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公開番号2025098515
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-02
出願番号2023214698
出願日2023-12-20
発明の名称放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の制御方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人
主分類H04N 25/00 20230101AFI20250625BHJP(電気通信技術)
要約【課題】高精度の積算照射線量を算出できるようにする。
【解決手段】放射線撮像装置は、放射線に基づく信号を生成する検出画素と、前記検出画素の信号に基づく照射線量と、補正期間における前記検出画素の信号に基づく補正値とを基に、積算照射線量を算出する信号処理部とを有し、前記信号処理部は、前記検出画素の信号に基づく信号の微分値を基に、前記補正期間を決定する。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
放射線に基づく信号を生成する検出画素と、
前記検出画素の信号に基づく照射線量と、補正期間における前記検出画素の信号に基づく補正値とを基に、積算照射線量を算出する信号処理部とを有し、
前記信号処理部は、前記検出画素の信号に基づく信号の微分値を基に、前記補正期間を決定することを特徴とする放射線撮像装置。
続きを表示（約 980 文字）【請求項２】
前記微分値は、異なるタイミングで取得された前記検出画素の信号に基づく信号の差分であることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記微分値は、異なるタイミングで取得された前記検出画素の信号に基づく信号の移動平均の差分であることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記補正期間は、前記微分値が第１の閾値以上になる前の期間であることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項５】
前記検出画素よりも放射線に対する感度が低い補正画素をさらに有し、
前記信号処理部は、
前記補正期間における前記検出画素の信号と前記補正画素の信号とを基に前記補正値を算出し、
前記検出画素の信号と前記補正画素の信号とを基に前記照射線量を算出することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項６】
前記信号処理部は、前記照射線量の積算値から前記補正値を減算することにより、前記積算照射線量を算出することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記信号処理部は、放射線が照射されているときの前記検出画素及び前記補正画素の出力から、前記補正値を減算することにより、前記積算照射線量を算出することを特徴とする請求項５に記載の放射線撮像装置。
【請求項８】
前記積算照射線量が第２の閾値以上である場合、放射線照射の終了要求信号を送信する送信部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項９】
前記信号処理部は、所定の回数のタイミングで取得された前記検出画素の信号に基づく第１の値と、所定の回数のタイミングで取得された前記補正画素の信号に基づく第２の値と、直近のタイミングで取得された前記検出画素の信号と、直近のタイミングで取得された前記補正画素の信号とを基に、前記照射線量を算出することを特徴とする請求項５に記載の放射線撮像装置。
【請求項１０】
前記信号処理部は、前記補正期間における前記照射線量を基に、前記補正値を算出することを特徴とする請求項９に記載の放射線撮像装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の制御方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
現在、Ｘ線等の放射線による医療画像診断や非破壊検査に用いる放射線撮像装置として、半導体材料によって形成された平面検出器（ＦｌａｔＰａｎｅｌＤｅｔｅｃｔｏｒ：ＦＰＤ）を備えた放射線撮像装置が普及している。
【０００３】
放射線撮像装置の中には、照射された放射線の線量（累積線量）をモニタして当該累積線量が閾値に達した場合に放射線の照射を停止させる（例えば、放射線の照射を停止させるための照射停止信号を放射線発生装置に対して出力する）ものがある。この動作は、自動露光制御（ＡｕｔｏｍａｔｉｃＥｘｐｏｓｕｒｅＣｏｎｔｒｏｌ：ＡＥＣ）と称され、これによって、例えば放射線の過剰照射を抑制することができる。
【０００４】
このような放射線撮像装置として、例えば、ＦＰＤの撮像領域内に、撮像領域に到達する放射線の線量を検出する線量検出部を備える放射線撮像装置が知られている。例えば、放射線検出用に設定された画素のみを放射線照射中に高速に動作させることによって放射線量をモニタする。
【０００５】
特許文献１には、放射線の照射開始の要求を受信する前に、各画素のリセット動作中に、放射線検出用の画素のみ放射線量をモニタする動作を行い、オフセット成分を取得する放射線撮像装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０２０－８９７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の放射線撮像装置は、放射線量をモニタする動作のオフセット成分を取得するが、オフセット取得から実際の補正までの時間経過が大きくなると、画素の温度ドリフト成分などにより、信号の補正精度が低下しうる。特許文献１のオフセット成分の取得方法は精度については言及されているが、補正の精度を向上するために、取得のタイミングを改善する余地がある。
【０００８】
本開示の目的は、高精度の積算照射線量を算出できるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
放射線撮像装置は、放射線に基づく信号を生成する検出画素と、前記検出画素の信号に基づく照射線量と、補正期間における前記検出画素の信号に基づく補正値とを基に、積算照射線量を算出する信号処理部とを有し、前記信号処理部は、前記検出画素の信号に基づく信号の微分値を基に、前記補正期間を決定する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、高精度の積算照射線量を算出することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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