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公開番号
2025145797
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-03
出願番号
2024046221
出願日
2024-03-22
発明の名称
脱臭制御システム及び脱臭制御方法
出願人
日本軽金属株式会社
,
日本電極株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
F23G
7/06 20060101AFI20250926BHJP(燃焼装置;燃焼方法)
要約
【課題】可燃性の臭気ガスを含む場合であっても安全に処理することができ、かつ、安全な温度で排気することができる脱臭制御システムを提供する。
【解決手段】臭気ガスを含む排ガスを希釈するための希釈用ガスを取り入れる希釈ダンパを有し、排ガスを希釈用ガスで希釈しながら通過させる希釈部と、希釈部を通過する排ガスの温度を検知する第1温度センサと、排ガスをバーナで加熱して臭気ガスを高温酸化処理する酸化処理部と、排ガスを外部に導く排気部と、排ガスの温度を検知する第2温度センサと、排気部において排ガスから熱を回収する熱交換器と、制御部とを備え、制御部は、排ガス中の臭気ガス濃度、第1温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように希釈ダンパを制御し、かつ、第2温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、排ガスが所定温度範囲を維持するように制御する脱臭制御システムである。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを希釈するための希釈用ガスを取り入れる希釈ダンパを有し、前記排ガスを前記希釈ダンパから取り入れられる希釈用ガスで希釈しながら通過させる希釈部と、
前記希釈部を通過する排ガスの温度を検知する第1温度センサと、
前記臭気ガスを含む排ガスをバーナで加熱して前記臭気ガスを高温酸化処理する酸化処理部と、
前記酸化処理部から流出した排ガスを外部に導く排気部と、
前記排気部における排ガスの温度を検知する第2温度センサと、
少なくとも、前記希釈部、前記希釈ダンパ、前記第1温度センサ及び第2温度センサに対する制御を司る制御部と、を備え、
前記制御部は、排ガス中の臭気ガス濃度及び前記第1温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、前記臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように前記希釈ダンパを制御し、かつ、前記第2温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、前記排ガスが所定温度範囲を維持するように制御する、脱臭制御システム。
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記希釈部において、前記希釈部を通過する排ガス中の臭気ガスの濃度を検出する濃度センサをさらに備え、
前記制御部は、前記希釈部、前記希釈ダンパ、及び前記第1温度センサ及び前記第2温度センサとともに、前記濃度センサに対する制御を司り、前記濃度センサにより検出した、排ガス中の臭気ガス濃度に基づき、前記臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように前記希釈ダンパを制御する、請求項1に記載の脱臭制御システム。
【請求項3】
前記排気部において、排ガスから熱を回収する熱交換器をさらに備え、
前記制御部は、前記希釈部、前記希釈ダンパ、及び前記第1温度センサ及び前記第2温度センサとともに、前記熱交換器に対する制御を司り、排ガス中の臭気ガス濃度に基づき、前記臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように前記希釈ダンパを制御する、請求項1又は2に記載の脱臭制御システム。
【請求項4】
前記希釈部、前記酸化処理部及び前記排気部は、前記工業炉から排出される排ガスが、前記希釈部、前記酸化処理部及び前記排気部を順次通過するように設けられ、かつ、前記希釈部、前記酸化処理部及び前記排気部が順次鉛直方向上方に位置するように設けられているか、又は前記希釈部より前記排気部の方が鉛直方向上方に位置し、前記酸化処理部は前記希釈部と前記排気部との間において水平にとなるように設けられている、請求項1又は2に記載の脱臭制御システム。
【請求項5】
前記希釈ダンパは、前記希釈部における排ガスの流入口側に設けられており、前記濃度センサは、前記希釈部の排気口側に設けられている、請求項2に記載の脱臭制御システム。
【請求項6】
前記酸化処理部において、前記排ガスを、前記バーナにより650~800℃の温度範囲で加熱しつつ、0.3~1.0秒間滞留させる、請求項1又は2に記載の脱臭制御システム。
【請求項7】
前記制御部は、前記排気部において、前記排ガスが露点温度以上となるように前記熱交換器を制御する、請求項3に記載の脱臭制御システム。
【請求項8】
工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスの臭気ガス濃度の検出及び排ガス温度の検知をするステップと、
検出した臭気ガス濃度及び検知した排ガス温度に基づき、前記排ガスを、前記臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように希釈用ガスで希釈するステップと、
希釈後の前記排ガスを高温酸化処理するステップと、
高温酸化処理後の前記排ガスの温度を検知するステップと、
検知した高温酸化処理後の排ガスの温度に基づき、前記排ガスを所定温度範囲にして外部に排気するステップと、
を含む、脱臭制御方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、脱臭制御システム及び脱臭制御方法に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、排ガスを脱臭させる脱臭制御システムにおいては、例えば、可燃性廃棄物処理システムを構成する乾燥機と炭化炉で発生する乾燥排ガスと乾留ガスとを燃焼室に導入して加熱し、これらガス中の悪臭成分を熱分解させる脱臭炉が知られている(特許文献1参照)。その脱臭炉においては、燃焼室の底から上方に向けて、乾燥機からの乾燥排ガスおよび/または希釈空気の流入口と、乾留ガスの流入口と、補助バーナとを高さを変えて順々に設けている。そして、燃焼室の底部の近くに開口した流入口から乾燥排ガスを流入させるときに希釈空気を注入し、燃焼室内の温度を熱電対等で連続測定する。また、燃焼室内の温度が、悪臭成分を熱分解させるのに必要温度800℃程度になるように、希釈空気の注入量を増減して燃焼室内の温度を制御する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2006-300350号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1の脱臭炉では、温度制御するために外気から希釈用ガスを注入しているが、ガスの成分や濃度を制御しておらず、ベンゼンやトルエンなどのような可燃性ガスを安全に処理し続けることが困難という問題があった。
【0005】
本発明は、このような従来技術が有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明の目的は、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを脱臭処理する脱臭制御システムにおいて、可燃性の臭気ガスを含む場合であっても安全に処理することができ、かつ、安全な温度で排気することができる脱臭制御システムを提供することにある。
また、本発明の別の目的は、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを脱臭処理する脱臭制御方法において、可燃性の臭気ガスを含む場合であっても安全に処理することができ、かつ、安全な温度で排気することができる脱臭制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の態様に係る脱臭制御システムは、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを希釈するための希釈用ガスを取り入れる希釈ダンパを有し、排ガスを希釈ダンパから取り入れる希釈用ガスで希釈しながら通過させる希釈部と、希釈部を通過する排ガスの温度を検知する第1温度センサと、臭気ガスを含む排ガスをバーナで加熱して臭気ガスを高温酸化処理する酸化処理部と、酸化処理部から流出した排ガスを外部に導く排気部と、排気部における排ガスの温度を検知する第2温度センサと、排気部において、排ガスから熱を回収する熱交換器と、少なくとも、希釈部、希釈ダンパ、前記第1温度センサ及び第2温度センサに対する制御を司る制御部と、を備え、制御部は、排ガス中の臭気ガス濃度及び前記第1温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように希釈ダンパを制御し、かつ、第2温度センサにより検知した排ガスの温度に基づき、排ガスが所定温度範囲を維持するように制御する。
【0007】
本発明の態様に係る脱臭制御方法は、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスの臭気ガス濃度及び排ガス温度を検知するステップと、検知した臭気ガス濃度及び排ガス温度に基づき、排ガスを、臭気ガス濃度が爆発下限界未満となるように希釈用ガスで希釈するステップと、希釈後の排ガスを高温酸化処理するステップと、高温酸化処理後の排ガスの温度を検知するステップと、検知した高温酸化処理後の排ガスの温度に基づき、排ガスを所定温度範囲にして外部に排気するステップと、を含む。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを脱臭処理する脱臭制御システムにおいて、可燃性の臭気ガスを含む場合であっても安全に処理することができ、かつ、安全な温度で排気することができる脱臭制御システムを提供することができる。
また、本発明によれば、工業炉から排出される、臭気ガスを含む排ガスを脱臭処理する脱臭制御方法において、可燃性の臭気ガスを含む場合であっても安全に処理することができ、かつ、安全な温度で排気することができる脱臭制御方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本実施形態の脱臭制御システムの制御系を示すブロック図である。
本実施形態の脱臭制御システムを適用し得る脱臭装置を模式的に示す側面図である。
本実施形態の脱臭制御システムのフローシートを示す図である。
希釈部において、排ガス中の臭気ガスの濃度検知から、希釈ダンパを制御するまでの処理のフローチャートである。
排気部において、排ガスの温度検知から熱交換器を制御するまでの処理のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、図面を用いて本実施形態に係る脱臭制御システム及び脱臭制御方法について詳細に説明する。本実施形態は以下の説明のみに限定されるものではない。また、本実施形態における構成要素は、一部又は全部を適宜組み合わせることができる。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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