TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025128759
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-03
出願番号
2024025654
出願日
2024-02-22
発明の名称
半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法、並びに、半導体装置の検証方法
出願人
リンテック株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H01L
21/683 20060101AFI20250827BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】新たな検証後術で半導体装置の検証を行うことができる半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法、並びに、半導体装置の検証方法を提供すること。
【解決手段】充填剤FLを含有する被覆材ASを半導体本体WFに貼付して半導体装置SDを形成する貼付手段10と、半導体装置SDにおける被覆材ASを撮像して第1画像PT1を形成する第1画像形成手段30とを備え、第1画像形成手段30は、被覆材ASが含有する充填剤FLによって当該被覆材ASに現れる固有の特徴を捉えて第1画像PT1を形成する第1画像形成機器31と、半導体装置SDの検証を行う検証装置50に当該第1画像PT1を出力する画像出力機器32とを備えている。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
充填剤を含有する被覆材を半導体本体に貼付して半導体装置を形成する貼付手段と、
前記半導体装置における前記被覆材を撮像して第1画像を形成する第1画像形成手段とを備え、
前記第1画像形成手段は、前記被覆材が含有する前記充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて前記第1画像を形成する第1画像形成機器と、前記半導体装置の検証を行う検証装置に当該第1画像を出力する画像出力機器とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造装置。
続きを表示(約 870 文字)
【請求項2】
前記検証装置は、前記被覆材を撮像し、当該被覆材が含有する前記充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて第2画像を形成する第2画像形成機器と、前記画像出力機器が出力した前記第1画像を入力し、当該第1画像と前記第2画像とを比較して前記半導体装置の検証を行う検証機器とを備えていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
【請求項3】
前記第2画像形成機器は、前記第1画像形成機器と同種のもので構成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造装置。
【請求項4】
充填剤を含有する被覆材を半導体本体に貼付して半導体装置を形成する貼付工程と、
前記半導体装置における前記被覆材を撮像して第1画像を形成する第1画像形成工程とを実施し、
前記第1画像形成工程では、前記被覆材が含有する前記充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて前記第1画像を形成する第1画像形成工程と、前記半導体装置の検証を行う検証装置に当該第1画像を出力する画像出力工程とを実施することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項5】
充填剤を含有する被覆材が半導体本体に貼付された半導体装置における当該被覆材を撮像して第1画像を形成する第1画像形成工程と、
前記第1画像形成工程の後、前記半導体装置における前記被覆材を再度撮像して第2画像を形成する第2画像形成工程と、
前記第1画像と前記第2画像とを比較して前記半導体装置の検証を行う検証工程とを実施する半導体装置の検証方法において、
前記第1画像形成工程および第2画像形成工程では、前記被覆材が含有する前記充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて第1画像および第2画像を形成し、
前記検証工程では、前記第1画像における前記固有の特徴と、前記第2画像における前記固有の特徴とを比較して前記半導体装置の検証を行うことを特徴とする半導体装置の検証方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法、並びに、半導体装置の検証方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体装置を製造する半導体装置の製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2007-242973号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に記載された製造方法で製造された半導体装置100(半導体装置)では、封止樹脂120のまだら模様を撮像して当該半導体装置の検証を行う検証技術が開示されているが、近年ではこのレベルの検証技術は陳腐化されており、新たな検証技術が求められている。
【0005】
本発明の目的は、新たな検証技術で半導体装置の検証を行うことができる半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法、並びに、半導体装置の検証方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、請求項に記載した構成を採用した。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、被覆材が含有する充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて第1画像を形成し、半導体装置の検証を行う検証装置に当該第1画像を出力するので、新たな検証技術で半導体装置の検証を行うことができる。
また、本発明によれば、被覆材が含有する充填剤によって当該被覆材に現れる固有の特徴を捉えて第1画像および第2画像を形成し、第1画像における固有の特徴と、第2画像における固有の特徴とを比較して半導体装置の検証を行うので、新たな検証技術で半導体装置の検証を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
(A)~(F)は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造装置の説明図および同装置の動作説明図。(G)は、変形例の説明図。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態におけるX軸、Y軸、Z軸は、それぞれが直交する関係にあり、X軸およびY軸は、所定平面内の軸とし、Z軸は、前記所定平面に直交する軸とする。さらに、本実施形態では、Y軸と平行な図1(A)中手前方向から観た場合を基準とし、図を指定することなく方向を示した場合、「上」がZ軸の矢印方向で「下」がその逆方向、「左」がX軸の矢印方向で「右」がその逆方向、「前」がY軸と平行な図1(A)中手前方向で「後」がその逆方向とする。
【0010】
本発明の半導体装置の製造装置(以下単に「製造装置」ともいう)EAは、シリカや酸化チタン等の充填剤FL(図1(B)参照)を含有する被覆材としての接着シートASを半導体本体としての半導体ウエハ(以下単に「ウエハ」ともいう)WFに貼付して半導体装置SD(図1(F)参照)を形成する貼付工程を実施する貼付手段10と、接着シートASに所定のエネルギーとしての熱HAを付与するエネルギー付与工程を実施するエネルギー付与手段20と、半導体装置SDにおける接着シートASを撮像して第1画像PT1(図1(C)参照)を形成する第1画像形成工程を実施する第1画像形成手段30とを備え、ウエハWFを搬送する移動工程を実施する移動手段40の近傍に配置されている。
なお、本実施形態の接着シートASは、エポキシ系の材料、アクリル系の材料、アミン類の材料等をバインダとして充填剤FLを含有し、さらに、熱HAの付与によって当該熱HA特有の変化としての硬化を起こすものとなっている。
また、本実施形態の充填剤FLは、最大幅が10nm(ナノメートル)~1μm(マイクロメートル)の大きさのものが採用され、配合量が接着シートAS全体の重量に対する0.01%~1%の重量割合となっている。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
リンテック株式会社
電磁波吸収部材
7日前
リンテック株式会社
電磁波吸収部材
7日前
リンテック株式会社
電磁波吸収部材
7日前
リンテック株式会社
空中像形成装置および積層体
1日前
リンテック株式会社
ガスバリアフィルム、太陽電池装置、及び窓部材
今日
リンテック株式会社
保護膜形成用複合シート及び半導体装置の製造方法
今日
リンテック株式会社
保護膜形成用複合シート及び半導体装置の製造方法
今日
リンテック株式会社
粘接着剤層付きガスバリアフィルム及び光電変換装置
5日前
エスアイアイ・プリンテック株式会社
液体噴射ヘッド及び液体噴射記録装置
5日前
エスアイアイ・プリンテック株式会社
液体噴射ヘッド及び液体噴射記録装置
5日前
リンテック株式会社
半透光性ガスバリアフィルム、光透過型太陽電池モジュール、及び光透過型表示装置
今日
リンテック株式会社
半導体装置の処理装置および半導体装置の処理方法、並びに、半導体装置の照合方法
7日前
リンテック株式会社
半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法、並びに、半導体装置の検証方法
7日前
エスアイアイ・プリンテック株式会社
ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法
5日前
エスアイアイ・プリンテック株式会社
ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法
5日前
個人
雄端子
29日前
個人
後付地震遮断機
1か月前
個人
安全なNAS電池
5日前
個人
超精密位置決め機構
1か月前
愛知電機株式会社
電力機器
26日前
東レ株式会社
積層多孔質膜
1か月前
日機装株式会社
加圧装置
21日前
CKD株式会社
巻回装置
1か月前
ヒロセ電機株式会社
端子
26日前
東レ株式会社
多孔質炭素シート
今日
個人
フリー型プラグ安全カバー
12日前
キヤノン株式会社
電子機器
今日
ローム株式会社
半導体装置
21日前
ローム株式会社
半導体装置
今日
エイブリック株式会社
半導体装置
2日前
エイブリック株式会社
半導体装置
2日前
沖電気工業株式会社
アンテナ
12日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
1か月前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
16日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
8日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
16日前
続きを見る
他の特許を見る