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公開番号
2025066845
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-23
出願番号
2025017839,2024035166
出願日
2025-02-05,2013-11-05
発明の名称
多層配線構造体とその製造方法
出願人
大日本印刷株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H05K
3/46 20060101AFI20250416BHJP(他に分類されない電気技術)
要約
【課題】接続孔の底部などでの断線を低減させる多層配線構造体などを提供する。
【解決手段】本開示の一実施形態に係る多層配線構造体は、第1配線層102と、前記第1配線層102上に設けられ、前記第1配線層102の側面と少なくとも上面の一部とを覆って接する第1無機層104と、前記第1無機層104上に設けられる第1有機樹脂膜106と、を含む第1絶縁層と、前記第1有機樹脂膜106上に設けられる第2配線層108と、前記第2配線層108上に設けられ、前記第2配線層108の側面と少なくとも上面の一部とを覆って接する第2無機層109と、前記第2無機層109上に設けられる第2有機樹脂膜111と、を含む第2絶縁層と、を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
第1配線層と、
前記第1配線層上に設けられ、前記第1配線層の側面と少なくとも上面の一部とを覆って接する第1無機層と、前記第1無機層上に設けられる第1有機樹脂膜と、を含む第1絶縁層と、
前記第1有機樹脂膜上に設けられる第2配線層と、
前記第2配線層上に設けられ、前記第2配線層の側面と少なくとも上面の一部とを覆って接する第2無機層と、前記第2無機層上に設けられる第2有機樹脂膜と、を含む第2絶縁層と、
前記第2有機樹脂膜上に設けられる第3配線層と、
前記第3配線層上に設けられ、前記第3配線層の側面と少なくとも上面の一部とを覆って接する第3無機層と、前記第3無機層上に設けられる第3有機樹脂膜と、
を含む、多層配線構造体。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、多層配線構造体及びその製造方法に関する。特に、Cu配線が絶縁層を介して多層化された多層配線構造体及びその製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
複数の層に複数の配線が配置され、異なる層に配置された複数の配線を接続するための接続孔が設けられた多層配線構造体が知られている(例えば、特許文献1参照。)。このような多層配線構造体においては、層と層との間の絶縁材料として、ポリイミドなどの有機樹脂材料が用いられる場合が多い。有機樹脂材料の誘電率は一般的に小さな値であり、配線を伝達する信号の遅延が生じにくいからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2000-150519号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、有機樹脂材料の熱膨張率は配線の材料である銅などの熱膨張率よりも大きい。このため、配線構造体に熱サイクル試験を施したり高温の環境で使用したりすると、樹脂材料の熱膨張率と配線の熱膨張率との差により、接続孔の底部などで断線が起こりやすくなる。
【0005】
すなわち、有機樹脂の熱膨張率(線膨張率)は50~100E-6/Kであるのに対し、配線材として銅(Cu)を用いる場合には、配線材の熱膨張率(線膨張率)は17E-6/Kである。このように、有機樹脂の熱膨張率が配線材の熱膨張率が数倍大きく、配線層の形成工程において例えば200℃を超える雰囲気に曝された場合、接続孔の銅に引っ張り応力が発生することとなる。なお、引っ張り応力は有機樹脂の熱膨張が有機樹脂の上下の配線の間の距離を引き離す方向に作用するために発生する。
【0006】
このため、この引っ張り応力を緩和しようとして接続孔内の銅が移動しようとし、接続孔の底部にボイドが形成されることとなる。このボイドにより、上下の配線の間の電気的な接続不良が生じる。
【0007】
また、このようなボイドの発生以外にも、接続孔の底部及び側面を覆うバリア導電層と有機樹脂の密着力が低いので、バリア導電層の変形や有機樹脂からの剥離も発生する。
【0008】
一般にプリント基板やインターポーザーなどの多層配線構造は、-25℃から125℃までの温度の変化サイクルが発生する環境下で使用されることが想定されている。このような環境における温度の変化サイクルも接続孔内の銅に対して強い引っ張り応力を発生させ、上記と同様に接続不良が発生する。
【0009】
また、近年においてはLSIの微細化及び高集積化が進むとともに、プリント基板やインターポーザーへのLSIチップの実装が増える傾向にある。したがって、多層配線構造に対して配線層の高密度化の要求が一層高まっている。
【0010】
このような高密度化を実現するためには、配線の幅、配線の間隔及び接続孔のサイズを縮小し、さらに、接続銅の上部にさらに接続孔を重ねるスタックトビアと呼ばれる構造が
必要となる。このため、接続孔内の銅の引っ張り応力をさらに増大させ、接続の不良率の発生が高まり、信頼性を低下させる原因となっている。
(【0011】以降は省略されています)
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