特許ウォッチ

公開番号2025109476
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-25
出願番号2024003387
出願日2024-01-12
発明の名称フッ素含有排水の処理方法及び装置
出願人栗田工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C02F 1/58 20230101AFI20250717BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約【課題】消石灰や酸化マグネシウムなどの薬剤の添加量を減少させることができ、また、発生する汚泥量を減少させることができるフッ素含有排水の処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】排煙脱硫排水などのフッ素含有排水にカルシウム化合物及び/又はマグネシウム化合物を添加する薬剤添加工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、該薬剤添加工程前にフッ素含有排水を脱炭酸処理する脱炭酸処理工程を有することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。フッ素含有排水を酸性条件下で曝気することにより、前記脱炭酸処理工程を行う。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
フッ素含有排水にカルシウム化合物及び／又はマグネシウム化合物を添加する薬剤添加工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、
該薬剤添加工程前にフッ素含有排水を脱炭酸処理する脱炭酸処理工程を有することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
続きを表示（約 410 文字）【請求項２】
前記フッ素含有排水を酸性条件下で曝気することにより、前記脱炭酸処理工程を行う請求項１のフッ素含有排水の処理方法。
【請求項３】
前記薬剤として、消石灰及び／又は酸化マグネシウムを添加する請求項１のフッ素含有排水の処理方法。
【請求項４】
前記フッ素含有排水は、排煙脱硫排水である請求項１～３のいずれかのフッ素含有排水の処理方法。
【請求項５】
フッ素含有排水にカルシウム化合物及び／又はマグネシウム化合物を添加する薬剤添加手段を有するフッ素含有排水の処理装置において、
該薬剤添加手段の前段側に、フッ素含有排水を脱炭酸処理する脱炭酸処理手段を有することを特徴とするフッ素含有排水の処理装置。
【請求項６】
前記脱炭酸手段は、前記フッ素含有排水を酸性とするｐＨ調整手段と、曝気手段とを有する請求項５のフッ素含有排水の処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ素含有排水の処理方法及び装置に係り、特に炭酸を含むフッ素含有排水の処理方法及び装置に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
火力発電所の排煙脱硫排水（以下、脱硫排水という。）中のフッ素を除去する方法として、消石灰（水酸化カルシウム）を添加する方法や、酸化マグネシウムなどを添加する方法がある（特許文献１，２）。
【０００３】
特許文献１の方法は、フッ素を含む排水中にカルシウム化合物を添加し固液分離する第１工程と、分離された排液中にアルミニウム化合物を添加し固液分離する第２工程と、分離された沈殿スラッジにカルシウム化合物と炭酸塩を添加したのちアルカリ性とし、固液分離する第３工程と、分離された水溶性アルミニウムを含む水溶液を第２工程の処理に用いる第４工程を有するものである。
【０００４】
特許文献２の方法は、フッ素含有水にカルシウム化合物を添加して生成したフッ化カルシウムを分離した後、残留するカルシウムイオンをカチオン交換樹脂で除去する方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開平１０－５７６９号公報
特開２００１－２４６３８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
脱硫排水中には排ガスの二酸化炭素由来の炭酸が溶解している。排水中の炭酸が、消石灰や酸化マグネシウムなどの薬剤と反応してフッ素除去を阻害するため、フッ素を目標値まで低減するための薬剤添加量が多くなる傾向にあった。
【０００７】
また、フッ素や炭酸と薬剤とが反応して汚泥が生成する。そのため、炭酸濃度の高い排水では、フッ素除去のために添加する薬剤が増え、発生する汚泥量が増える。
【０００８】
本発明は、消石灰や酸化マグネシウムなどの薬剤の添加量を減少させることができ、また、発生する汚泥量を減少させることができるフッ素含有排水の処理方法及び装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は以下によって上記課題を解決するものである。
[１] フッ素含有排水にカルシウム化合物及び／又はマグネシウム化合物を添加する薬剤添加工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、
該薬剤添加工程前にフッ素含有排水を脱炭酸処理する脱炭酸処理工程を有することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
【００１０】
[２] 前記フッ素含有排水を酸性条件下で曝気することにより、前記脱炭酸処理工程を行う[１]のフッ素含有排水の処理方法。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許