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公開番号2024141756
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-10
出願番号2023053571
出願日2023-03-29
発明の名称感光性組成物、および、半導体集積回路の製造方法
出願人国立大学法人大阪大学,ナガセケムテックス株式会社,長瀬産業株式会社
代理人弁理士法人WisePlus
主分類G03F 7/075 20060101AFI20241003BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】優れたエッチング耐性とともに高い感度と解像度を有する材料を含む感光性組成物、および、該組成物を用いた半導体集積回路の製造方法を提供する。
【解決手段】アリール基とアルキル基と水素基とを含む置換基を有し、前記アルキル基と前記アリール基の合計100モル%中のアリール基の割合が30モル%以下であり、全置換基中の前記水素基の割合が5~50モル%である梯子型ポリシルセスキオキサンを含む感光性組成物に関する。
【選択図】なし

特許請求の範囲【請求項1】
アリール基とアルキル基と水素基とを含む置換基を有し、前記アルキル基と前記アリール基の合計100モル%中のアリール基の割合が30モル%以下であり、全置換基中の前記水素基の割合が5~50モル%である梯子型ポリシルセスキオキサンを含む感光性組成物。
続きを表示(約 510 文字)【請求項2】
前記梯子型ポリシルセスキオキサンの重量平均分子量が3000~6000である請求項1に記載の感光性組成物。
【請求項3】
前記水素基の割合が10~30モル%である請求項1または2に記載の感光性組成物。
【請求項4】
前記アリール基の割合が25モル%以下である請求項1または2に記載の感光性組成物。
【請求項5】
前記梯子型ポリシルセスキオキサンの固形分中の濃度が50質量%以上である請求項1または2に記載の感光性組成物。
【請求項6】
さらに、架橋剤または感光剤を含む請求項1または2に記載の感光性組成物。
【請求項7】
ネガ形レジスト材料である請求項6に記載の感光性組成物。
【請求項8】
さらに、溶解抑制剤を含む請求項1または2に記載の感光性組成物。
【請求項9】
ポジ形レジスト材料である請求項8に記載の感光性組成物。
【請求項10】
高エネルギー線リソグラフィー用感光性組成物である請求項1または2に記載の感光性組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、感光性組成物、および、該感光性組成物を用いた半導体集積回路の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
集積回路の高集積化に伴い、リソグラフィーによる微細加工は、近年、数ナノメートルオーダーの超微細パターン形成が要求されるようになってきている。この要求に伴い、露光波長が短波長化しており、現在では、電子線あるいは次世代のリソグラフィー技術として、波長13.5nmの極端紫外光(EUV)リソグラフィーなどの研究開発が進められている。特にEUVによるパターン微細化の進展に対し、主流のレジスト材料とされている化学増幅型レジストのパターン形成性能が要求仕様に対し不十分になると懸念されている。また、数ナノメートルオーダーの分子サイズに近いパターン形成になると、更なる高精度なパターン形成性能が求められ、新たなレジスト材料が要望されてくる。
【0003】
パターン微細化に伴い、パターン形成に使用する感光性組成物であるレジストの膜厚も薄くする必要がある。このため、レジストの微細パターンをマスクとして下地をエッチング加工する際、レジストのエッチング耐性が不十分になる。さらに、数ナノメートルオーダーの分子サイズに近いパターン形成になると、パターン形成の精度に関わる不規則的に発生する微細な欠陥(「Stochastic欠陥」)という新たな課題が懸念されている。
【0004】
特許文献1には、ポリシルセスキオキサンを含む放射線感応性組成物と、それを用いたパターン形成方法が開示されている。しかしながら、ポジ型レジストを意図しており、露光波長も長波長を想定し、短波長では超微細パターンを形成することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開昭61-144639号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、優れたエッチング耐性とともに高い感度と解像度を有する材料を含む感光性組成物、および、該組成物を用いた半導体集積回路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、特定の梯子型ポリシルセスキオキサンが優れたエッチング耐性ととともに高い感度と解像度を有し、特に微細加工が要求されるパターンの形成に極めて好適であることを見出し、本発明を完成した。
【0008】
すなわち、本発明(1)は、アリール基とアルキル基と水素基とを含む置換基を有し、前記アルキル基と前記アリール基の合計100モル%中のアリール基の割合が30モル%以下であり、全置換基中の前記水素基の割合が5~50モル%である梯子型ポリシルセスキオキサンを含む感光性組成物である。
【0009】
本発明(2)は、前記梯子型ポリシルセスキオキサンの重量平均分子量が3000~6000である本発明(1)に記載の感光性組成物である。
【0010】
本発明(3)は、前記水素基の割合が10~30モル%である本発明(1)または(2)に記載の感光性組成物である。
(【0011】以降は省略されています)

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