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公開番号2025044036
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-01
出願番号2023151712
出願日2023-09-19
発明の名称皮膚化粧料
出願人日油株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類A61K 8/39 20060101AFI20250325BHJP(医学または獣医学;衛生学)
要約【課題】塗布後の肌にツヤともっちり感を与えることができ、さらに肌のテカリの発生を抑制し、その効果を長時間持続させ得る化粧料であって、肌のテカリが発生している場合にはコットン等に含浸させて拭き取ることで、さっぱり感を与えるとともに、余分な皮脂を除去して、テカリを除去することができる皮膚化粧料を提供する。
【解決手段】(A) 下記式(1)で示されるアルキレンオキシド誘導体を0.1質量%~3質量%、(B)炭素数3~6の二価アルコールを5質量%~30質量%、および(C)2-エチルヘキシルグリセリルエーテルを0.01質量%~0.4質量%含有する、皮膚化粧料とする。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025044036000015.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">7</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">136</com:WidthMeasure> </com:Image> [式中の記号は、明細書に記載の通りである。]
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
(A) 下記式(1)で示されるアルキレンオキシド誘導体を0.1質量%~3質量%、(B)炭素数3~6の二価アルコールを5質量%~30質量%、および(C)2-エチルヘキシルグリセリルエーテルを0.01質量%~0.4質量%含有する、皮膚化粧料。
TIFF
2025044036000012.tif
7
131
[式(1)中、Zは炭素数が1~7で、1個~7個の水酸基を有するヒドロキシ化合物からすべての水酸基を除いた残基を示し、xは、1~7の整数を示す。EOはオキシエチレン基を、POはオキシプロピレン基を示し、aおよびbは前記オキシエチレン基の平均付加モル数を、cは前記オキシプロピレン基の平均付加モル数を示す。1≦a≦60、1≦b≦40、1≦c≦60であり、b/cは1/10~5/1であり、a/(b+c)は1/10~5/1である。(EO)

/(PO)

は、平均付加モル数がbモルのオキシエチレン基と、平均付加モル数がcモルのオキシプロピレン基がランダム状に付加していることを示す。]
続きを表示(約 400 文字)【請求項2】
さらに、(D)美白剤を1質量%~6質量%含有する、請求項1に記載の皮膚化粧料。
【請求項3】
さらに、(E)下記式(2)で示される2-(メタ)アクリロイルオキシエチルホスホリルコリンに基づく構成単位および下記式(3)で示される(メタ)アクリル酸アルキルに基づく構成単位を含む共重合体を0.0005質量%~0.5質量%含有する、請求項1または2に記載の皮膚化粧料。
JPEG
2025044036000013.jpg
67
139
[式中、R

は水素原子またはメチル基を示す。]
JPEG
2025044036000014.jpg
50
112
[式中、R

は水素原子またはメチル基を示し、R

は炭素数4~18のアルキル基を示す。]

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、テカリの発生を抑制し、かつテカリを除去し得る皮膚化粧料に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
健康的で明るい肌に見せるためには、ツヤがあり、もっちりとした肌を維持することが重要である。肌の水分量が低下し、肌が乾燥すると、ツヤともっちり感は失われてしまい、肌のくすみの原因となる。肌の乾燥を防ぎ、ツヤともっちり感を維持するために、一般的に多価アルコール等の保湿剤や油剤を配合した化粧料が用いられる。このような化粧料には、ツヤやもっちり感を与える効果を有しつつも、べたつかずさっぱりとした仕上がりが求められる。しかしながら、肌にツヤやもっちり感を与えるのに十分な量の保湿剤、油剤を配合すると、べたつきが生じ、さっぱり感が得られない場合があった。そのため、ツヤ、もっちり感、さっぱり感をいずれも損なうことがない化粧料が求められている。
【0003】
また、肌のテカリは、最も多い皮膚の悩みやトラブルの一つである。テカリは、皮脂が過剰に分泌され、光が皮脂の油分で反射されることにより発生する。テカリの原因となる皮脂は、肌が乾燥している場合や、夏季、運動後等、発汗しやすい状況下で多く分泌される。かかる皮脂によるテカリを抑制するために、種々の化粧料が使用されている。
化粧下地のような化粧料の多くは、シリカ等の多孔質無機粉体を油分の吸収剤として配合することで、テカリを抑制する。特許文献1には、弾力感を有しつつ、べたつきおよびテカリを抑制する皮膚用化粧料として、シリカおよび粘土鉱物から選ばれる1種以上を、ビスステアリルポリエチレングリコール/ポリプロピレングリコール-8/6(メチレンジフェニルジイソシアネート/PEG-400)共重合体等、特定の化合物等とともに含有する皮膚用化粧料が記載されている。しかしながら、吸油性を示す粉体を用いてテカリを抑制する化粧料は、使用後の肌に粉体が残ることにより、肌のツヤやもっちり感が損なわれる場合がある。
【0004】
吸油性無機粉体による方法の他にテカリの発生を抑制する手段としては、化粧料による保湿で肌の乾燥を防ぐ、分泌された皮脂を原因とする光の反射を阻害する等の手法が考えられるが、さらに種々の検討がなされている。
たとえば特許文献2には、皮脂によるテカリの発生を長期間抑制し、かつ肌の落屑を改善する皮膚化粧料として、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン、特定の水不溶性高分子、および多価アルコールを含有する化粧料組成物が記載されている。しかしながら、特許文献2に記載された化粧料組成物は、既に発生しているテカリを除去し得るものではなかった。
【0005】
既にテカリが発生している肌では、テカリの原因である余分な皮脂を除去する必要がある。また、気温および湿度の高い夏季や、運動後、風呂上がり等、短時間で皮脂が分泌されやすい状況下でテカリを抑制するには、テカリの原因となる皮脂を除去すると同時に、テカリを抑制する成分を皮膚に塗布する必要がある。
皮脂汚れを除去し得る化粧料として、拭き取り化粧料が注目されている。拭き取り化粧料は、コットン等に化粧料を含浸させ、皮膚を拭き取るようにして使用する剤形であり、皮脂汚れや角質の除去が可能で、さっぱりとした仕上がりが特徴である。
特許文献3では、拭き取り化粧料に特定の界面活性剤およびエタノールを配合することで、皮脂の除去効果を高める検討がなされており、HLB値が11~15のノニオン界面活性剤およびエタノールを含有する水性組成物を、レーヨン含有率が80重量%以上である不織布に含浸させた拭き取りシートが提案されている。しかしながら、特許文献3に記載された拭き取りシートは、皮脂の除去効果に優れるものの、テカリの抑制効果を持続させ得るものではなかった。また、エタノールにより皮脂を除去するため、肌のツヤが損なわれることがあった。
【0006】
すなわち、従来の皮膚化粧料において、テカリの抑制効果とテカリの除去効果を同時に施す処方設計が為されていないという課題があった。また、従来の皮脂を除去し得る拭き取り化粧料には、さっぱり感と肌のツヤの両立が困難であるという課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2020-090446号公報
特開2013-166746号公報
特開2015-110550号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
そこで本発明は、上記の課題に鑑み、塗布後の肌にツヤともっちり感を与えることができ、さらに肌のテカリの発生を抑制し、その効果を長時間持続させ得る化粧料であって、肌のテカリが発生している場合にはコットン等に含浸させて拭き取ることで、良好なさっぱり感を与え、余分な皮脂を除去して、テカリを除去することができる皮膚化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、(A)下記式(1)で示されるアルキレンオキシド誘導体、(B)炭素数が3~6の二価アルコール、および(C)2-エチルヘキシルグリセリルエーテルを、それぞれ所定量組み合わせて含有する皮膚化粧料とすることによって、塗布後にツヤともっちり感を与え、さらに肌のテカリの発生を抑制し、その効果を長時間持続させることができ、肌のテカリが発生している場合には、コットン等に含浸させて拭き取ることで、さっぱり感を与えるとともに、余分な皮脂を除去し、テカリを除去することができることを見出し、さらに検討して、本発明を完成するに至った。
【0010】
すなわち本発明は、以下に関する。
[1] (A) 下記式(1)で示されるアルキレンオキシド誘導体を0.1質量%~3質量%、(B)炭素数3~6の二価アルコールを5質量%~30質量%、および(C)2-エチルヘキシルグリセリルエーテルを0.01質量%~0.4質量%含有する、皮膚化粧料。
(【0011】以降は省略されています)

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