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公開番号2024134406
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-03
出願番号2023044692
出願日2023-03-20
発明の名称磁気特性検査方法及び磁気特性検査装置
出願人株式会社IHI,国立大学法人大分大学
代理人個人,個人,個人
主分類G01N 27/72 20060101AFI20240926BHJP(測定;試験)
要約【課題】試験体が使用に適するか否かを簡便に検査すること。
【解決手段】磁気特性検査方法は、磁気特性が許容範囲内である基準体91Aの基準体端面91tに、磁気特性が許容範囲内であるか否か不明である試験体92の試験体端面92tを所定の隙間Cをもって対面させる実配置ステップS14と、基準体91A及び試験体92に、基準体91Aの基準体端面91tと試験体92の試験体端面92tとを通る磁束M1を磁束印加ユニット2から与える実印加ステップS15と、隙間Cから漏れる漏れ磁束M2に関する実漏れ磁束密度を得る実計測ステップS16と、を有する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
磁気特性が許容範囲内である第１基準体の端面に、磁気特性が許容範囲内であるか否か不明である試験体の端面を所定の隙間をもって対面させる実配置ステップと、
前記第１基準体及び前記試験体に、前記第１基準体の端面と前記試験体の端面とを通る磁束を磁束印加ユニットから与える実印加ステップと、
前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する実漏れ磁束密度を得る実計測ステップと、を有する、磁気特性検査方法。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記第１基準体の端面に、磁気特性が許容範囲内である前記第１基準体とは別の第２基準体の端面を所定の隙間をもって対面させる予備配置ステップと、
前記第１基準体及び前記第２基準体に、前記第１基準体の端面と前記第２基準体の端面とを通る磁束を前記磁束印加ユニットから与える予備印加ステップと、
前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する予備漏れ磁束密度を得る予備計測ステップと、
前記実漏れ磁束密度と前記予備漏れ磁束密度との差分が、閾値より小さい場合に、前記試験体の磁気特性が許容範囲内であると判定する判定ステップと、をさらに有する、請求項１に記載の磁気特性検査方法。
【請求項３】
前記磁束印加ユニットは、第１起磁力発生部と第２起磁力発生部とを有し、
前記実印加ステップ及び前記予備印加ステップにおいて、前記第１起磁力発生部が発生する起磁力は、前記第２起磁力発生部が発生する起磁力と、等しい、請求項２に記載の磁気特性検査方法。
【請求項４】
前記磁束印加ユニットは、第１起磁力発生部と第２起磁力発生部とを有し、
前記実印加ステップ及び前記予備印加ステップにおいて、前記第１起磁力発生部が発生する起磁力は、前記第２起磁力発生部が発生する起磁力と、異なる、請求項２に記載の磁気特性検査方法。
【請求項５】
前記磁束印加ユニットは、第１起磁力発生部と第２起磁力発生部とを有し、
前記実印加ステップは、
前記第１起磁力発生部から第１起磁力を発生させるとともに、前記第２起磁力発生部から第２起磁力を発生させる第１印加ステップと、
前記第１起磁力発生部から前記第２起磁力を発生させるとともに、前記第２起磁力発生部から前記第１起磁力を発生させる第２印加ステップと、を含み、
前記実計測ステップは、
前記第１印加ステップを実行した後に、前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する第１実漏れ磁束密度を得る第１実漏れ磁束密度取得ステップと、
前記第２印加ステップを実行した後に、前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する第２実漏れ磁束密度を得る第２実漏れ磁束密度取得ステップと、を含み、
前記第１実漏れ磁束密度と前記第２実漏れ磁束密度との差分が閾値より小さい場合に、前記試験体の磁気特性が許容範囲内であると判定する判定ステップと、をさらに有する、請求項１に記載の磁気特性検査方法。
【請求項６】
前記実印加ステップは、
前記基準体及び前記試験体に対する前記磁束印加ユニットの位置が第１位置である状態で、前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する第１実漏れ磁束密度を得る第１実漏れ磁束密度取得ステップと、
前記基準体及び前記試験体に対する前記磁束印加ユニットの位置が前記第１位置とは異なる第２位置である状態で、前記隙間から漏れる漏れ磁束に関する第２実漏れ磁束密度を得る第２実漏れ磁束密度取得ステップと、
前記第１実漏れ磁束密度と前記第２実漏れ磁束密度との差分が閾値より小さい場合に、前記試験体の磁気特性が許容範囲内であると判定する判定ステップと、をさらに有する、請求項１に記載の磁気特性検査方法。
【請求項７】
磁気特性が許容範囲内であるか否か不明である試験体の主面に対面する第１磁束付与部と、
磁気特性が許容範囲内である第１基準体であって、前記第１基準体の端面が前記試験体の端面に対して所定の隙間をもって配置される前記第１基準体に対面する第２磁束付与部と、
前記第１磁束付与部及び前記第２磁束付与部を通過する磁束を発生させる起磁力発生部と、
前記第１磁束付与部と前記第２磁束付与部との間に配置されて、前記隙間から漏れる漏れ磁束を計測する漏れ磁束計測部と、を備える、磁気特性検査装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気特性検査方法及び磁気特性検査装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
材料特性の一例として、磁気特性が例示できる。非特許文献１～３は、材料の磁気特性を評価する手法を開示する。例えば、非特許文献１、２は、いわゆるＫｅｒｒ効果を利用した局所的な磁気特性の評価手法を提案する。また、非特許文献３は、放射光光電子顕微鏡に関する技術を開示する。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
中川剛志、横山利彦、“X線磁気円二色性、磁気光学Kerr効果による磁性超薄膜のスピン再配列相転移”、表面科学特集「放射光表面科学部特集」、日本、日本表面真空学会、２００６年、Vol. 27、No. 5、p.272―277。
竹澤昌晃、”磁気光学顕微鏡とその応用”、IEEJ Trans. FM、日本、The Institute of Electrical and Electronics Engineers of Japan、２００９年、Vol. 129、No. 9、p.565―568。
小野寛太、尾嶋正治、”放射光光電子顕微鏡を用いたナノ構造のイメージング”、日本放射光学会誌、日本、日本放射光学、２００５年、Vol. 18、No. 3、p.176―185。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
金属製の部品を加工した結果、加工後の金属部品における磁気特性が変化することがある。磁気特性の態様によっては、加工後の金属部品は使用に適さないこともあり得る。そこで、非特許文献１～３が開示する手法を用いて、金属材料の磁気特性を評価することも考えられる。しかし、これらの手法は、製造現場では利用し難い。そこで、製造現場において、加工後の金属部品が使用に適するか否かを簡便に検査できる技術が望まれていた。
【０００５】
そこで、本発明は、試験体が使用に適するか否かを簡便に検査できる磁気特性検査方法及び磁気特性検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一形態である磁気特性検査方法は、磁気特性が許容範囲内である第１基準体の端面に、磁気特性が許容範囲内であるか否か不明である試験体の端面を所定の隙間をもって対面させる実配置ステップと、第１基準体及び試験体に、第１基準体の端面と試験体の端面とを通る磁束を磁束印加ユニットから与える実印加ステップと、隙間から漏れる漏れ磁束に関する実漏れ磁束密度を得る実計測ステップと、を有する。
【０００７】
この検査方法では、基準体と試験体との隙間から漏れる漏れ磁束を用いて、試験体の磁気特性を評価する。従って、基準体と試験体との隙間から漏れる漏れ磁束の計測によって、試験体が使用に適するか否かを簡便に検査できる。
【０００８】
一形態の磁気特性検査方法は、第１基準体の端面に、磁気特性が許容範囲内である第１基準体とは別の第２基準体の端面を所定の隙間をもって対面させる予備配置ステップと、第１基準体及び第２基準体に、第１基準体の端面と第２基準体の端面とを通る磁束を磁束印加ユニットから与える予備印加ステップと、隙間から漏れる漏れ磁束に関する予備漏れ磁束密度を得る予備計測ステップと、実漏れ磁束密度と予備漏れ磁束密度との差分が、閾値より小さい場合に、試験体の磁気特性が許容範囲内であると判定する判定ステップと、をさらに有してもよい。この方法によれば、実漏れ磁束密度と予備漏れ磁束密度との比較によって、試験体が使用に適するか否かを簡便に検査できる。
【０００９】
一形態の磁気特性検査方法において、磁束印加ユニットは、第１起磁力発生部と第２起磁力発生部とを有し、実印加ステップ及び予備印加ステップにおいて、第１起磁力発生部が発生する起磁力は、第２起磁力発生部が発生する起磁力と、等しくてもよい。この方法によれば、簡易な手法で試験体が使用に適するか否かを簡便に検査できる。
【００１０】
一形態の磁気特性検査方法において、磁束印加ユニットは、第１起磁力発生部と第２起磁力発生部とを有し、実印加ステップ及び予備印加ステップにおいて、第１起磁力発生部が発生する起磁力は、第２起磁力発生部が発生する起磁力と、異なってもよい。この方法によっても、簡易な手法で試験体が使用に適するか否かを簡便に検査できる。
（【００１１】以降は省略されています）

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