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公開番号2025151938
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-09
出願番号2024053578
出願日2024-03-28
発明の名称光学素子および機器
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G02B 1/115 20150101AFI20251002BHJP(光学)
要約【課題】良好な光学特性を有する光学素子を実現する上で有利な技術を提供する。
【解決手段】基体および前記基体の上に設けられた光学構造体を備える光学素子であって、前記光学構造体は、少なくとも1つの酸化物層と、少なくとも1つの弗化物層と、を少なくとも有し、前記1つの酸化物層と前記1つの弗化物層との間の距離が前記1つの弗化物層の厚さよりも小さく、前記少なくとも1つの酸化物層におけるハフニウム含有量を[Hf]at%、前記少なくとも1つの酸化物層におけるシリコンの含有量を[Si]at%、として、0.095≦[Si]/([Si]+[Hf])<0.902を満たす。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基体および前記基体の上に設けられた光学構造体を備える光学素子であって、
前記光学構造体は、少なくとも１つの酸化物層と、少なくとも１つの弗化物層と、を有し、
前記１つの酸化物層と前記１つの弗化物層との間の距離が前記１つの弗化物層の厚さよりも小さく、
前記少なくとも１つの酸化物層におけるハフニウム含有量を［Ｈｆ］ａｔ％、前記少なくとも１つの酸化物層におけるシリコンの含有量を［Ｓｉ］ａｔ％、として、
０．０９５≦［Ｓｉ］／（［Ｓｉ］＋［Ｈｆ］）＜０．９０２
を満たす光学素子。
続きを表示（約 680 文字）【請求項２】
［Ｈｆ］≧３．２ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
［Ｓｉ］≦２９．３ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項４】
前記少なくとも１つの酸化物層における酸素含有量を［Ｏ］ａｔ％として、
［Ｏ］≧６５．０ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項５】
［Ｓｉ］／（［Ｓｉ］＋［Ｈｆ］）≧０．２１９
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項６】
前記少なくとも１つの酸化物層におけるアルゴン含有量を［Ａｒ］ａｔ％として、
０．９ａｔ％≦［Ａｒ］≦１．８ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項７】
前記少なくとも１つの酸化物層におけるジルコニウム含有量を［Ｚｒ］ａｔ％として、
０．０１ａｔ％≦［Ｚｒ］≦０．１２ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項８】
前記少なくとも１つの酸化物層における酸素含有量を［Ｏ］ａｔ％として、
［Ｈｆ］＋［Ｓｉ］＋［Ｏ］≧９８．０ａｔ％
を満たす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項９】
前記光学構造体が、反射防止構造を有する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記光学構造体が、反射構造を有する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学素子。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物層と弗化物層と、を有する光学素子に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
酸化ハフニウムは屈折率や誘電率が高いという特徴を有するため、光学素子での応用が検討されている。
【０００３】
特許文献１には、高屈折率層と、高屈折率層の下の中間屈折率層または高屈折率層の上の低屈折率層と、有する反射防止膜が開示されている。特許文献１において、高屈折率層の材料としてＺｒＯ
２
、ＨｆＯ
２
、Ｓｃ
２
Ｏ
３
、ＳｉＯ
２
、Ａｌ
２
Ｏ
３
、ＮｄＦ
３
、ＬａＦ
３
、ＣａＦ
２
、ＣｅＦ
３
、ＧｄＦ
３
、ＨｏＦ
３
、ＥｒＦ
３
、ＤｙＦ
３
、ＭｇＯ、ＴｈＦ
４
、ＹＦ
３
、ＹｂＦ
３
、ＢａＦ
３
、ＳｒＦ
３
が挙げられている。特許文献１において、中間屈折率層の材料としてＮｄＦ
３
、ＬａＦ
３
、ＣａＦ
２
、ＣｅＦ
３
、ＧｄＦ
３
、ＨｏＦ
３
、ＥｒＦ
３
、ＤｙＦ
３
、ＭｇＯ、ＴｈＦ
４
、ＹＦ
３
、ＹｂＦ
３
、ＢａＦ
３
、ＳｒＦ
３
が挙げられている。特許文献１において、低屈折率層の材料として、ＭｇＦ
２
、Ｎａ
３
ＡｌＦ
６
、ＬｉＦ、ＢａＦ
３
、ＳｒＦ
３
、ＣａＦ
２
、ＮａＦ、ＳｉＯ
２
が挙げられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平１１－１６７００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、酸化ハフニウム層のごく近傍に弗化物層が積層されていると、酸化ハフニウム層と弗化物層の間で光吸収が発生する場合があることを見出した。かかる光吸収は、光学素子における透過率や反射率などの光学特性を低下させるため、低減することが好ましい。
【０００６】
そこで本発明は、良好な光学特性を有する光学素子を実現する上で有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段である本発明の一つの態様としての光学素子は、基体および前記基体の上に設けられた光学構造体を備える光学素子であって、前記光学構造体は、少なくとも１つの酸化物層と、少なくとも１つの弗化物層と、を少なくとも有し、前記１つの酸化物層と前記１つの弗化物層との間の距離が前記１つの弗化物層の厚さよりも小さく、前記少なくとも１つの酸化物層におけるハフニウム含有量を［Ｈｆ］ａｔ％、前記少なくとも１つの酸化物層におけるシリコンの含有量を［Ｓｉ］ａｔ％、として、０．０９５≦［Ｓｉ］／（［Ｓｉ］＋［Ｈｆ］）＜０．９０２を満たす光学素子である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、良好な光学特性を有する光学素子を実現する上で有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
光学素子の模式的な断面図。
スパッタリング成膜装置の模式図。
吸収率を説明する図。
界面吸収率を説明する図。
吸収率を説明する図。
屈折率を説明する図。
反射防止膜の透過率を説明する図。
露光装置を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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