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公開番号2025091596
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-19
出願番号2023206914
出願日2023-12-07
発明の名称環境付与装置
出願人エスペックサーマルテックシステム株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B01L 1/00 20060101AFI20250612BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】供試体の作業がしやすく、環境状態の維持が良好な環境付与装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の一の態様の環境付与装置は、薬品などの物品の作業を所定環境下で行うための環境付与装置であり、作業を行う環境付与ボックスと、前記環境付与ボックスに空気を送り込む空調装置と、前記空調装置に外気を送り込む除湿機と、前記環境付与ボックスと前記空調装置とを接続する配管とを備え、前記環境付与ボックスは、天面が開放され、断熱層を構成する底壁及び周壁と、前記周壁の内側に、所定の間隔をあけて立設された側仕切板と、前記周壁と前記側仕切板との間の中間層と、前記側仕切板と前記底壁で囲まれた環境エリアとを有し、前記側仕切板の上端が、前記周壁の上端よりも低く構成されていることを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
供試体の作業を所定環境下で行うための環境付与装置であり、
作業を行う環境付与ボックスと、
前記環境付与ボックスに空気を送り込む空調装置と、
前記空調装置に外気を送り込む除湿機と、
前記環境付与ボックスと前記空調装置とを接続する配管とを、備え、
前記環境付与ボックスは、
天面が開放され、断熱層を構成する底壁及び周壁と、
前記周壁の内側に、所定の間隔をあけて立設された側仕切板と、
前記周壁と前記側仕切板との間の中間層と、
前記側仕切板と前記底壁で囲まれた環境エリアと、を有し、
前記側仕切板の上端が、前記周壁の上端よりも低く構成されていることを特徴とする、
環境付与装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記環境付与ボックスは、
前記環境エリアに存する前記底壁に、
空気が流入される供給孔が形成されていることを特徴とする、
請求項１記載の環境付与装置。
【請求項３】
前記環境付与ボックスは、
前記中間層の前記底壁又は前記側壁に、
空気が排出される排気孔が形成されていることを特徴とする、
請求項２記載の環境付与装置。
【請求項４】
前記環境付与ボックスは、
前記中間層及び前記環境エリアにおいて、
前記供給孔及び前記排気孔よりも上方に、
複数の孔が形成された多孔板が配されていることを特徴とする、
請求項３記載の環境付与装置。
【請求項５】
前記環境付与ボックスは、
前記環境エリアにおいて、
前記供給孔よりも上方に、
複数の孔が形成された多孔板が配されていることを特徴とする、
請求項１記載の環境付与装置。
【請求項６】
前記環境付与ボックスの前記周壁の上部にヒータが配されている、
請求項１乃至５のいずれか１項記載の環境付与装置。
【請求項７】
前記供給孔より流入される空気によって、
前記環境エリアに空気が充満された後、
前記側仕切の上端を超えて、前記中間層に空気が充満され、
前記環境付与ボックスの開放された天面より、空気がオーバーフローすることを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれか１項記載の環境付与装置。
【請求項８】
前記除湿機を介して前記空調装置に外気よりも低い低露点の空気が流入され、
前記低露点の空気が前記環境付与ボックスに供給され、
前記低露点の空気が充満された前記環境エリアが陽圧に保持されることを特徴とする、
請求項１乃至５に記載の環境付与装置。
【請求項９】
前記環境付与ボックスの前記環境エリアの温度を０℃以下に保持することを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれか１項記載の環境付与装置。
【請求項１０】
前記環境付与ボックスにおいて、
前記環境エリアの温度が、前記中間層のエリアの温度よりも低いことを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれか１項記載の環境付与装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、環境付与装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
薬品や試料など供試体の充填や梱包などの作業を行う際、供試体の種類によっては、常温などの自然環境下で行うと、不具合があるものがある。そのような場合、温度条件など一定環境を付与する環境付与装置が用いられる。この環境付与装置には、ドライルームやクリーンルームなど部屋全体を一定環境下に保つルームタイプのものや、ドライブースやクリーンブースなど作業者が手を入れて作業可能なスペースを確保したブースタイプのものなどが存在する。
【０００３】
ルームタイプのものは大きいため、ルームをつくれない場合は、小型のブースタイプのものが用いられる。ブースタイプには、ブース内で作業するためのグローブが壁面に設けられていて、外からグローブに手を入れて、グローブ越しにブース内での作業が可能になっているものなどがある。
【０００４】
一方、昨今では、半導体の試料など、温度条件や取り扱いがシビアなものもあるため、試料に付与する温度の精度を上げた環境付与装置の温度制御装置が提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００３－１７７８２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の特許文献１は、温度制御により温度の精度を上げることが可能であるが、もう１つの課題である、取り扱いがシビアなものに対する課題が残る。すなわち、従来の環境付与装置では、壁面のグローブに手を入れてガラス越しに行う作業はしづらいという課題がある。
【０００７】
また、現在の環境試験器などに代表される環境付与装置は、全周を断熱層で囲うことで外乱の影響を排除した内部空間に、空調装置により制御された空調空気を送り込むことで安定した人工環境を生成する方式が採用されているものがある。この場合、供試体を人工環境エリアに出し入れするために、少なくとも１面が開閉可能な扉を有する。
しかし、扉の開閉により内部の環境状態は当然乱れるし、開閉作業そのものが煩わしい場面も多々存在する。
このような現状から、この種の環境付与装置においては、供試体へのアクセスが良好で、かつ、環境状態の維持が良好な環境付与装置への要望がある。また、環境試験器のみならず、環境因子を調整することでワークを製造する場合などにおいても同様の要望がある。
【０００８】
そこで、本発明は、従来の環境付与装置における上記課題を解決し、供試体の作業がしやすく、環境状態の維持が良好な環境付与装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一の態様の環境付与装置は、薬品などの物品の作業を所定環境下で行うための環境付与装置であり、作業を行う環境付与ボックスと、前記環境付与ボックスに空気を送り込む空調装置と、前記空調装置に外気を送り込む除湿機と、前記環境付与ボックスと前記空調装置とを接続する配管とを備え、前記環境付与ボックスは、天面が開放され、断熱層を構成する底壁及び周壁と、前記周壁の内側に、所定の間隔をあけて立設された側仕切板と、前記周壁と前記側仕切板との間の中間層と、前記側仕切板と前記底壁で囲まれた環境エリアとを有し、前記側仕切板の上端が、前記周壁の上端よりも低く構成されていることを特徴とする。
【００１０】
この構成によれば、作業を行う環境エリアの天面が開放されていることで、作業者は開放されている天面から手を入れて、薬品や試料などの供試体に直接アクセスして作業できるので作業効率がよい。そして、側仕切板が周壁の内側に所定の間隔をあけて立設され、かつ、側仕切板の高さが周壁よりも低く設定されているので、環境付与ボックス内に充満された空気によって、環境エリアとその周囲及び上方に、外気との緩衝エリアとなる中間層が形成されることで（図３参照）、環境エリア内の温度等の環境状態を精度良く維持することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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