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公開番号2025105014
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-10
出願番号2023223262
出願日2023-12-28
発明の名称露光装置、制御方法及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250703BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】スループットを低下させずに、遮光部材を高精度に位置決めするのに有利な技術を提供する。
【解決手段】原版を介して基板を露光する露光装置であって、駆動部と、設定部と、制御部と、を有し、前記制御部は、前記駆動部により遮光部材を第1分解能で目標位置に向けて駆動する第1駆動制御を行い、目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第1領域に位置する場合、第1駆動制御を行った後の遮光部材の位置と目標位置とのずれが閾値を超えていれば、駆動部により遮光部材を第1分解能よりも高い第2分解能で目標位置に向けて駆動する第2駆動制御を行い、目標投影位置が、第1領域以外の第2領域に位置する場合、第1駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、第2駆動制御を行わない。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部と、
前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記パターンが投影される前記基板上の投影範囲を設定する設定部と、
前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、
前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、
前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、
ことを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 810 文字）【請求項２】
前記駆動部は、前記遮光部材を駆動するためのモータを含み、
前記第１分解能及び前記第２分解能は、前記モータによる１パルスあたりの前記遮光部材の駆動量を表す分解能を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記ユーザインタフェースは、前記第１領域に加えて、前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１領域は、前記投影範囲からの距離が前記所定の距離以下となる、互いに異なる複数の第１領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記複数の第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記ユーザインタフェースは、前記複数の第１領域に加えて、前記複数の第１領域のそれぞれに対する前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記投影範囲は、前記原版を介した露光の結果を保証すべき領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
前記投影範囲は、前記パターンに応じた回路を転写すべき領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１領域は、前記基板上のアライメントマークが設けられた領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、制御方法及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスなどの製造工程の１つであるフォトリソグラフィ工程では、露光装置が用いられている。露光装置は、原版（レチクル、マスク）に形成されたパターンを、投影光学系を介して、レジストなどの感光剤が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート）に投影して転写する。
【０００３】
露光装置では、原版のパターンを基板に正確に転写するために、原版と基板とを高い精度で位置合わせ（アライメント）することが求められている。原版と基板とのアライメント精度を向上させるためには、原版や基板に設けられたアライメントマークを専用の位置計測装置で検出（観察）して、原版と基板とをアライメントする必要がある。
【０００４】
露光装置では、一般的に、同一の基板に対して複数回のパターンの転写を行うため、照明光学系からの光（照明光）が基板上の所定領域に隣接するパターン（回路パターン）やアライメントマークに照射された場合、製品不良の要因となる。従って、照明光学系と基板との間に設けられた遮光部材を駆動し、照明光を遮光することで、基板上の所定領域以外の領域に照明光が漏れない（照射されない）ようにしている。但し、遮光部材を目標位置からずれた位置に駆動した場合、照明光の漏れが発生してしまうため、遮光部材を目標位置に高精度に位置決めする必要がある。また、遮光部材の駆動速度は、露光装置のスループット（生産性）に影響するため、高速であることが好ましい。
【０００５】
そこで、遮光部材などの駆動対象物を、高速、且つ、高精度に駆動するための技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。特許文献１には、目標位置までの駆動距離が予め設定された距離よりも大きい場合には、駆動対象物を粗動送りで駆動し、目標位置までの駆動距離が予め設定された距離以下である場合には、駆動対象物を微動送りで駆動する技術が開示されている。かかる技術によれば、駆動対象物を微動送りで駆動する場合においても、駆動時間の増加を抑制することができる。また、特許文献２には、駆動対象物の目標位置までの駆動距離に応じて駆動分解能を選択し、駆動距離に相当するパルス信号の立ち上がり又は立ち下がりエッジ数と、発生したパルス信号のエッジ数とが一致するまでフィードバック制御する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特許第４８６６０４５号公報
特開２００３－２８９６８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、遮光部材を高分解能で駆動することで、位置決め精度を向上させることができるが、遮光部材を高速に駆動しながら、より高分解能で駆動する場合、パルス周波数を増加させなければならない。パルス周波数が増加すると、トルクの低下やノイズの問題が生じるため、遮光部材をより高分解能で駆動する場合には、駆動速度を低下させる必要がある。
【０００８】
また、目標位置からのずれ量が予め決められた閾値に到達するまで遮光部材を追加で駆動する処理（追い込み処理）を実施することで、位置決め精度を向上させることも可能である。ここで、遮光部材を高分解能で駆動することで位置決め精度の向上を図る場合、目標位置からのずれ量に対する閾値を低く設定する必要があるため、追い込み処理が発生する（実施される）確率が高まる。追い込み処理が発生すると、全体の処理が終了するまでに時間を要する。特に、複数のユニットが並列に設けられている装置では、所定のユニットにおいて追い込み処理が発生すると、かかる追い込み処理が終了するまで、他のユニットには待機時間を設けなくてはならない。
【０００９】
このように、遮光部材を高分解能で駆動することで位置決め精度を向上させる場合には、遮光部材の駆動速度の低下、及び、追い込み処理が発生する確率が高まることに起因するスループットの低下を招く虞がある。
【００１０】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、スループットを低下させずに、遮光部材を高精度に位置決めするのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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