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公開番号
2025151098
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-09
出願番号
2024052342
出願日
2024-03-27
発明の名称
鉛の回収方法
出願人
JX金属株式会社
代理人
個人
主分類
C22B
13/02 20060101AFI20251002BHJP(冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理)
要約
【課題】 メタル成分の直行率を高くすることができる、鉛の回収方法を提供する。
【解決手段】 鉛の回収方法は、鉛原料を溶融する溶融工程と、前記溶融工程で得られたスパイスを、凝固後に破砕する破砕工程と、前記破砕工程で得られた破砕物を軽量物と重量物とに分離する分離工程と、前記重量物を前記溶融工程に繰り返す工程と、を含む。
【選択図】 図3
特許請求の範囲
【請求項1】
鉛原料を溶融する溶融工程と、
前記溶融工程で得られたスパイスを、凝固後に破砕する破砕工程と、
前記破砕工程で得られた破砕物を軽量物と重量物とに分離する分離工程と、
前記重量物を前記溶融工程に繰り返す工程と、を含む、鉛の回収方法。
続きを表示(約 420 文字)
【請求項2】
前記スパイスは、Pb、Sn、Sb、Biの少なくともいずれか1つを含み、
前記スパイスに含まれるPb、Sn、Sb、Biの少なくともいずれか1つの濃度が、前記スパイスよりも前記重量物において高い、請求項1に記載の鉛の回収方法。
【請求項3】
前記スパイスは、Fe、Asの少なくともいずれか1つを含み、
前記スパイスに含まれるFe、Asの少なくともいずれか1つの濃度が、前記スパイスよりも前記軽量物において高い、請求項1に記載の鉛の回収方法。
【請求項4】
前記分離工程において、比重選別機を用いる、請求項1に記載の鉛の回収方法。
【請求項5】
前記破砕工程において、凝固した前記スパイスを30mm以下の粒径になるように破砕する、請求項1に記載の鉛の回収方法。
【請求項6】
前記鉛原料は、銅製錬の過程で得られる鉛を含む、請求項1に記載の鉛の回収方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は鉛の回収方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
銅製錬などで得られた鉛原料は、電気炉で溶融還元して粗鉛を生成し、当該粗鉛から鉛を精製し、これを原料として鉛アノードを作製し、電解精製することで、鉛を回収する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2013-234356号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
電気炉では、溶融還元の過程で、メタル相とスラグ相との間にスパイスが生成する。スパイスは、メタル相とともに電気炉から抜き出される。スパイスは高い粘性を有しているため、スパイスにメタル成分が巻き込まれることがある。そこで、スパイスを銅製錬工程に繰り返すことが考えられる。しかしながら、この場合、メタル成分の直行率が低くなるおそれがある。また、銅製錬の操業に影響を及ぼすおそれがある。
【0005】
本発明は上記の課題に鑑み、メタル成分の直行率を高くすることができる、鉛の回収方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る鉛の回収方法は、鉛原料を溶融する溶融工程と、前記溶融工程で得られたスパイスを、凝固後に破砕する破砕工程と、前記破砕工程で得られた破砕物を軽量物と重量物とに分離する分離工程と、前記重量物を前記溶融工程に繰り返す工程と、を含む。
【0007】
前記スパイスは、Pb、Sn、Sb、Biの少なくともいずれか1つを含み、前記スパイスに含まれるPb、Sn、Sb、Biの少なくともいずれか1つの濃度が、前記スパイスよりも前記重量物において高くてもよい。前記スパイスは、Fe、Asの少なくともいずれか1つを含み、前記スパイスに含まれるFe、Asの少なくともいずれか1つの濃度が、前記スパイスよりも前記軽量物において高くてもよい。前記分離工程において、比重選別機を用いてもよい。前記破砕工程において、凝固した前記スパイスを30mm以下の粒径になるように破砕してもよい。前記鉛原料は、銅製錬の過程で得られる鉛を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【0008】
メタル成分の直行率を高くすることができる、鉛の回収方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
鉛の回収方法を例示する図である。
Pb電気炉を例示する図である。
エアテーブルを例示する図である。
分配率を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本実施形態において対象とする鉛原料は、少なくとも鉛(Pb)を含み、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、ビスマス(Bi)、鉄(Fe)、ヒ素(As)、銅(Cu)、硫黄(S)、ケイ素(Si)などを含んでいてもよい。鉛原料は、銅製錬工程における電解精製で生じた銅殿物(アノードスライム)を処理して得られる還元銀を酸化炉で酸化処理する際に生じる密陀や、電子部品などのリサイクル原料の溶融炉もしくは産業廃棄物を溶融処理する乾式炉で発生する乾式煙灰を硫酸浸出して得られた鉛滓(硫酸鉛)、硫酸鉛を炭酸ナトリウムにより処理して得られた炭酸鉛、などが挙げられる。鉛原料は、例えば、Pbを20mass%以上40mass%以下、Snを5mass%以上15mass%以下、Sbを1mass%以上10mass%以下、Biを5mass%以上15mass%以下、Feを5mass%以上15mass%以下、Asを1mass%以上10mass%以下含有する。鉛原料は、その他、貴金属などを含んでいてもよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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