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公開番号2024073001
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-29
出願番号2022183948
出願日2022-11-17
発明の名称電極および薄膜形成装置
出願人東レエンジニアリング株式会社
代理人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20240522BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】高周波電力が印加される電極の各部において温度にムラが生じることを抑制することができる電極および薄膜形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】導電性を有するアンテナ部と、前記アンテナ部の片側の端部である被給電部から前記アンテナ部に高周波電力を印加する電力付与部と、前記アンテナ部に沿って冷媒が流れるように冷媒を供給する冷媒供給部と、を備えた電極であって、前記冷媒供給部は、前記アンテナ部の前記被給電部側から冷媒を供給する構成とする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
導電性を有するアンテナ部と、
前記アンテナ部の片側の端部である被給電部から前記アンテナ部に高周波電力を印加する電力付与部と、
前記アンテナ部に沿って冷媒が流れるように冷媒を供給する冷媒供給部と、を備えた電極であって、
前記冷媒供給部は、前記アンテナ部の前記被給電部側から冷媒を供給することを特徴とする電極。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記アンテナ部の内部には、冷媒が流れる第１の冷却路が形成され、
前記アンテナ部の外側には、前記アンテナ部の外周との間に空間を形成するように前記アンテナ部の外周を囲うことによって冷媒が流れる第２の冷却路を形成するカバー部が設けられており、
前記冷媒供給部は、前記第１の冷却路と前記第２の冷却路に冷媒を供給することを特徴とする請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記第２の冷却路の前記被給電部の近傍における断面積は、前記第２の冷却路の前記被給電部の近傍以外の部分における断面積よりも大きいことを特徴とする請求項２に記載の電極。
【請求項４】
前記アンテナ部には、前記被給電部の近傍において前記第１の冷却路と前記第２の冷却路を連結する第１の連結孔が形成され、
前記冷媒供給部は、前記第１の冷却路に冷媒を供給し、前記第１の冷却路に供給された冷媒が前記第１の連結孔を介して前記第２の冷却路に供給されることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電極。
【請求項５】
第１の冷却路には、冷媒が流れる方向における前記第１の連結孔よりも下流側で冷媒の流れを妨げる流路抵抗部が設けられることを特徴とする請求項４に記載の電極。
【請求項６】
前記アンテナ部には、冷媒が流れる方向において前記第１の連結孔よりも下流側で前記第１の冷却路と前記第２の冷却路を連結する第２の連結孔が形成されることを特徴とする請求項４に記載の電極。
【請求項７】
前記冷媒供給部により供給する冷媒は、ガスであることを特徴とする請求項２に記載の電極。
【請求項８】
前記冷媒供給部は、前記第１の冷却路と前記第２の冷却路のそれぞれに対して個別に冷媒を供給しており、
前記冷媒供給部により前記第１の冷却路に供給する冷媒は、液体であり、
前記冷媒供給部により前記第２の冷却路に供給する冷媒は、ガスであることを特徴とする請求項２に記載の電極。
【請求項９】
基材を収容するメインチャンバと、
前記メインチャンバ内に薄膜の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給部と、
前記原料ガスをプラズマ処理するための電極と、を備える薄膜形成装置であって、
前記電極は、導電性を有するアンテナ部と、
前記アンテナ部の片側の端部である被給電部から前記アンテナ部に高周波電力を印加する電力付与部と、
前記アンテナ部に沿って冷媒が流れるように冷媒を供給する冷媒供給部と、を備え、
前記冷媒供給部は、前記アンテナ部の前記被給電部側から冷媒を供給することを特徴とする薄膜形成装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に薄膜を形成するための電極および薄膜形成装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ、太陽電池等の電子デバイスは水や酸素に弱いため、その表面を封止膜で覆って、耐久性を向上させている。このような封止膜は、下記特許文献１に示すような薄膜形成装置により形成されている。
【０００３】
この薄膜形成装置は、図７（ａ）に示すように帯状の基材９１０を収容するチャンバ９２０と、チャンバ９２０内で基材９１０をロールツーロールにより搬送する搬送部９３０と、チャンバ９２０内で放電を行う電極９４０と、薄膜（封止膜）の原料となる原料ガスをチャンバ９２０内に供給する原料ガス供給部９５０と、プラズマを形成するためのプラズマ形成ガスをチャンバ９２０内に供給するためのプラズマ形成ガス供給部９６０と、を備えている。
【０００４】
そして、薄膜形成装置９００は、原料ガス供給部９５０によるチャンバ９２０内への原料ガスの供給、およびプラズマ形成ガス供給部９６０によるチャンバ９２０内へのプラズマ形成ガスの供給を行い、電極９４０による放電を行う。これにより、プラズマ形成ガスがプラズマ化し、このプラズマと原料ガスが反応することによって、搬送部９３０により搬送される基材９１０上に薄膜が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１５－２１４７２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記薄膜形成装置９００の電極９４０は、図７（ｂ）に示すように導電性を有するアンテナ部９４１と、アンテナ部９４１に高周波電力を印加する電力付与部９４２を有し、電力付与部９４２により高周波電力をアンテナ部９４１に印加することによって放電を行っている。このとき、アンテナ部９４１の電力付与部９４２により高周波電力を印可された部分とその近傍が、その他の部分よりも高温になるため、電極９４０の各部における温度にムラが生じてしまっていた。これにより、電極９４０を用いた薄膜形成装置９００によって基材上に薄膜を形成するときに、電極９４０から基材９１０に伝わる熱にもムラが生じ、基材９１０に皺が生じる問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、高周波電力が印加される電極の各部において温度にムラが生じることを抑制することができる電極および薄膜形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の電極は、導電性を有するアンテナ部と、前記アンテナ部の片側の端部である被給電部から前記アンテナ部に高周波電力を印加する電力付与部と、前記アンテナ部に沿って冷媒が流れるように冷媒を供給する冷媒供給部と、を備えた電極であって、前記冷媒供給部は、前記アンテナ部の前記被給電部側から冷媒を供給することを特徴としている。
【０００９】
上記電極によれば、冷媒供給部は、電力付与部により高周波電力が印可される側のアンテナ部の片側の端部である被給電部側からアンテナ部に沿って冷媒が流れるように冷媒を供給している。すなわち、冷媒供給部は、電力供給部により高周波電力を印加されることによって他の部分よりも温度が高くなるアンテナ部の被給電部の近くからアンテナ部のもう一方の端部に向かって冷媒が流れるように冷媒を供給している。そのため、被給電部側以外の部分から冷媒を供給するよりも、被給電部とその近傍を冷却しやすくなる。これにより、電極の各部において温度にムラが生じることを抑制することができる。
【００１０】
また、前記アンテナ部の内部には、冷媒が流れる第１の冷却路が形成され、前記アンテナ部の外側には、前記アンテナ部の外周との間に空間を形成するように前記アンテナ部の外周を囲うことによって冷媒が流れる第２の冷却路を形成するカバー部が設けられており、前記冷媒供給部は、前記第１の冷却路と前記第２の冷却路に冷媒を供給する構成にしてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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