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公開番号2024144703
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-11
出願番号2024128659,2021545722
出願日2024-08-05,2021-03-18
発明の名称光透過性導電膜および透明導電性フィルム
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人いくみ特許事務所
主分類C23C 14/08 20060101AFI20241003BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】低抵抗化を図るのに適するとともに黄色味を抑制するのに適した光透過性導電膜、当該光透過性導電膜を備える透明導電性フィルム、および、透明導電性フィルム付き物品を提供する。
【解決手段】光透過性導電膜20は、インジウム含有導電性酸化物を含み、かつ、クリプトンを0.1原子%未満の含有割合で含有する第1領域21を、厚さ方向の少なくとも一部に含む。光透過性導電膜20は、インジウム含有導電性酸化物を含み、かつ、クリプトンを含有しない第2領域22を、厚さ方向の少なくとも一部に含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
厚さを有する光透過性導電膜であって、
インジウム含有導電性酸化物を含み、かつ、クリプトンを０.１原子％未満の含有割合で含有する第１領域を、前記厚さ方向の少なくとも一部に含み、
インジウム含有導電性酸化物を含み、かつ、クリプトンを含有しない第２領域を、前記厚さ方向の少なくとも一部に含む、光透過性導電膜。
続きを表示（約 180 文字）【請求項２】
前記第２領域はアルゴンを含有する、請求項１に記載の光透過性導電膜。
【請求項３】
パターニングされている、請求項１または２に記載の光透過性導電膜。
【請求項４】
透明基材と、
前記透明基材の厚さ方向一方面側に配置された、請求項１から３のいずれか一つに記載の光透過性導電膜と、を備える透明導電性フィルム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電膜および透明導電性フィルムに関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、タッチパネル、および光センサなどの各種デバイスにおける透明電極は、光透過性と導電性とを兼ね備えた膜（光透過性導電膜）から形成される。光透過性導電膜は、デバイスが備える帯電防止層としても用いられる。光透過性導電膜は、例えば、スパッタリング法で透明基材上に導電性酸化物を成膜することによって、形成される。スパッタリング法では、ターゲット（成膜材料供給材）に衝突してターゲット表面の原子を弾き出すためのスパッタリングガスとして、アルゴンなどの不活性ガスが用いられる。このような光透過性導電膜に関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平５－３３４９２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光透過性導電膜には、低抵抗であることが要求される。特に透明電極用途の光透過性導電膜には、その要求が強い。また、ディスプレイ用途や窓用途、車載用途などの光透過性導電膜には、良好な外観の確保の観点から、黄色味が抑えられていることも要求される。
【０００５】
本発明は、低抵抗化を図るのに適するとともに黄色味を抑制するのに適した光透過性導電膜、および、当該光透過性導電膜を備える透明導電性フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明［１］は、厚さを有する光透過性導電膜であって、クリプトンを０.１原子％未満の含有割合で含有する領域を、前記厚さ方向の少なくとも一部に含む、光透過性導電膜を含む。
【０００７】
本発明［２］は、前記厚さ方向の全域において、クリプトンを０.１原子％未満の含有割合で含有する、上記［１］に記載の光透過性導電膜を含む。
【０００８】
本発明［３］は、クリプトンを含有しない領域を、厚さ方向の少なくとも一部に含む、上記［１］に記載の光透過性導電膜を含む。
【０００９】
本発明［４］は、クリプトンを含有しない前記領域はアルゴンを含有する、上記［３］に記載の光透過性導電膜を含む。
【００１０】
本発明［５］は、パターニングされている、上記［１］から［４］のいずれか一つに記載の光透過性導電膜を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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