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公開番号2025100204
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023217402
出願日2023-12-22
発明の名称レーザ加工装置、レーザ加工方法、記憶媒体
出願人住友重機械工業株式会社
代理人個人,個人
主分類B23K 26/08 20140101AFI20250626BHJP(工作機械;他に分類されない金属加工)
要約【課題】適切な量のレーザ光を加工対象物に照射できるレーザ加工装置等を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置1は、y方向に沿った反復走査範囲R内での反復的なレーザ光Lのy走査と、当該y方向に交差するx方向に沿った当該レーザ光Lのx走査を組み合わせた走査を行うレーザ走査部17と、走査中にレーザ光Lをレーザ装置2に間欠的に出射させるレーザ制御部18と、を備える。x走査は、x方向に沿ったレーザ光Lの前進と後退を交互に繰り返し、各前進量は各後退量より多い。レーザ制御部18は、前進および後退がx方向において重複する範囲で、レーザ装置2にレーザ光Lの出射を一時的に停止させる。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第１方向に沿った反復走査範囲内での反復的なレーザ光の第１走査と、当該第１方向に交差する第２方向に沿った当該レーザ光の第２走査を組み合わせた走査を行うレーザ走査部と、
前記走査中に前記レーザ光をレーザ装置に間欠的に出射させるレーザ制御部と、
を備えるレーザ加工装置。
続きを表示（約 970 文字）【請求項２】
前記第２走査は、前記第２方向に沿った前記レーザ光の直進走査である、請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
前記第２走査は、前記第２方向に沿った前記レーザ光の前進と後退を交互に繰り返し、
前記各前進量は前記各後退量より多い、
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項４】
前記レーザ制御部は、前記前進および前記後退が前記第２方向において重複する範囲で、前記レーザ装置に前記レーザ光の出射を一時的に停止させる、請求項３に記載のレーザ加工装置。
【請求項５】
前記レーザ光の照射位置は、前記第２方向において連続的に並ぶ、請求項４に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
前記レーザ制御部は、前記レーザ装置に前記レーザ光の出射を行わせる所定の出射期間と、前記レーザ装置に前記レーザ光の出射を停止させる所定の停止期間を交互に繰り返し、
前記第２走査は、前記第２方向に沿って前記レーザ光を前進させる所定の前進期間と、前記第２方向に沿って前記レーザ光を後退させる所定の後退期間を交互に繰り返し、
前記前進期間および前記後退期間の和である進行周期は、前記出射期間および前記停止期間の和である間欠出射周期より短い、
請求項４に記載のレーザ加工装置。
【請求項７】
前記間欠出射周期は、前記進行周期の自然数倍である、請求項６に記載のレーザ加工装置。
【請求項８】
前記レーザ制御部は、前記レーザ装置に前記レーザ光の出射を行わせる所定の出射期間と、前記レーザ装置に前記レーザ光の出射を停止させる所定の停止期間を交互に繰り返し、
前記第１走査の反復周期は、前記出射期間および前記停止期間の和である間欠出射周期より短い、
請求項１から７のいずれかに記載のレーザ加工装置。
【請求項９】
前記間欠出射周期は、前記反復周期の自然数倍である、請求項８に記載のレーザ加工装置。
【請求項１０】
前記レーザ光の照射位置は、前記第１方向に沿った前記反復走査範囲内において連続的に並ぶ、請求項１から７のいずれかに記載のレーザ加工装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザ加工装置等に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、ファイバレーザ装置からのレーザ光によって直線状に溶接処理を施すレーザ溶接装置が開示されている。溶接ラインを横断するようにレーザ光を小刻みに往復振動させることで、当該溶接ラインを跨った確実な溶接を可能にする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１５－３００１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
以上のようなライン走査に往復振動を組み合わせた複合的なレーザ走査では、単純なライン走査と比較して、溶接対象物上へのレーザ光の照射量が多くなる。このため、溶接対象物によっては、溶融が過多になって適切な溶接を行えない恐れがある。
【０００５】
本開示はこうした状況に鑑みてなされたものであり、適切な量のレーザ光を加工対象物に照射できるレーザ加工装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本開示のある態様のレーザ加工装置は、第１方向に沿った反復走査範囲内での反復的なレーザ光の第１走査と、当該第１方向に交差する第２方向に沿った当該レーザ光の第２走査を組み合わせた走査を行うレーザ走査部と、走査中にレーザ光をレーザ装置に間欠的に出射させるレーザ制御部と、を備える。
【０００７】
本態様によれば、第１走査および第２走査を組み合わせた複合的なレーザ走査中にレーザ光が間欠的に出射されるため、加工対象物に過剰な量のレーザ光が照射されることを効果的に防止できる。
【０００８】
本開示の別の態様は、レーザ加工方法である。この方法は、第１方向に沿った反復走査範囲内での反復的なレーザ光の第１走査と、当該第１方向に交差する第２方向に沿った当該レーザ光の第２走査を組み合わせた走査を行うことと、走査中にレーザ光をレーザ装置に間欠的に出射させることと、を実行する。
【０００９】
本開示の更に別の態様は、記憶媒体である。この記憶媒体は、第１方向に沿った反復走査範囲内での反復的なレーザ光の第１走査と、当該第１方向に交差する第２方向に沿った当該レーザ光の第２走査を組み合わせた走査を行うことと、走査中にレーザ光をレーザ装置に間欠的に出射させることと、をコンピュータに実行させるレーザ加工プログラムを記憶している。
【００１０】
なお、以上の構成要素の任意の組合せや、これらの表現を方法、装置、システム、記録媒体、コンピュータプログラム等に変換したものも、本開示に包含される。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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