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公開番号
2025016682
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-04
出願番号
2024193036,2024100595
出願日
2024-11-01,2022-09-01
発明の名称
リードフレーム及びその製造方法
出願人
大日本印刷株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H01L
23/50 20060101AFI20250128BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】ダイパッド部やリード部と封止部の密着強度を高めるリードフレーム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】リードフレーム(100)は、複数のリード部(110)を備え、リード部(110)の上面の少なくとも一部及びリード部(110)の側壁面は、粗化された粗面であり、粗面のCIELab色空間のうちのa
*
値が12~19の範囲であり、b
*
値が12~17の範囲である。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
リードフレームであって、
半導体素子が搭載されるダイパッドと、
前記ダイパッドの周囲に位置するリード部と、を備え、
前記リード部は、裏面側から薄肉化されたインナーリードを有し、
前記インナーリードの表面側にインナーリード表面が形成され、前記インナーリードの裏面側にインナーリード裏面が形成され、前記インナーリードのうち前記ダイパッドを向く面にはインナーリード先端面が形成され、
前記リード部の裏面のうち薄肉化されていない部分には、外部端子が形成され、
前記インナーリード表面の少なくとも一部と、前記インナーリード裏面と、前記インナーリード先端面とは、粗面となっており、
前記外部端子が平滑面となっており、
前記粗面は、前記リードフレームを構成する金属材料からなる面である、リードフレーム。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、リードフレーム及びその製造方法に関する。
続きを表示(約 1,100 文字)
【背景技術】
【0002】
近年、基板に実装される半導体装置の小型化及び薄型化が要求されてきている。このような要求に対応すべく、いわゆるQFN(Quad Flat Non-leaded package)タイプの半導体装置が種々提案されている。QFNタイプの半導体装置は、リードフレームの搭載面に搭載した半導体素子を封止樹脂によって封止するとともに、裏面側にリードの一部分を露出させて構成されたものである。
【0003】
従来、フリップチップタイプの半導体装置が知られている(特許文献1参照)。フリップチップタイプの半導体装置は、実装基板上に半導体素子を実装する際、半導体素子と実装基板とをバンプによって互いに接続するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2002-110849号公報
特開2019-40994号公報
【0005】
一般にフリップチップタイプの半導体装置は、半導体装置の外周から半導体素子の電極までの距離であって、外気(空気)に含まれる水分が浸入可能な経路が短くなりやすい。このため、半導体装置の外周から半導体素子の電極まで空気中の水分が浸入するおそれがある。
【0006】
また従来、車載向け又は高信頼性が要求される半導体パッケージを作製する場合、ダイアタッチフィルムを用いて半導体素子をダイパッドに搭載している。近年、このような半導体パッケージにおいて、半導体素子をダイパッド上に搭載する際、より安価なダイアタッチペーストも用いられている。
【0007】
しかしながら、従来、ダイアタッチペーストをダイパッドに塗布し、半導体素子を搭載した後に加熱硬化させたとき、ダイアタッチペースト中のエポキシ樹脂成分が毛細管現象により滲み出す現象(ブリードアウト)が生じている(特許文献2参照)。
【0008】
本実施形態は、半導体素子の電極まで空気中の水分の浸入を抑制可能な半導体装置を製造できるリードフレーム及びその製造方法を提供する。
【0009】
本実施形態は、バンプとリードフレームと良好に接続させるとともに、半導体装置の外周から半導体素子の電極に向けて水分が侵入することを抑制可能な、リードフレーム及びその製造方法を提供する。
【0010】
本実施形態は、粗面が形成されたリードフレームを低コストで製造することが可能な、リードフレーム及びその製造方法を提供する。
(【0011】以降は省略されています)
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