TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024127828
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-09-20
出願番号
2024033140
出願日
2024-03-05
発明の名称
積層体及び該積層体を含む表示装置
出願人
住友化学株式会社
代理人
弁理士法人アスフィ国際特許事務所
主分類
G02B
5/20 20060101AFI20240912BHJP(光学)
要約
【課題】本発明は、光吸収層における面内ムラを抑えることができる積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る積層体は、発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層と、光吸収層とを含み、前記波長変換層と前記光吸収層の間に、オーバーコート層が備えられ、前記オーバーコート層の膜厚が15μm以下であることを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層と、光吸収層とを含み、
前記波長変換層と前記光吸収層の間に、オーバーコート層が備えられ、
前記オーバーコート層の膜厚が15μm以下である積層体。
続きを表示(約 670 文字)
【請求項2】
(オーバーコート層の厚み+光吸収層の厚み)/波長変換層の厚みで求められる膜厚比が、0.100以上5以下である請求項1に記載の積層体。
【請求項3】
前記積層体の厚みに対する光吸収層の厚み比(光吸収層/積層体)は、0.030以上0.300以下である請求項1に記載の積層体。
【請求項4】
下記i)及びii)を満足する請求項1に記載の積層体。
i)前記オーバーコート層の屈折率は、前記波長変換層の屈折率より小さい
ii)前記オーバーコート層の屈折率は、前記光吸収層の屈折率より小さい
【請求項5】
前記波長変換層、前記光吸収層及び前記オーバーコート層は、式1に示す値が0.30以下である請求項1に記載の積層体。
{Q
20
/(T
20
+T
30
)}/{Q
10
/T
10
} …(式1)
[式1中、
Q
10
:波長変換層中の発光性無機半導体粒子と有機配位子の合計量(g)
Q
20
:光吸収層中の着色剤の合計量(g)
T
10
:波長変換層の厚み(μm)
T
20
:光吸収層の厚み(μm)
T
30
:オーバーコート層の厚み(μm)]
【請求項6】
請求項1~5のいずれか一項に記載の積層体を含む表示装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、オーバーコート層を含む積層体及び該積層体を含む表示装置に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物、及び該硬化性樹脂組成物を用いて形成される波長変換膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2016-065178号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年、表示装置には、さらなる広色域化が求められている。例えば、スーパーハイビジョン(SHV)の映像フォーマットを規定した勧告Rec.ITU-R BT.2020が発行されているところ、色再現域をより一層広げて、これによりRec.ITU-R BT.2020の色域の包含率(Rec.ITU-R BT.2020の色再現域に対する、当該色再現域の中で表現することが可能な色域の比)をより高めることが求められている。
【0005】
一次光源からの一次光を吸収して波長変換(色変換)された光を放出する波長変換層を備える表示装置においては、通常、波長変換層に照射される一次光のすべてが波長変換層によって吸収される訳ではなく、一部の光は波長変換層を透過して視認側に漏れる。これが、表示装置の広色域化を妨げる一因になり得る。この問題の1つの解決策は、波長変換層を透過した一次光を吸収する光吸収層を波長変換層上に配置することである。しかし、積層構造としたことで光吸収層に面内ムラが形成されやすく、これを抑えることは表示装置全体の発光強度ムラを観点からも重要である。本発明は、光吸収層における面内ムラを抑えることができる積層体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る要旨は、以下の通りである。
[1] 発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層と、光吸収層とを含み、
前記波長変換層と前記光吸収層の間に、オーバーコート層が備えられ、
前記オーバーコート層の膜厚が15μm以下である積層体。
[2] (オーバーコート層の厚み+光吸収層の厚み)/波長変換層の厚みで求められる膜厚比が、0.100以上5以下である[1]に記載の積層体。
[3] 前記積層体の厚みに対する光吸収層の厚み比(光吸収層/積層体)は、0.030以上0.300以下である[1]または[2]に記載の積層体。
[4] 下記i)及びii)を満足する[1]~[3]のいずれか一項に記載の積層体。
i)前記オーバーコート層の屈折率は、前記波長変換層の屈折率より小さい
ii)前記オーバーコート層の屈折率は、前記光吸収層の屈折率より小さい
[5] 前記波長変換層、前記光吸収層及び前記オーバーコート層は、式1に示す値が0.30以下である[1]~[4]のいずれか一項に記載の積層体。
{Q
20
/(T
20
+T
30
)}/{Q
10
/T
10
} …(式1)
[式1中、
Q
10
:波長変換層中の発光性無機半導体粒子と有機配位子の合計量(g)
Q
20
:光吸収層中の着色剤の合計量(g)
T
10
:波長変換層の厚み(μm)
T
20
:光吸収層の厚み(μm)
T
30
:オーバーコート層の厚み(μm)]
[6] [1]~[5]のいずれか一項に記載の積層体を含む表示装置。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、積層体を波長変換層と光吸収層の間にさらにオーバーコート層を備える構成とし、オーバーコート層の厚みを15μm以下に調整したことにより、光吸収層における面内ムラを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
本発明に係る積層体の一例を示す概略断面図である。
本発明に係る積層体の他の一例を示す概略断面図である。
本発明に係る表示装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
<積層体>
本発明に係る積層体(好ましくは光学積層体)は、波長変換層と光吸収層を含み、前記波長変換層と前記光吸収層の間に、オーバーコート層が備えられる点に特徴を有する。
【0010】
図1は本発明に係る積層体の一例を示す概略断面図である。図1に示される積層体は、波長変換層10と、光吸収層20を含み、波長変換層10と光吸収層20の間にオーバーコート層30を有する。図1に示す積層体のように、オーバーコート層30は波長変換層10上に直接積層され、オーバーコート層30と波長変換層10とは接していてもよい。また光吸収層20はオーバーコート層30上に直接積層され、光吸収層20とオーバーコート層30とは接していてもよい。図1には示されないが、オーバーコート層30と波長変換層10との間、オーバーコート層30と光吸収層20との間、あるいは光吸収層20上には、他の層(ただし波長変換層10、オーバーコート層30及び光吸収層20とは異なる層)が存在していてもよい。光吸収層20は、例えば、波長変換層10の光取り出し方向側に配置される。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
住友化学株式会社
樹脂組成物
1か月前
住友化学株式会社
サンプリングボックス
12日前
住友化学株式会社
光学積層体、画像表示装置
1か月前
住友化学株式会社
化合物及びそれを含む組成物
1か月前
住友化学株式会社
化合物及びそれを含む組成物
1か月前
住友化学株式会社
芳香族複素環化合物の製造方法
11日前
住友化学株式会社
分離膜エレメントおよび分離装置
11日前
住友化学株式会社
樹脂組成物及び有機材料の安定化方法
19日前
住友化学株式会社
複素環化合物を用いる有害節足動物防除方法
1か月前
住友化学株式会社
複素環化合物を用いる有害節足動物防除方法
8日前
住友化学株式会社
複素環化合物を用いる有害節足動物防除方法
1か月前
住友化学株式会社
被検液の汲み取り容器及び電気化学的測定方法
1か月前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
19日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
19日前
住友化学株式会社
アゾ化合物、組成物、膜、積層体および表示装置
4日前
住友化学株式会社
粘着剤組成物、粘着剤層、及び、粘着剤付き偏光板
1か月前
住友化学株式会社
塩
1か月前
住友化学株式会社
スルホンアミド化合物を用いる有害節足動物防除方法
今日
住友化学株式会社
スルホンアミド化合物を用いる有害節足動物防除方法
19日前
住友化学株式会社
スルホンアミド化合物を用いる有害節足動物防除方法
今日
住友化学株式会社
スルホンアミド化合物を用いる有害節足動物防除方法
5日前
住友化学株式会社
樹脂組成物及びその製造方法、並びに、成形体及びギヤ
11日前
住友化学株式会社
積層体
1か月前
住友化学株式会社
硬化性樹脂組成物、硬化膜、表示装置、及び固体撮像素子
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
7日前
住友化学株式会社
レジスト組成物
21日前
住友化学株式会社
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
8日前
住友化学株式会社
樹脂シート用プロピレン系重合体組成物、樹脂シート、および、容器
5日前
続きを見る
他の特許を見る