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公開番号2024146307
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-15
出願番号2023059119
出願日2023-03-31
発明の名称ポリシロキサン及びその製造方法
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人個人,個人
主分類C07F 7/18 20060101AFI20241004BHJP(有機化学)
要約【課題】1分子中のケイ素原子数が少ない低分子量ポリシロキサンを製造する方法。
【解決手段】特定のリチウムシラノレートと、非プロトン性極性溶媒及び無極性溶媒の存在下、特定のオルガノシロキサンを重合させて、下式(3)で表されるポリシロキサンを製造する。[無極性溶媒]/[非プロトン性極性溶媒]モル比は5～100。オルガノシロキサン/リチウムシラノレートモル比は0.01～2。
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(R1、R2は、C1～12の飽和脂肪族炭化水素基、芳香族基、又はC2～12のz-直鎖アルケニル基。R3、R5はH、C1～12の飽和脂肪族炭化水素基、芳香族基、又はC2～12のz-アルケニル基。R4はC1～12の飽和脂肪族炭化水素基。)
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記式（２）で表されるリチウムシラノレート（Ｉ）と、非プロトン性極性溶媒及び無極性溶媒の存在下、下記式（１）で表されるオルガノシロキサン（Ｄ３）を重合させて、下記式（３）で表されるポリシロキサンを製造する、ポリシロキサンの製造方法であって、
前記非プロトン性極性溶媒と無極性溶媒とのモル比（［無極性溶媒］／［非プロトン性極性溶媒］）が５～１００であって、前記オルガノシロキサン（Ｄ３）と前記リチウムシラノレート（Ｉ）のモル比（［Ｄ３］／［Ｉ］）が０．０１～２であるポリシロキサンの製造方法。
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（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。）
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（式中、Ｒ３は水素原子、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。Ｒ４は置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基を表す。）
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（式中、Ｒ１及びＲ２は前記式（１）におけるＲ１及びＲ２と同義であり、Ｒ３及びＲ４は前記式（２）におけるＲ３及びＲ４と同義である。Ｒ５は水素原子、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。ｎは１～１３の整数である。）
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
１分子中に含まれるケイ素原子数が３～１５である、下記式（３）で表されるポリシロキサン。
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（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。Ｒ３は水素原子、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。Ｒ４は置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ５は水素原子、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。ｎは１～１３の整数である。）

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリシロキサン及びその製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
ポリシロキサンの製造方法として、リチウム触媒を用いて環状オルガノシロキサンをアニオン重合することにより直鎖ポリシロキサンを得る方法が提案されている（特許文献１）。特許文献１には、このアニオン重合に用いる溶媒について、「活性水素を有しない極性溶媒が望ましく、・・・・・・活性水素を有する溶媒では重合反応が阻害され、非極性溶媒の場合には全くといって良いほど重合反応が進まない。」と記載され、特許文献１の実施例では、テトラヒドロフランが使用されている。特許文献１の実施例では、触媒成分のブチルリチウムをヘキサン溶液として用いており、反応系には極性溶媒であるテトラヒドロフランと無極性溶媒であるヘキサンとが共存するが、その割合（モル比）は、特許文献１の実施例１では［ヘキサン／テトラヒドロフラン］＝０．００２、実施例２では［ヘキサン／テトラヒドロフラン］＝０．００１である。
【０００３】
特許文献１の製造方法では、低分子領域で分子量の制御を行って１分子中のケイ素原子数が１５以下であるような低分子量ポリシロキサンを得ることは難しい。このため、特許文献１の実施例１で製造されたポリシロキサンは、１分子中に含まれるケイ素原子数が実施例１では２０、実施例２では３２と、高分子量のポリシロキサンである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平１－９８６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、１分子中のケイ素原子数が少ない低分子量ポリシロキサンの製造方法、特に１分子中のケイ素原子数が３以上、好ましくは５以上、より好ましくは６以上であり、１５以下、好ましくは１３以下、より好ましくは１１以下、さらに好ましくは９以下、最も好ましくは７以下に制御された低分子量ポリシロキサンの製造方法と、１分子中のケイ素原子数が３以上、好ましくは５以上、より好ましくは６以上であり、１５以下、好ましくは１３以下、より好ましくは１１以下、さらに好ましくは９以下、最も好ましくは７以下に制御された低分子量ポリシロキサンを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、環状オルガノシロキサンの開環重合を行う際に、非プロトン性極性溶媒と無極性溶媒とを所定の割合で併用することにより、上記課題を解決することができることを見出した。
即ち、本発明は以下を要旨とする。
【０００７】
［１］下記式（２）で表されるリチウムシラノレート（Ｉ）と、非プロトン性極性溶媒及び無極性溶媒の存在下、下記式（１）で表されるオルガノシロキサン（Ｄ３）を重合させて、下記式（３）で表されるポリシロキサンを製造する、ポリシロキサンの製造方法であって、
前記非プロトン性極性溶媒と無極性溶媒とのモル比（［無極性溶媒］／［非プロトン性極性溶媒］）が５～１００であって、前記オルガノシロキサン（Ｄ３）と前記リチウムシラノレート（Ｉ）のモル比（［Ｄ３］／［Ｉ］）が０．０１～２であるポリシロキサンの製造方法。
【０００８】
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【０００９】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい炭素数１～１２の飽和脂肪族炭化水素基、置換されていてもよい芳香族基、又は置換されていてもよい炭素数２～１２のｚ－直鎖アルケニル基（ここで、ｚはアルケニル基の二重結合の位置を示す数値であり、アルケニル基の炭素数－１の整数である。）を表す。）
【００１０】
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（【００１１】以降は省略されています）

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