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公開番号
2025045892
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-02
出願番号
2023153924
出願日
2023-09-20
発明の名称
排ガス除害システム
出願人
大陽日酸株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
B01D
53/46 20060101AFI20250326BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】半導体製造装置の運転を停止することなくガス漏洩検査を実施可能な排ガス除害システムを提供する。
【解決手段】本発明に係る排ガス除害システムは、半導体製造装置から排出される排気ガスが流れる排気ラインと、前記排気ラインに設けられ、前記排気ガスを除害可能な排ガス処理装置と、前記排気ラインから分岐する漏洩検査ラインと、前記漏洩検査ラインに設けられ、前記排気ラインから前記漏洩検査ラインに流れるサンプリングガスの水分濃度を測定可能な水分計と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
半導体製造装置から排出される排気ガスが流れる排気ラインと、
前記排気ラインに設けられ、前記排気ガスを除害可能な排ガス処理装置と、
前記排気ラインから分岐する漏洩検査ラインと、
前記漏洩検査ラインに設けられ、前記排気ラインから前記漏洩検査ラインに流れるサンプリングガスの水分濃度を測定可能な水分計と、を備える、排ガス除害システム。
続きを表示(約 320 文字)
【請求項2】
前記水分計は、金属有機構造体を含む感湿部を備える、請求項1に記載の排ガス除害システム。
【請求項3】
前記漏洩検査ラインは、前記排気ラインに前記排気ガスとして不活性ガスが流れている場合に、前記排気ラインから前記サンプリングガスを導入可能に構成されている、請求項1又は2に記載の排ガス除害システム。
【請求項4】
前記排気ラインのうち前記漏洩検査ラインより上流側に設けられている真空ポンプと、
前記真空ポンプに供給され前記真空ポンプを通じて前記排気ラインに流される不活性ガスを、前記真空ポンプに供給される前に精製可能な精製部と、を備える、請求項3に記載の排ガス除害システム。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は排ガス除害システムに関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体製造プロセスでは、爆発性を有するシラン系ガス(例えば、SiH
4
やSiH
2
Cl
2
)、毒性を有するリン系ガス(例えば、PH
3
)、ヒ素系ガス(例えば、AsH
3
)、ホウ素系ガス(例えば、B
2
H
6
)などが使用されている。半導体製造装置から排出される排気ガスには、これらの特殊ガスが有害成分として含まれている。そのため、半導体製造装置の排気ガスは、排気ラインを通じて排ガス除害装置に送られて分解処理される(特許文献1及び2)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2010-023000号公報
特開2007-029790号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
半導体製造装置の排気ラインにおいては、回転機等の振動による継手の緩み、排気ガスの腐食性によるシール材の劣化などにより時間経過とともに、ガス漏洩リスクは高まっていく。そこで、設備の安全な運用を継続するために定期的なガス漏洩検査が必要となる。
【0005】
従来、定期的なガス漏洩検査を実施する場合、半導体製造装置の後段に設置されているアイソレーションバルブを閉じて、ガス吸引のために排気ラインに設けられる真空ポンプを停止するといった、半導体製造装置の運転を停止する操作が必要であった。
【0006】
本発明は、半導体製造装置の運転を停止することなくガス漏洩検査を実施可能な排ガス除害システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の第1の態様としての排ガス除害システムは、
(1)
半導体製造装置から排出される排気ガスが流れる排気ラインと、
前記排気ラインに設けられ、前記排気ガスを除害可能な排ガス処理装置と、
前記排気ラインから分岐する漏洩検査ラインと、
前記漏洩検査ラインに設けられ、前記排気ラインから前記漏洩検査ラインに流れるサンプリングガスの水分濃度を測定可能な水分計と、を備える、排ガス除害システム、である。
【0008】
本発明の1つの実施形態としての排ガス除害システムは、
(2)
前記水分計は、金属有機構造体を含む感湿部を備える、上記(1)に記載の排ガス除害システム、である。
【0009】
本発明の1つの実施形態としての排ガス除害システムは、
(3)
前記漏洩検査ラインは、前記排気ラインに前記排気ガスとして不活性ガスが流れている場合に、前記排気ラインから前記サンプリングガスを導入可能に構成されている、上記(1)又は(2)に記載の排ガス除害システム、である。
【0010】
本発明の1つの実施形態としての排ガス除害システムは、
(4)
前記排気ラインのうち前記漏洩検査ラインより上流側に設けられている真空ポンプと、
前記真空ポンプに供給され前記真空ポンプを通じて前記排気ラインに流される不活性ガスを、前記真空ポンプに供給される前に精製可能な精製部と、を備える、上記(3)に記載の排ガス除害システム、である。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
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