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公開番号2025049897
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023158391
出願日2023-09-22
発明の名称セラミックスヒータおよび保持部材
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ガストンネルを備えていても保持面における均熱性を向上させることができる保持部材を提供すること。
【解決手段】保持面11と、Z軸方向にて保持面11とは反対側に設けられる下面12と、保持面11と下面12の間に配置されるヒータ電極60と、下面12側から保持面11上に不活性ガスを供給するためのガス通路40と、を備え、保持面11上に半導体ウエハWを保持する静電チャック1において、ガス通路40は、平面方向に延びて配置されるガストンネル44を備え、ヒータ電極60は、Z軸方向視にて、ガストンネル44と重ならないようにガストンネル44に沿ってガストンネル44の両側に配置される円弧部62,62及び折返部64,64を有する。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
第１の面と、厚み方向にて前記第１の面とは反対側に設けられる第２の面と、前記第１の面と前記第２の面の間に配置されるヒータ電極と、前記第２の面側から前記第１の面上に不活性ガスを供給するためのガス通路と、を備え、前記第１の面上に対象物を保持する保持部材において、
前記ガス通路は、平面方向に延びて配置されるガストンネルを備え、
前記ヒータ電極は、前記厚み方向視にて、前記ガストンネルと重ならないように前記ガストンネルに沿って前記ガストンネルの両側に配置される第１ヒータラインと第２ヒータラインを有する
ことを特徴とする保持部材。
続きを表示（約 380 文字）【請求項２】
請求項１に記載する保持部材において、
前記第１ヒータライン及び前記第２ヒータラインは、前記ヒータ電極のうち屈曲部同士が対向配置された部分のヒータラインである
ことを特徴とする保持部材。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載する保持部材において、
前記厚み方向視にて、前記第１ヒータラインと前記ガストンネルの間隔は、前記第２ヒータラインと前記ガストンネルの間隔と同じである
ことを特徴とする保持部材。
【請求項４】
請求項２に記載する保持部材において、
対向配置された前記第１ヒータラインと前記第２ヒータラインとの距離は、前記第１ヒータライン又は前記第２ヒータラインのうち対向する直線部分が長い方のヒータラインの長さより小さい
ことを特徴とする保持部材。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、対象物を保持する保持部材に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、半導体ウエハを保持するために、静電チャック（保持部材）が使用されている。この静電チャックは、静電引力を発生させて保持面に半導体ウエハを保持するようになっている。そして、半導体ウエハに対する各種プロセス処理を精度よく実施するためには、半導体ウエハの温度（静電チャックの保持面の温度）を均一に制御することが必要である。
【０００３】
このような静電チャックとして、例えば特許文献１に開示されたものがある。ここに開示されている静電チャックは、半導体ウエハを保持するセラミック絶縁体（保持部材）と、セラミック絶縁体を冷却するためのアルミベースとを有している。そして、セラミック絶縁体には、冷却ガスを半導体ウエハと静電チャックとの間に供給する冷却用ガス流路と、半導体ウエハを加熱するためのヒータとが設けられている。これにより、この静電チャックでは、アルミベース内を流れる冷媒の流量及び冷却ガスの流量と、ヒータの発熱量とを調整することにより、半導体ウエハの温度を均一に制御するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００７－１２７９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の静電チャックにおいて、冷却用ガス流路は断熱層として作用するため、冷却用ガス流路が形成されている部分で熱移動が阻害されてしまう。そのため、保持面において、冷却用ガス流路の直上領域が、他の領域と比べて温度が高くなりやすい。一方、保持面において、ヒータが配置されていない部分の直上領域は、ヒータが配置されている部分の直上領域に比べると温度が低くなりやすい。これらのことから、上記の静電チャックでは、保持面における均熱性が悪化するおそれがある。
【０００６】
そこで、本開示は上記した問題点を解決するためになされたものであり、保持面における均熱性を向上させることができる保持部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた本開示の一形態は、
第１の面と、厚み方向にて前記第１の面とは反対側に設けられる第２の面と、前記第１の面と前記第２の面の間に配置されるヒータ電極と、前記第２の面側から前記第１の面上に不活性ガスを供給するためのガス通路と、を備え、前記第１の面上に対象物を保持する保持部材において、
前記ガス通路は、平面方向に延びて配置されるガストンネルを備え、
前記ヒータ電極は、前記厚み方向視にて、前記ガストンネルと重ならないように前記ガストンネルに沿って前記ガストンネルの両側に配置される第１ヒータラインと第２ヒータラインを有することを特徴とする。
【０００８】
この保持部材では、ヒータ電極として第１ヒータラインと第２ヒータラインを備えており、それらの第１ヒータライン及び第２ヒータラインが、厚み方向視にて、ガストンネルと重ならないようにガストンネルに沿ってガストンネルの両側に配置されている。すなわち、ヒータ電極（第１ヒータライン及び第２ヒータライン）が、ガストンネルを挟むように配置されている。
【０００９】
これにより、第１の面において、ガストンネルの直上領域における温度上昇を抑制することができる一方、ヒータ電極が配置されていない部分の直上領域における温度低下を抑制することができる。そのため、第１の面において、ヒータ電極が配置されていない部分の直上領域と、ヒータ電極が配置されている部分の直上領域との温度差を小さくすることができる。従って、第１の面における均熱性を向上させることができる。
【００１０】
上記した保持部材において、
前記第１ヒータライン及び前記第２ヒータラインは、前記ヒータ電極のうち屈曲部同士が対向配置された部分のヒータラインであることが好ましい。
なお、ここでいう対向配置は、第１ヒータラインと第２ヒータラインの一部分が対向配置されていればよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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