TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025133035
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-10
出願番号
2025008102
出願日
2025-01-20
発明の名称
半導体パッケージ
出願人
三星電子株式会社
,
Samsung Electronics Co.,Ltd.
代理人
弁理士法人共生国際特許事務所
主分類
H01L
25/07 20060101AFI20250903BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】2個のダイが積層された半導体パッケージ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体パッケージは、複数の半導体チップと、複数の半導体チップの間に介在する複数のボンディングパッドと、複数の半導体チップの間で複数のボンディングパッドを取り囲むボンディング絶縁層と、複数のボンディングパッドの間に介在するボイド制御部と、を備え、複数のボンディングパッドは、複数の半導体チップに直接連結され、ボンディング絶縁層は、複数の半導体チップに直接連結され、ボイド制御部は、ボンディング絶縁層、複数の半導体チップのうちのいずれか1つの半導体チップ及びボンディング絶縁層、又は複数の半導体チップ及びボンディング絶縁層により閉鎖された(closed)空洞である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
複数の半導体チップと、
前記複数の半導体チップ間に介在する複数のボンディングパッドと、
前記複数の半導体チップの間で前記複数のボンディングパッドを取り囲むボンディング絶縁層と、
前記複数のボンディングパッドの間に介在するボイド制御部と、を備え、
前記複数のボンディングパッドは、前記複数の半導体チップに直接連結され、
前記ボンディング絶縁層は、前記複数の半導体チップに直接連結され、
前記ボイド制御部は、前記ボンディング絶縁層、前記複数の半導体チップのうちのいずれか1つの半導体チップ及び前記ボンディング絶縁層、又は前記複数の半導体チップ及び前記ボンディング絶縁層により閉鎖された(closed)空洞であることを特徴とする半導体パッケージ。
続きを表示(約 1,300 文字)
【請求項2】
前記ボイド制御部の垂直高は、前記ボンディング絶縁層の垂直高と同一であるか又はそれよりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項3】
前記ボイド制御部は、前記ボンディング絶縁層の一部を挟んで前記複数のボンディングパッドから離隔されることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項4】
前記ボイド制御部は、前記複数の半導体チップのうちのいずれか1つの半導体チップと前記ボンディング絶縁層との間に介在することを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項5】
前記ボイド制御部は、前記複数の半導体チップのうちの第1半導体チップとは前記ボンディング絶縁層のうちの第1部分を挟んで離隔され、
前記ボイド制御部は、前記複数の半導体チップのうちの第2半導体チップとは前記ボンディング絶縁層のうちの第2部分を挟んで離隔されることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項6】
前記ボイド制御部は、一方向に延びるライン状を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項7】
前記ボイド制御部は、十字状を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項8】
前記複数のボンディングパッドは、少なくとも1行、少なくとも1列、又はそれらの組み合わせからなり、
前記ボイド制御部は、前記複数のボンディングパッドからなる少なくとも1行に第1水平方向にオーバーラップするか、又は少なくとも1列に第2水平方向にオーバーラップすることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項9】
前記ボイド制御部の一端部は、前記複数の半導体チップのチップエッジに対面することを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項10】
互いに反対になる活性面と非活性面とを有する第1半導体基板、及び前記第1半導体基板を貫通する複数の第1貫通電極を含む第1半導体チップと、
互いに反対になる活性面と非活性面とを有する第2半導体基板、及び前記第2半導体基板を貫通する複数の第2貫通電極をそれぞれ含み、前記第2半導体基板の活性面が前記第1半導体基板の非活性面に向かうように前記第1半導体チップ上に積層され、最下端第2半導体チップ及び最上端第2半導体チップを含む複数の第2半導体チップと、
前記第1半導体チップと前記最下端第2半導体チップとの間、及び互いに隣接する前記複数の第2半導体チップの間にそれぞれ介在し、前記複数の第1貫通電極と前記複数の第2貫通電極とを電気的に連結する複数のボンディングパッドと、
前記第1半導体チップと前記最下端第2半導体チップとの間、及び互いに隣接する前記複数の第2半導体チップの間で前記複数のボンディングパッドを取り囲むボンディング絶縁層と、
前記複数のボンディングパッドの間に介在する第1ボイド制御部と、を備え、
前記第1ボイド制御部は、空洞を含むことを特徴とする半導体パッケージ。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体パッケージに係り、より詳細には、2個のダイがウェーハツーウェーハ(wafer to wafer)ボンディングで直に積層された半導体パッケージに関する。
続きを表示(約 2,600 文字)
【背景技術】
【0002】
電子産業の飛躍的な発展及びユーザの要求によって、電子機器はより小型化及び軽量化されている。電子機器の小型化及び軽量化により、それに使用される半導体パッケージも小型化及び軽量化されており、且つ半導体パッケージは、高集積化及び高速化が要求されている。そのような半導体パッケージの高集積化及び高速化の要求により、積層された半導体チップを含む半導体パッケージが開発されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
韓国公開特許第10-2008-0001623号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、2個のダイが積層された半導体チップを有する半導体パッケージを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による半導体パッケージは、複数の半導体チップと、前記複数の半導体チップの間に介在する複数のボンディングパッドと、前記複数の半導体チップの間で前記複数のボンディングパッドを取り囲むボンディング絶縁層と、前記複数のボンディングパッドの間に介在するボイド制御部と、を備え、前記複数のボンディングパッドは、前記複数の半導体チップに直接連結され、前記ボンディング絶縁層は、前記複数の半導体チップに直接連結され、前記ボイド制御部は、前記ボンディング絶縁層、前記複数の半導体チップのうちのいずれか1つの半導体チップ及び前記ボンディング絶縁層、又は前記複数の半導体チップ及び前記ボンディング絶縁層により閉鎖された(closed)空洞である。
【0006】
上記目的を達成するためになされた本発明の他の態様による半導体パッケージは、互いに反対になる活性面と非活性面とを有する第1半導体基板、及び前記第1半導体基板を貫通する複数の第1貫通電極を含む第1半導体チップと、互いに反対になる活性面と非活性面とを有する第2半導体基板、及び前記第2半導体基板を貫通する複数の第2貫通電極をそれぞれ含み、前記第2半導体基板の活性面が前記第1半導体基板の非活性面に向かうように前記第1半導体チップ上に積層され、最下端第2半導体チップ及び最上端第2半導体チップを含む複数の第2半導体チップと、前記第1半導体チップと前記最下端第2半導体チップとの間、及び互いに隣接する前記複数の第2半導体チップの間にそれぞれ介在し、前記複数の第1貫通電極と前記複数の第2貫通電極とを電気的に連結する複数のボンディングパッドと、前記第1半導体チップと前記最下端第2半導体チップとの間、及び互いに隣接する前記複数の第2半導体チップの間で前記複数のボンディングパッドを取り囲むボンディング絶縁層と、前記複数のボンディングパッドの間に介在する第1ボイド制御部と、を備え、前記第1ボイド制御部は、空洞を含む。
【発明の効果】
【0007】
本発明の半導体パッケージは、第1半導体チップ及び複数の第2半導体チップが順次に直接(direct)ボンディングされて形成されるため、直接ボンディング時に第1半導体チップと複数の第2半導体チップとの表面粗度によるボンディング欠陥又はボイド(void)が発生することを制御することができる。また本発明の半導体パッケージは、複数のボイド制御部を介してボンディング欠陥又はボイドを制御することが可能なため、信頼性を向上させた半導体パッケージを提供することができる。
【0008】
本発明の効果は上述した効果に限定されるものではなく、言及していない効果は、本明細書及び図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本発明の一実施形態によるボンディング構造物を説明するための概略的な断面図である。
本発明の一実施形態によるボンディング構造物の第1例を説明するための概略的な平面図である。
本発明の一実施形態によるボンディング構造物の第2例を説明するための概略的な平面図である。
本発明の一実施形態によるボンディング構造物の第3例を説明するための概略的な平面図である。
本発明の一実施形態によるボンディング構造物の第4例を説明するための概略的な平面図である。
本発明の一実施形態によるボンディング構造物の第5例を説明するための概略的な平面図である。
本発明の他の実施形態によるボンディング構造物を説明するための概略的な断面図である。
本発明の更に他の実施形態によるボンディング構造物を説明するための概略的な断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージを説明するための断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を説明するための工程順に示す断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を説明するための工程順に示す断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を説明するための工程順に示す断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を説明するための工程順に示す断面図である。
本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を説明するための工程順に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すれば明確になるであろう。しかし、本発明は、後述する実施形態に限定されるものではなく、それぞれ異なる多様な形態に具現され得る。但し、本実施形態は、発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、特許請求の範囲によって定義される。図面で層及び領域の相対的な大きさは、説明の明瞭性のために誇張されたものである。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
三星電子株式会社
半導体素子
14日前
三星電子株式会社
固体撮像素子
5日前
三星電子株式会社
固体撮像素子
5日前
三星電子株式会社
電気集塵装置
18日前
三星電子株式会社
イメージセンサ
20日前
三星電子株式会社
半導体パッケージ
13日前
三星電子株式会社
帯電装置及び電気集塵装置
18日前
三星電子株式会社
イメージセンサー及びその製造方法
22日前
三星電子株式会社
ハイブリッドピクセル及びハイブリッドセンサ
4日前
三星電子株式会社
半導体装置及びそれを含むデータ格納システム
14日前
三星電子株式会社
トランスフォーマー加速装置およびその動作方法
6日前
三星電子株式会社
イメージセンサ、それを含む装置、及びイメージセンサの動作方法
14日前
三星電子株式会社
化合物、高分子化合物、レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
12日前
三星電子株式会社
組成物、それを利用した金属含有膜の処理方法、及びそれを利用した半導体素子の製造方法
15日前
個人
安全なNAS電池
18日前
東レ株式会社
多孔質炭素シート
13日前
個人
フリー型プラグ安全カバー
25日前
キヤノン株式会社
電子機器
13日前
ローム株式会社
半導体装置
13日前
エイブリック株式会社
半導体装置
15日前
エイブリック株式会社
半導体装置
15日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
21日前
ニチコン株式会社
コンデンサ
6日前
ニチコン株式会社
コンデンサ
6日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
29日前
株式会社ティラド
面接触型熱交換器
5日前
沖電気工業株式会社
アンテナ
25日前
東レ株式会社
ガス拡散層の製造方法
13日前
オムロン株式会社
電磁継電器
22日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
29日前
株式会社カネカ
二次電池
28日前
マクセル株式会社
配列用マスク
5日前
株式会社ヨコオ
コネクタ
15日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
20日前
トヨタ自動車株式会社
蓄電装置
1か月前
ローム株式会社
半導体装置
22日前
続きを見る
他の特許を見る