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公開番号2024125822
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-19
出願番号2023033904
出願日2023-03-06
発明の名称軟磁性金属粒子、圧粉磁心および磁性部品
出願人TDK株式会社
代理人前田・鈴木国際特許弁理士法人
主分類H01F 1/24 20060101AFI20240911BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】高い初透磁率μiと、低い比誘電率εとを両立させた圧粉磁心を提供できる軟磁性金属粒子を提供する。
【解決手段】コア粒子と、コア粒子の表面に形成される絶縁膜と、を有する。絶縁膜がSiとBとの複合酸化物を含む。絶縁膜におけるSiとBとの合計含有量に対するBの含有割合が1.0mol%以上60.0mol%以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
コア粒子と、前記コア粒子の表面に形成される絶縁膜と、を有し、
前記絶縁膜がＳｉとＢとの複合酸化物を含み、
前記絶縁膜におけるＳｉとＢとの合計含有量に対するＢの含有割合が１．０ｍｏｌ％以上６０．０ｍｏｌ％以下である軟磁性金属粒子。
続きを表示（約 370 文字）【請求項２】
前記コア粒子がＦｅを含む請求項１に記載の軟磁性金属粒子。
【請求項３】
前記絶縁膜が結晶性を示す請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子。
【請求項４】
前記絶縁膜が単層膜である請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子。
【請求項５】
前記絶縁膜におけるＳｉとＢとの合計含有量に対するＢの含有割合が１０．０ｍｏｌ％以上３０．０ｍｏｌ％以下である請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子。
【請求項６】
前記絶縁膜の膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子。
【請求項７】
請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子を含む圧粉磁心。
【請求項８】
請求項１または２に記載の軟磁性金属粒子を含む磁性部品。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、軟磁性金属粒子、圧粉磁心および磁性部品に関する。
続きを表示（約 800 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、Ｆｅ並びに元素Ｌ（ＳｉまたはＺｒ）および元素Ｍ（Ｓｉ、Ｚｒ以外のＦｅより酸化しやすい金属元素）を含む軟磁性合金粒子と、この粒子の一部が酸化してなる酸化膜とを備える磁性体が記載されている。酸化膜が互いに組成の異なる内膜と外膜とを有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１６－１９５１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示の一実施形態は、高い初透磁率μｉと、低い比誘電率εとを両立させた圧粉磁心を提供できる軟磁性金属粒子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一実施形態に係る軟磁性金属粒子は、
コア粒子と、前記コア粒子の表面に形成される絶縁膜と、を有し、
前記絶縁膜がＳｉとＢとの複合酸化物を含み、
前記絶縁膜におけるＳｉとＢとの合計含有量に対するＢの含有割合が１．０ｍｏｌ％以上６０．０ｍｏｌ％以下である。
【０００６】
上記軟磁性金属粒子において、コア粒子がＦｅを含んでもよい。
【０００７】
上記いずれかの軟磁性金属粒子において、絶縁膜が結晶性を示してもよい。
【０００８】
上記いずれかの軟磁性金属粒子において、絶縁膜が単層膜であってもよい。
【０００９】
上記いずれかの軟磁性金属粒子において、絶縁膜におけるＳｉとＢとの合計含有量に対するＢの含有割合が３．０ｍｏｌ％以上３０．０ｍｏｌ％以下であってもよい。
【００１０】
上記いずれかの軟磁性金属粒子において、絶縁膜の膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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