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公開番号
2025151135
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-09
出願番号
2024052402
出願日
2024-03-27
発明の名称
ろ過処理方法、及び多孔質膜
出願人
東京応化工業株式会社
代理人
個人
主分類
B01D
71/56 20060101AFI20251002BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】高温で流体のろ過を行う場合でも、ろ過できなかったり、著しくろ過速度が低下したりしない、流体のろ過処理方法と、当該ろ過処理方法において好適に用いられる多孔質膜とを提供すること。
【解決手段】25℃以上の温度の流体を多孔質膜によりろ過するろ過処理方法において、連通孔を有し、且つ平均孔径が0.3μm以上であるポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜を多孔質膜として用いる。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
流体をフィルターによりろ過する流体のろ過処理方法であって、
前記流体の温度が25℃以上であり、
前記フィルターが、連通孔を有する多孔質膜であって、
前記多孔質膜が、ポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜であり、
前記多孔質膜の平均孔径が、0.3μm以上である、方法。
続きを表示(約 430 文字)
【請求項2】
前記多孔質膜の平均孔径が、0.3μm以上0.8μm以下である、請求項1に記載の流体のろ過処理方法。
【請求項3】
前記流体の温度が、50℃以上200℃以下である、請求項1に記載の流体のろ過処理方法。
【請求項4】
前記流体の温度が、60℃以上80℃以下である、請求項2に記載の流体のろ過処理方法。
【請求項5】
前記流体の20℃における粘度が5.0Pa・s以上であり、前記流体のろ過温度での粘度が8.0Pa・s以下である、請求項1に記載のろ過方法。
【請求項6】
前記流体が、有機溶媒である、請求項1に記載のろ過方法。
【請求項7】
請求項1~6のいずれかに記載の方法において用いられる、多孔質膜であって、
前記多孔質膜が、ポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜であり、
平均孔径が、0.3μm以上である、多孔質膜。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、多孔質膜を用いる流体のろ過処理方法、及び当該ろ過処理方法において好適に用いられる多孔質膜に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
従来より、半導体デバイスの製造に用いられる、有機溶媒、レジスト組成物、ワニス等に対して、不純物の除去を目的とするフィルターを用いたろ過処理が行われている。
【0003】
半導体デバイス等の用途に使用される薬液や樹脂材料から不純物を除去し得るフィルター膜として、ナイロン、ポチエチレン、ポリプロピレン、PTFE等が一般的であり、例えば、ナイロン等のフィルター膜を用いることで、有機系の不純物も除去されることが知られている(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特許第4637476号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
半導体デバイスの製造において、加熱された有機溶媒が用いられたり、比較的粘度の高いワニスが用いられたりする場合がある。粘度の高いワニスをろ過処理する場合には、ワニスの粘度を下げるため、ワニスが温められる。このような事情から、半導体デバイスの製造において使用される薬液は、しばしば高温でろ過される。
【0006】
しかし、特許文献1に記載されるようなナイロン、ポチエチレン、ポリプロピレン、PTFE等からなる多孔質膜をフィルターとして用いる場合、高温でろ過を行うと、多孔質膜のシュリンクによるろ過速度の低下が生じる場合がある。
【0007】
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、高温で流体のろ過を行う場合でも、ろ過できなかったり、著しくろ過速度が低下したりしない、流体のろ過処理方法と、当該ろ過処理方法において好適に用いられる多孔質膜とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、25℃以上の温度の流体を多孔質膜によりろ過するろ過処理方法において、連通孔を有し、且つ平均孔径が0.3μm以上であるポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜を多孔質膜として用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。
【0009】
本発明の第1の態様は、流体をフィルターによりろ過する流体のろ過処理方法であって、
流体の温度が25℃以上であり、
フィルターが、連通孔を有する多孔質膜であって、
多孔質膜が、ポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜であり、
多孔質膜の平均孔径が、0.3μm以上である、方法に関する。
【0010】
本発明の第2の態様は、第1の態様にかかる方法において用いられる、多孔質膜であって、
多孔質膜が、ポリイミド樹脂多孔質膜、又はポリアミドイミド樹脂多孔質膜であり、
平均孔径が、0.3μm以上である、多孔質膜である。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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