6】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記模擬計測データ生成部での模擬計測データの生成を複数回行うことを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項7】
請求項1に記載の寸法計測管理システムにおいて、
前記計測誤差算出部では、計測機器の計測不確かさ又は前記計測誤差を所定範囲として
その範囲内に乱数を加え、模擬計測データを生成することを特徴とする寸法計測管理システム。
【請求項8】
対象部材の設計情報から寸法の計測対象となる形状情報を抽出し、
抽出された前記形状情報から計測座標を算出し、
算出された前記計測座標と寸法計測機器の性能情報に基づき、模擬計測データを作成し、
生成された前記模擬計測データを処理して計測誤差を算出し、前記計測誤差と前記計測座標の公差とを比較することを特徴とする寸法計測管理方法。
【請求項9】
請求項8に記載の寸法計測管理方法において、
前記計測誤差と前記計測座標の公差とを比較し、測定可否又は測定点数を判断することを特徴とする寸法計測管理方法。
【請求項10】
請求項8に記載の寸法計測管理方法において、
前記模擬計測データの生成を複数回行うことを特徴とする寸法計測管理方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、寸法計測管理システム及び寸法計測管理方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
ものづくりでは幾何公差管理が一般化している。幾何形状の計測精度は、計測器の精度ではなく、取得したデータを処理した結果で決まるため、何点で計測するかが重要となる。また、計測器の普及で大量のデータを取得することが容易になった一方で、必要以上のデータ取得により計測時間、データ処理時間、データ保管容量が増加する傾向にある。
【0003】
これは、結果として計測コストの増加につながる。そのため、要求精度に見合った手法、点数で合理的に計測することが重要となる。
【0004】
特許文献1には、ワーク計測装置として、ワークの画像を表示する表示部と、ワークの画像に対する計測対象の指定を受け付け、指定された計測対象に対応する計測対象構造を検出する計測対象取得部と、ワークの画像に対する計測項目の指定を受け付ける計測項目設定部と、計測対象構造に対して、計測項目設定部によって指定された計測項目に対応する計測点及びアプローチ点と、計測点及びアプローチ点を含む計測経路とが設定された計測プログラムを生成する計測プログラム生成部とを備える技術が開示されている。
【0005】
特許文献2には、シミュレーション装置として、形状計測対象を撮像するカメラと、前記カメラにより取得された画像から前記形状計測対象の特徴点を抽出する第1抽出部と、計算機上において、前記形状計測対象に対応する仮想対象と前記カメラに対応する仮想カメラとを生成する生成部と、前記仮想カメラにより取得された仮想画像から前記仮想対象の特徴点を抽出する第2抽出部と、前記第1抽出部が抽出した第1特徴点と前記第2抽出部が抽出した第2特徴点との差異に基づいて、前記生成部が前記仮想対象を生成するための数式パラメータを修正する修正部と、を備える技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2020-017111号公報
特開2018-077168号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献1は、映し出された画像で、計測対象を抽出、計測項目の提示、提示された項目の中から必要な項目を選択するという技術であり、計測可否については考慮されていない。
【0008】
特許文献2は、予め計測対象の形状(仮想形状)を用意しておき、映し出された画像から対象の特徴点を抽出して、カメラの撮像方向を類推し、予め用意しておいた仮想形状を補正し、補正後の仮想形状と計測結果を比較して測定するという技術であり、計測可否については考慮されていない。
【0009】
ものづくりの上流の設計段階で寸法の計測可否を判断し、計測困難な部位があれば、設計段階で再検討・対策し、下流の製造・品証段階での手戻り防止や追加検討などを回避し、工程遅延や計測コストの上振れを防止することが望まれる。
【0010】
本発明の目的は、寸法計測の経済性向上が可能な寸法計測管理システム及び寸法計測管理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

株式会社日立製作所
制御装置
8日前
株式会社日立製作所
レール把持装置
5日前
株式会社日立製作所
電動機制御装置
15日前
株式会社日立製作所
環境評価システム
10日前
株式会社日立製作所
航空機用の推進装置
15日前
株式会社日立製作所
沿岸環境監視システム
15日前
株式会社日立製作所
受診支援装置および方法
4日前
株式会社日立製作所
対話システムおよび対話方法
4日前
株式会社日立製作所
直動接点および巻線切替装置
3日前
株式会社日立製作所
搬送制御装置及び搬送制御方法
4日前
株式会社日立製作所
情報処理システム、情報処理方法
3日前
株式会社日立製作所
設計支援装置および設計支援方法
5日前
株式会社日立製作所
再エネ調達手段選定支援システム
3日前
株式会社日立製作所
情報抽出システム及び情報抽出方法
11日前
株式会社日立製作所
情報処理システム及び情報処理方法
8日前
株式会社日立製作所
情報処理システム及び情報処理方法
18日前
株式会社日立製作所
ワークフロー作成支援装置及び方法
4日前
株式会社日立製作所
水電解システム及び絶縁配管の保守方法
9日前
株式会社日立製作所
管理装置、管理方法、及び制御システム
8日前
株式会社日立製作所
サービス提供方法調整システムおよび方法
17日前
株式会社日立製作所
水素製造計画装置および水素製造システム
3日前
株式会社日立製作所
物流網計画システムおよび物流網計画方法
11日前
株式会社日立製作所
寸法計測管理システム及び寸法計測管理方法
1日前
株式会社日立製作所
欠損データ補完装置及び欠損データ補完方法
9日前
株式会社日立製作所
プロトコル分析装置及びプロトコル分析方法
12日前
株式会社日立製作所
ガイドレール取り付け方法及び接続クランプ
17日前
株式会社日立製作所
計算機システム及びパラメータ探索支援方法
18日前
株式会社日立製作所
電力系統安定化装置および電力系統安定化方法
16日前
株式会社日立製作所
電力系統安定化装置および電力系統安定化方法
16日前
株式会社日立製作所
根本原因分析システム、方法およびプログラム
3日前
株式会社日立製作所
健康施策支援システム、方法、およびプログラム
4日前
株式会社日立製作所
管理システム、管理方法、および管理プログラム
15日前
株式会社日立製作所
ワークロード制御装置及びワークロード制御方法
12日前
株式会社日立製作所
環境負荷軽減支援装置、及び環境負荷軽減支援方法
22日前
株式会社日立製作所
計算機システム及びITシステムの障害調査支援方法
5日前
株式会社日立製作所
計算機システム及びクラス分類の結果の修正支援方法
12日前
続きを見る