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公開番号2025112331
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-01
出願番号2024006477
出願日2024-01-19
発明の名称銅めっき液のレベラー濃度測定方法
出願人住友金属鉱山株式会社
代理人弁理士法人山内特許事務所
主分類G01N 27/48 20060101AFI20250725BHJP(測定;試験)
要約【課題】濃度が低くてもレベラー濃度を測定できる方法を提供する。
【解決手段】測定方法は、レベラー濃度が既知の校正液のArを測定してレベラー濃度とArとの関係を示す検量線を作成する検量線作成工程と、レベラーを含む標準液および測定対象液を含む第1測定液のArを測定して検量線から第1測定液のレベラー濃度ρ₁を求める第1測定工程と、標準液を含む第2測定液のArを測定して検量線から第2測定液のレベラー濃度ρ₂を求める第2測定工程と、第1測定液のレベラー濃度ρ₁および第2測定液のレベラー濃度ρ₂に基づき測定対象液のレベラー濃度を求める算定工程とを有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
ＣＶＳ法により銅めっき液のレベラー濃度を測定する方法であって、
レベラー濃度が既知の校正液のＡｒを測定して、レベラー濃度とＡｒとの関係を示す検量線を作成する検量線作成工程と、
レベラーを含む標準液および測定対象液を含む第１測定液のＡｒを測定して、前記検量線から前記第１測定液のレベラー濃度を求める第１測定工程と、
前記標準液を含む第２測定液のＡｒを測定して、前記検量線から前記第２測定液のレベラー濃度を求める第２測定工程と、
前記第１測定液のレベラー濃度および前記第２測定液のレベラー濃度に基づき、前記測定対象液のレベラー濃度を求める算定工程と、を備える
ことを特徴とする銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
続きを表示（約 400 文字）【請求項２】
前記第１測定液および前記第２測定液の鉄III濃度を同一の濃度管理値に調整する鉄濃度調整工程を備える
ことを特徴とする請求項１記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項３】
前記鉄濃度調整工程において、前記第１測定液および前記第２測定液の鉄III濃度の差を０．０５ｇ／Ｌ以下とする
ことを特徴とする請求項２記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項４】
前記第１測定工程および前記第２測定工程において、前記第１測定液および前記第２測定液の温度を同一の温度管理値に調整する
ことを特徴とする請求項１記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項５】
前記第１測定液および前記第２測定液の温度差を０．２℃以下とする
ことを特徴とする請求項４記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、銅めっき液のレベラー濃度測定方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、銅張積層板製造時の電解めっきなどに用いられる銅めっき液のレベラー濃度を測定する方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話などの電子機器には、樹脂フィルムの表面に配線パターンが形成されたフレキシブルプリント配線板が用いられる。フレキシブルプリント配線板は樹脂フィルムに銅泊を積層した銅張積層板から製造される。
【０００３】
銅張積層板の製造方法としてメタライジング法が知られている。メタライジング法による銅張積層板の製造は、例えば、つぎの手順で行われる。まず、真空成膜法により樹脂フィルムの表面に下地金属層および銅薄膜層を成膜する。つぎに、電解めっき法により銅薄膜層の上に銅めっき被膜を成膜する。電解めっきにより、配線パターンを形成するのに適した膜厚となるまで導体層を厚膜化する。メタライジング法により、樹脂フィルム上に直接導体層が成膜された、いわゆる２層基板と称されるタイプの銅張積層板が得られる。
【０００４】
電解めっきに用いられる銅めっき液には、一般に、レベラー、ブライトナー、およびポリマーなどの添加剤が添加される。レベラーは突起を抑制し銅めっき被膜を平坦にする成分である。ブライトナーは析出結晶を微細化して銅めっき被膜の表面を平滑にする成分である。ポリマーは基材端部への電流集中を緩和し銅めっき被膜の厚さを均一にする成分である。
【０００５】
銅張積層板の品質の維持および管理には、銅めっき液に含まれるこれら添加剤の濃度管理が重要である。銅めっき液に含まれる添加剤の濃度を測定する方法としてＣＶＳ（Cyclic Voltammetric Stripping）法が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２００６－３１７１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、銅めっき液のレベラー濃度が低いとＣＶＳ法では測定できないことがある。例えば、ＣＶＳ分析装置によっては、レベラー濃度の分析下限値が２．０ｍＬ／Ｌとされており、それ以下の低濃度領域の分析が不可能である。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑み、濃度が低くてもレベラー濃度を測定できる銅めっき液のレベラー濃度測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
第１態様の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、ＣＶＳ法により銅めっき液のレベラー濃度を測定する方法であって、レベラー濃度が既知の校正液のＡｒを測定して、レベラー濃度とＡｒとの関係を示す検量線を作成する検量線作成工程と、レベラーを含む標準液および測定対象液を含む第１測定液のＡｒを測定して、前記検量線から前記第１測定液のレベラー濃度を求める第１測定工程と、前記標準液を含む第２測定液のＡｒを測定して、前記検量線から前記第２測定液のレベラー濃度を求める第２測定工程と、前記第１測定液のレベラー濃度および前記第２測定液のレベラー濃度に基づき、前記測定対象液のレベラー濃度を求める算定工程と、を備えることを特徴とする。
第２態様の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、第１態様において、前記第１測定液および前記第２測定液の鉄III濃度を同一の濃度管理値に調整する鉄濃度調整工程を備えることを特徴とする。
第３態様の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、第２態様において、前記鉄濃度調整工程において、前記第１測定液および前記第２測定液の鉄III濃度の差を０．０５ｇ／Ｌ以下とすることを特徴とする。
第４態様の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、第１態様において、前記第１測定工程および前記第２測定工程において、前記第１測定液および前記第２測定液の温度を同一の温度管理値に調整することを特徴とする。
第５態様の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、第４態様において、前記第１測定液および前記第２測定液の温度差を０．２℃以下とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
第１態様によれば、測定対象液に標準液を添加し、レベラー濃度を高くした状態でＡｒを測定するので、測定対象液のレベラー濃度が分析下限値を下回る場合であっても、測定対象液のレベラー濃度を測定できる。
第２態様によれば、第１測定液および第２測定液の鉄III濃度を一致させることで、鉄の電位の影響を小さくし、レベラー濃度を正確に測定できるとともに、測定値のばらつきを小さくできる。
第３態様によれば、レベラー濃度測定値のばらつきを±０．０３ｍＬ／Ｌ以下に抑えることができる。
第４態様によれば、第１測定液および第２測定液の温度を一致させることで、温度の影響を小さくし、レベラー濃度測定値のばらつきを小さくできる。
第５態様によれば、レベラー濃度測定値のばらつきを±０．０２ｍＬ／Ｌ以下に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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