特許ウォッチ

公開番号2024109046
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-13
出願番号2023216424
出願日2023-12-22
発明の名称被膜形成方法
出願人ベック株式会社
代理人
主分類C09D 163/00 20060101AFI20240805BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】
上塗材との付着性に優れ、形成被膜の光沢度を高めることができる被膜形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、金属基材に対し、下塗材を塗付した後、上塗材を塗付する被膜形成方法であって、上記下塗材が、エポキシ樹脂(A)、ポリアミン化合物(B)、着色顔料(C)、及び体質顔料(D)を含み、上記体質顔料(D)として扁平状体質顔料(d)を含み、上記扁平状体質顔料(d)中に、粒子径が10μm以下の扁平状体質顔料(d1)及び粒子径が10μm超の扁平状体質顔料(d2)を含むことを特徴とする。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
金属基材に対し、下塗材を塗付した後、上塗材を塗付する被膜形成方法であって、
上記下塗材が、エポキシ樹脂（Ａ）、ポリアミン化合物（Ｂ）、着色顔料（Ｃ）、及び体質顔料（Ｄ）を含み、
上記体質顔料（Ｄ）として扁平状体質顔料（ｄ）を含み、
上記扁平状体質顔料（ｄ）中に、粒子径が１０μｍ以下の扁平状体質顔料（ｄ１）及び粒子径が１０μｍ超の扁平状体質顔料（ｄ２）を含むことを特徴とする被膜形成方法。
続きを表示（約 130 文字）【請求項２】
上記体質顔料（Ｄ）中に、扁平状体質顔料（ｄ）を２０質量％以上含むことを特徴とする請求項１に記載の被膜形成方法。
【請求項３】
上記下塗材の顔料体積濃度は２０～７５％であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の被膜形成方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な被膜形成方法に関するものである。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
建築物、土木構造物等に使用される金属基材においては、その防食性や美観性等を高める目的で各種の塗装が施されている。このような塗装においては、下塗材及び上塗材を用いる場合が多く、このうち下塗材としては、金属基材への付着性と防食性に優れるエポキシ樹脂系塗料が多く採用されている。
【０００３】
しかし、エポキシ樹脂塗材は、上塗材を塗装するまでの塗装間隔が規定されており、その上限期間を過ぎると、上塗材との付着性が著しく低下することが知られている。このような問題に対し、例えば、特許文献１では、ダイマー酸とビスフェノール型エポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシエステル樹脂をバインダー樹脂として採用することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平８－０４８９１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、上塗材として採用される塗料の種類は多岐にわたっており、上塗材の種類によっては十分な付着性を確保することが難しい場合があり、改善の余地があった。また、上塗材を塗装した場合、形成被膜の光沢度が低下するおそれがあった。
【０００６】
本発明は、このような点に鑑みなされたものであり、上塗材との付着性に優れ、形成被膜の光沢度を高めることができる被膜形成方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような課題を解決するために本発明者らは、鋭意検討の結果、エポキシ樹脂（Ａ）、ポリアミン化合物（Ｂ）、着色顔料（Ｃ）、及び特定の体質顔料（Ｄ）を含む下塗材を使用する被膜形成方法に想到し、本発明を完成するに到った。
【０００８】
すなわち、本発明は以下の特徴を有するものである。
１．金属基材に対し、下塗材を塗付した後、上塗材を塗付する被膜形成方法であって、
上記下塗材が、エポキシ樹脂（Ａ）、ポリアミン化合物（Ｂ）、着色顔料（Ｃ）、及び体質顔料（Ｄ）を含み、
上記体質顔料（Ｄ）として扁平状体質顔料（ｄ）を含み、
上記扁平状体質顔料（ｄ）中に、粒子径が１０μｍ以下の扁平状体質顔料（ｄ１）及び粒子径が１０μｍ超の扁平状体質顔料（ｄ２）を含むことを特徴とする被膜形成方法。
２．上記体質顔料（Ｄ）中に、扁平状体質顔料（ｄ）を２０質量％以上含むことを特徴とする１．に記載の被膜形成方法。
３．上記下塗材の顔料体積濃度は２０～７５％であることを特徴とする１．または２．に記載の被膜形成方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の被膜形成方法によれば、上塗材との付着性に優れ、形成被膜の光沢度を高めることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許