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公開番号2024143151
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-11
出願番号2023055676
出願日2023-03-30
発明の名称透明導電性フィルム
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人いくみ特許事務所
主分類H01B 5/14 20060101AFI20241003BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】透明導電層の低抵抗性と屈曲性とを両立するのに適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性フィルムXは、透明基材10と透明導電層20とを厚さ方向Hに順に備える。透明導電層20は、100nm以上の厚さを有する。透明導電層20は、非晶質層21と結晶質層22とを透明基材10側からこの順で有する。非晶質層21は、結晶質層22より厚い。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
透明基材と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、
前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い、透明導電性フィルム。
続きを表示（約 270 文字）【請求項２】
前記結晶質層の厚さに対する前記非晶質層の厚さの比率が１.２以上である、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記結晶質層の厚さに対する前記非晶質層の厚さの比率が５以下である、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層である、請求項１から３のいずれか一つに記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
前記非晶質層の酸化スズ割合が前記結晶質層の酸化スズ割合より高い、請求項４に記載の透明導電性フィルム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルムに関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、樹脂製の透明基材と透明な導電層（透明導電層）とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムが知られている。透明導電層は、例えば、ディスプレイパネル、タッチパネル、および太陽電池などの各種デバイスにおける透明電極を形成するための導体膜として用いられる。透明導電層は、例えば、スパッタリング法で透明基材上に導電性酸化物を成膜することにより、結晶質または非晶質の導電性酸化物層として形成される。このような透明導電性フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１６－１５７０２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
透明導電性フィルムの透明導電層には、低抵抗であることが要求される。特に透明電極用の透明導電性フィルムに対し、その要求は強い。低抵抗性の観点からは、透明導電層は、非晶質であるよりも結晶質である方がよい。一方、透明導電性フィルムの透明導電層には、屈曲時にクラックが生じにくいこと（屈曲性）も要求される。特に、繰り返し折り曲げられるデバイス（フォルダブルデバイス）用の透明導電性フィルムには、優れた屈曲性が求められる。屈曲性の観点からは、透明導電層は、結晶質であるよりも非晶質である方がよい。透明導電層の低抵抗性と屈曲性とは、このようなトレードオフの関係にある。
【０００５】
本発明は、透明導電層の低抵抗性と屈曲性とを両立するのに適した透明導電性フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明［１］は、透明基材と透明導電層とを厚さ方向に順に備える透明導電性フィルムであって、前記透明導電層が１００ｎｍ以上の厚さを有し、前記透明導電層が、非晶質層と結晶質層とを前記透明基材側からこの順で有し、前記非晶質層が前記結晶質層より厚い、透明導電性フィルムを含む。
【０００７】
本発明［２］は、前記結晶質層の厚さに対する前記非晶質層の厚さの比率が１.２以上である、上記［１］に記載の透明導電性フィルムを含む。
【０００８】
本発明［３］は、前記結晶質層の厚さに対する前記非晶質層の厚さの比率が５以下である、上記［１］または［２］に記載の透明導電性フィルムを含む。
【０００９】
本発明［４］は、前記透明導電層がインジウムスズ複合酸化物層である、上記［１］から［３］のいずれか一つに記載の透明導電性フィルムを含む。
【００１０】
本発明［５］は、前記非晶質層の酸化スズ割合が前記結晶質層の酸化スズ割合より高い、上記［４］に記載の透明導電性フィルムを含む。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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