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公開番号2025044602
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-02
出願番号2023152284
出願日2023-09-20
発明の名称光触媒モジュールの製造方法及び製造装置
出願人東芝ライテック株式会社
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
主分類B01J 35/39 20240101AFI20250326BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】基材において、光触媒の塗布ムラの発生を抑制可能な光触媒モジュールの製造方法を提供すること。
【解決手段】実施形態の光触媒モジュールの製造方法によれば、複数の貫通孔のそれぞれが一対の主面の間を貫通する基材に、光触媒を塗布する。製造方法では、光触媒が塗布された基材に、一対の主面の一方が向く側から気体を流入させ、基材において流入させた気体を複数の貫通孔を通して流す。
【選択図】図4

特許請求の範囲【請求項１】
複数の貫通孔のそれぞれが一対の主面の間を貫通する基材に、光触媒を塗布することと；
前記光触媒が塗布された前記基材に、前記一対の主面の一方が向く側から気体を流入させ、前記基材において流入させた前記気体を前記複数の貫通孔を通して流すことと；
を具備する、光触媒モジュールの製造方法。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
回転軸を中心として前記基材を公転させることにより、前記光触媒が塗布された前記基材に前記気体である空気を流入させ、前記複数の貫通孔を通して前記空気を流す、請求項１の製造方法。
【請求項３】
前記回転軸を中心とする公転において、前記公転での回転方向を前記一対の主面の一方が向く姿勢で、前記光触媒が塗布された前記基材を公転させる、請求項２の製造方法。
【請求項４】
前記回転軸を中心する公転において、５００ｒｐｍ以上かつ２０００ｒｐｍ以下の範囲のいずれかの回転数で、前記光触媒が塗布された前記基材を公転させる、請求項２又は３の製造方法。
【請求項５】
複数の貫通孔のそれぞれが一対の主面の間を貫通する基材に、光触媒を塗布する光触媒塗布部と；
前記光触媒が塗布された前記基材に、前記一対の主面の一方が向く側から気体を流入させ、前記基材において流入させた前記気体を前記複数の貫通孔を通して流す気流形成部と；
を具備する、光触媒モジュールの製造装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、光触媒モジュールの製造方法及び製造装置に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
光触媒モジュールを用いて、空気の除菌及び脱臭等の空気処理が行われている。光触媒モジュールを用いた空気処理では、光触媒モジュールを通して空気が流れている状態において、紫外光又は可視光等の光を光触媒モジュールに照射する。これにより、光触媒モジュールにおいて、活性酸素及びＯＨラジカル等の生成物が生成され、光触媒モジュールでの生成物を用いて、光触媒モジュールを通って流れる空気が、除菌及び脱臭等される。
【０００３】
前述のような空気処理に用いられる光触媒モジュールの製造においては、一対の主面を有する基材に、一対の主面の間をそれぞれが貫通する複数の貫通孔を形成する。光触媒を用いた空気処理では、光触媒モジュールを通って流れる空気は、複数の貫通孔のいずれかを通過する。そして、光触媒モジュールの製造では、複数の貫通孔が形成された基材に、光触媒を塗布する。そして、光触媒が塗布された基材を焼成する等して、光触媒モジュールが形成される。
【０００４】
前述のようにして光触媒モジュールを製造する場合、基材において、光触媒の塗布ムラの発生を抑制することが、求められている。すなわち、基材において、光触媒の塗布度合いを均一化することが、求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第６１４４３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、基材において、光触媒の塗布ムラの発生を抑制可能な光触媒モジュールの製造方法及び製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態の光触媒モジュールの製造方法によれば、複数の貫通孔のそれぞれが一対の主面の間を貫通する基材に、光触媒を塗布する。製造方法では、光触媒が塗布された基材に、一対の主面の一方が向く側から気体を流入させ、基材において流入させた気体を複数の貫通孔を通して流す。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基材において、光触媒の塗布ムラの発生を抑制可能な光触媒モジュールの製造方法及び製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、実施形態において製造される光触媒モジュールの一例を示す斜視図である。
図２は、実施形態において光触媒モジュールを製造する製造装置の一例を概略的に示すブロック図である。
図３は、実施形態での光触媒モジュールの製造において、気流形成部による処理が行われている状態の一例を示す斜視図である。
図４は、実施形態において、光触媒モジュールの製造過程での処理の一例を概略的に示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
実施形態の光触媒モジュール（１）の製造方法では、複数の貫通孔（７）のそれぞれが一対の主面（５，６）の間を貫通する基材（２）に、光触媒を塗布する。製造方法では、光触媒が塗布された基材（２）に、一対の主面（５，６）の一方が向く側から気体を流入させ、基材（２）において流入させた気体を複数の貫通孔（７）を通して流す。これにより、基材（２）において、光触媒の塗布ムラの発生が抑制され、光触媒の塗布度合いが均一化される。
（【００１１】以降は省略されています）

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