特許ウォッチ

公開番号2024155346
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-31
出願番号2023069998
出願日2023-04-21
発明の名称被検ワークのマスキング方法
出願人大同特殊鋼株式会社
代理人個人
主分類G06V 10/70 20220101AFI20241024BHJP(計算;計数)
要約【課題】位置ずれや寸法個体差のある被検ワークのマスキング作業を自動化して大幅に作業工数を低減する被検ワークのマスキング方法を提供する。
【解決手段】被検ワークの非検査領域をマスキングする方法であって、セマンテック・セグメンテーションモデルに対し、予めマスキングを施した必要数の被検ワークの画像を、マスキングされた領域の画像座標群と対にしたデータセットとして読み込ませて学習させ、学習させたセマンテック・セグメンテーションモデルに対してマスキングされていない新たな被検ワークの画像を与えて当該画像上にマスキングされた領域を自動設定させる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
位置ずれや寸法個体差がある被検ワークの非検査領域をマスキングする方法であって、機械学習手段に対し、予めマスキングを施した必要数の前記被検ワークの画像を、マスキングされた領域の画像座標群と対にしたデータセットとして読み込ませて学習させ、学習させた前記機械学習手段に対してマスキングされていない新たな被検ワークの画像を与えて当該画像上にマスキングされた領域を自動設定させることを特徴とする被検ワークのマスキング方法。
続きを表示（約 150 文字）【請求項２】
前記機械学習手段はセマンテック・セグメンテーションモデルである請求項１に記載の被検ワークのマスキング方法。
【請求項３】
前記画像座標群は、前記マスキングされた領域を囲むバウンディングボックスを形成する座標群である請求項１に記載の被検ワークのマスキング方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は被検ワークのマスキング方法に関し、特にマスキング領域を被検体の画像上に自動生成できる被検ワークのマスキング方法に関するものである。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
被検ワークを撮像して傷検出等を行う場合、被検ワークの凸部等によって、撮影用の照明光の方向によって影が生じるため、被検ワークの画像３（図６）中の影となる部分はマスキングしてマスク領域３１とし、検査対象から外して誤検出を生じないようにしている。なお、特許文献１には、マスキング対象部分の属性を予め検出して、対象画面よりその属性を有する部分をニューラルネットワークで抽出し自動マスキングするマスキング方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
ＷＯ２０１８／２２５７７５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、同種ワークでも搬送時の位置ずれや寸法個体差があると、マスク領域を常に同一位置に設定したのでは微小な傷等を見逃すことがある。すなわち、図６に示す被検ワーク画像３に対してはマスク領域３１の設定で傷３２が良好に検出されるのに対し、位置ずれを生じた被検ワーク画像３（図７）に対しては同一位置のマスク領域３１の設定では傷３２の一部もマスキングされて当該傷３２が確実に検出されないおそれがある。これを避けるために従来は各被検ワーク毎に検査画面上で適正なマスク領域を人手で設定して微小な傷等の検出を見逃さないようにしており、設定するマスク領域が複雑であったり、マスク領域が多数ある場合には多大の手間を要するという問題があった。
【０００５】
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、位置ずれや寸法個体差のある被検ワークのマスキング作業を自動化して大幅に作業工数を低減することが可能な被検ワークのマスキング方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明では、位置ずれや寸法個体差がある被検ワークの非検査領域をマスキングする方法であって、機械学習手段（２）に対し、予めマスキングを施した必要数の前記被検ワーク（１）の画像を、マスキングされた領域（１３）の画像座標群と対にしたデータセットとして読み込ませて学習させ、学習させた前記機械学習手段（２）に対してマスキングされていない新たな被検ワーク（１）の画像を与えて当該画像上にマスキングされた領域（１４）を自動設定させる。
【０００７】
前記機械学習手段としてはセマンテック・セグメンテーションモデルを使用することが好ましい。また、前記画像座標群は、前記マスキングされた領域を囲むバウンディングボックスを形成する座標群であることが好ましい。
【０００８】
上記カッコ内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を参考的に示すものである。
【発明の効果】
【０００９】
以上のように、本発明の被検ワークのマスキング方法によれば、位置ずれや寸法個体差のある被検ワークのマスキング作業を自動化して大幅に作業工数を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明方法の処理手順を示すフローチャートである。
マスク領域が設定されていない被検ワークの部分拡大斜視図である。
マスク領域が自動設定された被検ワークの部分拡大斜視図である。
セマンテック・セグメンテーションの構成を示す概念図である。
マスク領域が手作業で設定された被検ワークの部分拡大斜視図である。
従来例を示す、マスク領域が手作業で設定された被検ワークの部分拡大斜視図である。
従来例を示す、マスク領域が手作業で設定された被検ワークの部分拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許