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公開番号
2025165745
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-11-05
出願番号
2024070025
出願日
2024-04-23
発明の名称
ハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、及びハロゲノベンゼン誘導体の製造方法
出願人
株式会社トクヤマ
代理人
主分類
C07C
51/363 20060101AFI20251028BHJP(有機化学)
要約
【課題】ハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体の効率的な製造方法と、この方法で得られたハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体を用いた、ベンゾフェノン誘導体及びハロゲノベンゼン誘導体の製造方法とを提供する。
【解決手段】式(VI)に表されるハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体の製造方法は、式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させることを含む。ハロゲン化剤は、N-ブロモスクシンイミド及び1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、N-クロロスクシンイミド、及び1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントインからなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含む。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025165745000042.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">24</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">59</com:WidthMeasure> </com:Image>
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025165745000043.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">22</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">58</com:WidthMeasure> </com:Image>
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
下記式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体と、N-ブロモスクシンイミド及び1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、N-クロロスクシンイミド、及び1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントインからなる群より選択される少なくとも1種のハロゲン化剤とを接触させて、下記式(VI)に表されるハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体を得ることを含む、ハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体の製造方法:
JPEG
2025165745000037.jpg
22
58
式(V)において、
R
10
及びR
11
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は、炭素数1以上5以下のアルコキシ基であり、
JPEG
2025165745000038.jpg
24
59
式(VI)において、
R
10
及びR
11
は、前記式(V)におけるものと同義であり、
X
10
は、塩素原子又は臭素原子である。
続きを表示(約 1,400 文字)
【請求項2】
前記ハロゲン化剤は、N-ブロモスクシンイミドを含む、請求項1に記載の製造方法。
【請求項3】
1モルの式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体に対する、前記ハロゲン化剤の量は、1モル以上5モル以下である、請求項1に記載の製造方法。
【請求項4】
式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体と前記ハロゲン化剤との接触は、25℃以上80℃以下の温度範囲内で行われる、請求項1に記載の製造方法。
【請求項5】
式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体と前記ハロゲン化剤との接触は、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、及びクロロホルムからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
【請求項6】
前記有機溶媒は、テトラヒドロフランを含む、請求項1に記載の製造方法。
【請求項7】
式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体と前記ハロゲン化剤との接触は、酸触媒存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。
【請求項8】
請求項1に記載の方法で得られた前記式(VI)に表されるハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体と、下記式(VII)に表される化合物とを接触させて、下記式(VIII)に表されるベンゾフェノン誘導体を得ることを含む、ベンゾフェノン誘導体の製造方法。
JPEG
2025165745000039.jpg
26
81
前記式(VII)において、
Ar
1
は、炭素数5以上12以下のアリレン基、又は、炭素数4以上10以下であり、ヘテロ原子数が1以上3以下のヘテロアリレン基であり、
Aは、直結又は酸素原子であり、
R
13
は、水素原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、置換基にハロゲン原子を有してもよい炭素数5以上8以下のアリール基、又は、炭素数3以上6以下であり、ヘテロ原子数1以上2以下のヘテロシクロアルカン基であり、
JPEG
2025165745000040.jpg
29
91
前記式(VIII)において、
R
10
、R
11
、及びX
10
は、前記式(VII)におけるものと同義であり、
Ar
1
、A、及びR
13
は、前記式(VII)におけるものと同義である。
【請求項9】
請求項8に記載の方法で得られた前記式(VIII)に表されるベンゾフェノン誘導体を還元して、下記式(IX)に表されるハロゲノベンゼン誘導体を得ることを含む、ハロゲノベンゼン誘導体の製造方法:
JPEG
2025165745000041.jpg
24
67
前記式(IX)において、
R
10
、R
11
、及びX
10
は、前記式(VI)におけるものと同義であり、
Ar
1
、A、及びR
13
は、前記式(VII)におけるものと同義である。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、ハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、及びハロゲノベンゼン誘導体の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,100 文字)
【背景技術】
【0002】
ナトリウム-グルコ-ス共輸送担体-2(SGLT-2)阻害剤は、抗糖尿病薬として有用である。SGLT-2阻害剤は、グルコノラクトン環若しくはチオグルコノラクトン環にアグリコン部分が直結した構造を有する。SGLT-2阻害剤としては、例えば、下記式に示すように、カナグリフロジン、ダパグリフロジン、イプラグリフロジン、エンパグリフロジン、ルセオグリフロジン、トフォグリフロジン等が知られている。
【0003】
JPEG
2025165745000001.jpg
99
170
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2022-159769号公報
国際公開第2016/098016号公報
特開2021-161106号公報
特開2019-210283号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の目的は、ハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体の効率的な製造方法と、この方法で得られたハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体を用いた、ベンゾフェノン誘導体及びハロゲノベンゼン誘導体の製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
一側面によると、下記式(VI)に表されるハロゲノ-2,4-置換安息香酸誘導体の製造方法が提供される。この製造方法は、下記式(V)に表される2,4-置換安息香酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させることを含む。ハロゲン化剤は、N-ブロモスクシンイミド及び1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、N-クロロスクシンイミド、及び1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントインからなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含む。
【0007】
JPEG
2025165745000002.jpg
22
58
【0008】
式(V)において、R
10
及びR
11
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は、炭素数1以上5以下のアルコキシ基である。
【0009】
JPEG
2025165745000003.jpg
24
59
【0010】
式(VI)において、R
10
及びR
11
は、式(V)におけるものと同義である。X
10
は、塩素原子又は臭素原子である。
(【0011】以降は省略されています)
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