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公開番号2025094446
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-25
出願番号2023209997
出願日2023-12-13
発明の名称蒸着マスク及び発光素子の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250618BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】蒸着時における蒸着マスクと基板を密着させる際の成膜位置のズレが低減される蒸着マスクを提供する。
【解決手段】本開示の一様態は、基板と対向する対向面に配される凹部と、前記凹部を囲む周辺部と、を有するマスク基板と、前記マスク基板に配される複数の突起部、と、を有し、前記凹部の底部は、複数の開口と、前記複数の開口の間に配される梁部と、を有し、前記複数の突起部は前記梁部の上面に配され、前記周辺部の、前記基板と対向する対向面には突起部が配されないことを特徴とする蒸着マスクに関する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板と対向する対向面に配される凹部と、前記凹部を囲む周辺部と、を有するマスク基板と、
前記マスク基板に配される突起部と、
を有し、
前記凹部の底部は、第１方向で互いに隣接する第１開口及び第２開口と、前記第１方向で互いに隣接し、かつ前記第１方向と交差する第２方向で前記第１開口及び前記第２開口と隣接する第３開口及び第４開口と、前記第１開口と前記第２開口の間、前記第３開口と前記第４開口の間、前記第１開口と前記第３開口の間、前記第２開口と前記第４開口の間、及び前記第１開口と前記第４開口の間に配される梁部と、を有し、
前記突起部は前記梁部の上面に配され、
前記上面に対する平面視において、前記第１開口乃至前記第４開口と前記梁部を合わせた領域を第１領域とし、前記周辺部において前記第１領域と同じ面積で同じ外形を有する領域を第２領域とすると、
前記第２領域の前記対向面が、前記対向面と平行な平行面と接する面積は、前記第１領域の前記対向面が、前記平行面と接する面積より大きいことを特徴とする蒸着マスク。
続きを表示（約 770 文字）【請求項２】
前記第２領域の前記対向面の、前記平行面に対する摩擦力は、前記第１領域の前記対向面の、前記平行面に対する摩擦力より大きい請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
前記突起部の先端と、前記周辺部の前記対向面を有する部分とは、異なる材料を有する請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項４】
前記突起部の先端は樹脂を有し、前記周辺部の前記対向面は金属である請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項５】
前記突起部及び前記梁部を通る断面において、
前記対向面に垂直な方向における、前記凹部の前記上面から前記突起部の上面までの距離は、前記凹部の前記上面から前記周辺部の上面までの距離より大きい請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項６】
前記第１開口は前記第２方向において前記第３開口と隣接し、
前記第２開口は前記第２方向において前記第４開口と隣接し、
前記突起部は、前記梁部の前記第１開口と前記第４開口の間の部分に配される請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項７】
前記平面視において、前記梁部は、前記凹部の中で格子形状を有する請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項８】
複数の突起部を前記梁部の上面に有し、
前記突起部及び前記複数の突起部は、それぞれ前記格子形状の交差部のいずれかに配される請求項７に記載の蒸着マスク。
【請求項９】
前記周辺部は、底部と上部で異なる材料を有する請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項１０】
前記突起部の先端と、前記周辺部の前記対向面を有する部分は同じ材料を有する請求項１に記載の蒸着マスク。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、蒸着マスクおよび蒸着マスクを用いた有機発光素子の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
有機発光素子は、低電圧駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。有機発光素子は、一般的に基板上に陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極といった複数の積層構造で形成されている。この積層構造を形成する方法として、蒸発や昇華を用いた基板への真空蒸着方法、溶媒に有機材料を溶解させインクジェットやスピンコート等を用いた成膜方法が挙げられる。
【０００３】
中でも低分子材料を用いた積層構造の形成においては、パターンを配したマスクを用いた真空蒸着法を用いるのが一般的である。真空蒸着法では、基板上に所望のパターンを成膜するために、所望の画素開口部のパターンを有する蒸着マスクを、基板と蒸着材料の加熱部との間に設置し、成膜を行う。
【０００４】
真空蒸着法では、基板と蒸着マスクとを近接させ、蒸着時の蒸着ボケや蒸着ケラレを低減することが求められる。蒸着ボケとは、所望の蒸着範囲を越えた広範囲に蒸着材料が成膜されることである。これには、基板と蒸着マスクとの距離が重要である。蒸着時に基板と蒸着マスクを想定の位置関係に設置できたとしても、蒸着マスクの中央部分等では、画素開口を区画する桟部が、マスクの自重によって撓むことがある。これより、蒸着ボケが引き起こされる。
【０００５】
近年、有機発光素子の大型化が求められている。それに合わせて蒸着マスクも大型化する必要がある。蒸着マスクが大型化すると、上述の、蒸着マスクの桟部の、自重による撓みがより大きくなる。蒸着マスクが撓んでいると、蒸着の際に蒸着源が回り込んでしまい、基板上の所望の位置以外にも蒸着材料が成膜される、蒸着ボケが発生してしまう。
【０００６】
よって、基板と蒸着マスクの大型化を実現するためには、蒸着マスクと基板とを密着させることが必要である。そのために、磁性体のマスクを用いる場合、基板の裏面にマグネットを設置し、磁力により磁性体のマスクを基板に引き付ける方法が提案されている。この方法では基板と金属製の蒸着マスクが接触した際に、蒸着膜と金属製のマスクが擦れて、蒸着膜、基板の表面が損傷されてしまう可能性がある。そのため、特許文献１では、金属マスクの蒸着時に基板と対向する面側の表示部の外周に、樹脂の突起部を設けている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２００７－９５４１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、磁力により磁性体の蒸着マスクを基板に引き付けた際、金属マスク上の樹脂の突起物と基板の間の摩擦力が小さいため、マスクがずれて、所望の蒸着膜の成膜位置からズレが発生することがある。
【０００９】
本開示の技術は、上記に鑑みてなされたものであり、蒸着時における蒸着マスクと基板を密着させる際の成膜位置のズレを低減する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の一様態は、基板と対向する対向面に配される凹部と、前記凹部を囲む周辺部と、を有するマスク基板と、前記マスク基板に配される突起部、と、を有し、前記凹部の底部は、第１方向で互いに隣接する第１開口及び第２開口と、前記第１方向で互いに隣接し、かつ前記第１方向と交差する第２方向で前記第１開口及び前記第２開口と隣接する第３開口及び第４開口と、前記第１開口と前記第２開口の間、前記第３開口と前記第４開口の間、前記第１開口と前記第３開口の間、前記第２開口と前記第４開口の間、及び前記第１開口と前記第４開口の間に配される梁部と、を有し、前記突起部は前記梁部の上面に配され、前記上面に対する平面視において、前記第１開口乃至前記第４開口と前記梁部を合わせた領域を第１領域とし、前記周辺部において前記第１領域と同じ面積で同じ外形を有する領域を第２領域とすると、前記第２領域の前記対向面が、前記対向面と平行な平行面と接する面積は、前記第１領域の前記対向面が、前記平行面と接する面積より大きいことを特徴とする蒸着マスクに関する。
（【００１１】以降は省略されています）

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