TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025130318
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-08
出願番号2024027421
出願日2024-02-27
発明の名称ポリロタキサンの製造方法
出願人株式会社ASM
代理人個人
主分類C08G 65/28 20060101AFI20250901BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】短時間で十分なヒドロキシアルキル化が可能なポリロタキサンの製造方法を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシアルキル基を有する環状分子を備えるポリロタキサンの製造方法であって、ヒドロキシ基を有する環状分子を備えるポリロタキサンと、環状エーテルと、水とを含む溶液を準備すること、及び、加圧下で、前記ヒドロキシ基に環状エーテルを付加すること、を含む、ポリロタキサンの製造方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
ヒドロキシアルキル基を有する環状分子を備えるポリロタキサンの製造方法であって、
ヒドロキシ基を有する環状分子を備えるポリロタキサンと、環状エーテルと、水とを含む溶液を準備すること、及び、
加圧下で、前記ヒドロキシ基に環状エーテルを付加すること、を含む、
ポリロタキサンの製造方法。
続きを表示(約 430 文字)【請求項2】
環状エーテルの付加反応における温度条件が、42~58℃である、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
【請求項3】
環状エーテルの付加反応における圧力条件が、0.11~0.22MPaである、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
【請求項4】
環状エーテルの付加反応における反応時間が、2~8時間である、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
【請求項5】
環状エーテルの付加反応後におけるヒドロキシアルキル基の付加率が、反応前の環状分子が有するヒドロキシ基の総数に対し、50~60%である、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
【請求項6】
前記環状分子が、シクロデキストリンを含む、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
【請求項7】
前記環状エーテルが、プロピレンオキシドである、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、ポリロタキサンの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)【背景技術】
【0002】
環状分子に直鎖状分子が貫通した構造を有する複合体であるポリロタキサンは、従来の高分子材料とは異なる性質を有することから、様々な応用が検討されている。
【0003】
特許文献1には、環状分子であるシクロデキストリンが有するヒドロキシ基が疎水性の修飾基で修飾されたポリロタキサンが開示されている。特許文献1には当該ポリロタキサンの製造方法として、シクロデキストリンのヒドロキシ基をヒドロキシプロピル化し、次いでε-カプロラクトンで修飾することが記載されている。当該特許文献1には、上記ヒドロキシプロピル化の反応条件に関し、1mol/LのNaOH水溶液中で、室温で一晩攪拌したと記載されている。
【0004】
特許文献2には、ヒドロキシ基を有する環状分子を有するポリロタキサンと、特定の環状エーテルとを反応させる、ヒドロキシアルキル化ポリロタキサンの製造方法が開示されている。当該特許文献2には、上記ヒドロキシアルキル化の反応条件に関し、トリエチルアミン等の塩基存在下、40℃で6時間反応させたことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2007-091938号公報
国際公開第2013/147300号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
ポリロタキサンの生産性向上等の観点から、上記ヒドロキシアルキル化の反応時間の短縮が求められている。
【0007】
上記実情に鑑み、本開示は、短時間で十分なヒドロキシアルキル化が可能なポリロタキサンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示は以下の態様を含む。
[1]
ヒドロキシアルキル基を有する環状分子を備えるポリロタキサンの製造方法であって、
ヒドロキシ基を有する環状分子を備えるポリロタキサンと、環状エーテルと、水とを含む溶液を準備すること、及び、
加圧下で、前記ヒドロキシ基に環状エーテルを付加すること、を含む、
ポリロタキサンの製造方法。
[2]
環状エーテルの付加反応における温度条件が、42~58℃である、[1]に記載のポリロタキサンの製造方法。
[3]
環状エーテルの付加反応における圧力条件が、0.11~0.22MPaである、[1]又は[2]に記載のポリロタキサンの製造方法。
[4]
環状エーテルの付加反応における反応時間が、2~8時間である、[1]~[3]のいずれかに記載のポリロタキサンの製造方法。
[5]
環状エーテルの付加反応後におけるヒドロキシアルキル基の付加率が、反応前の環状分子が有するヒドロキシ基の総数に対し、50~60%である、[1]~[4]のいずれかに記載のポリロタキサンの製造方法。
[6]
前記環状分子が、シクロデキストリンを含む、[1]~[5]のいずれかに記載のポリロタキサンの製造方法。
[7] 前記環状エーテルが、プロピレンオキシドである、[1]~[6]のいずれかに記載のポリロタキサンの製造方法。
【発明の効果】
【0009】
本開示により、短時間で十分なヒドロキシアルキル化が可能なポリロタキサンの製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0010】
実施形態に係る製造方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

株式会社ASM
ポリロタキサンの製造方法
2日前
東ソー株式会社
摺動部材
3か月前
東ソー株式会社
ゴム組成物
3か月前
東ソー株式会社
加飾フィルム
3か月前
株式会社カネカ
硬化性組成物
2か月前
東ソー株式会社
加飾フィルム
3か月前
東ソー株式会社
加飾フィルム
3か月前
ユニチカ株式会社
透明シート
19日前
東レ株式会社
熱硬化性樹脂組成物
23日前
ユニチカ株式会社
ビスマレイミド
3か月前
東レ株式会社
ポリエステルフィルム
2か月前
東レ株式会社
引抜成形品の製造方法
16日前
愛知電機株式会社
加熱処理設備
2か月前
花王株式会社
樹脂組成物
2か月前
東レ株式会社
ポリオレフィン微多孔膜
1か月前
株式会社コバヤシ
光硬化性組成物
1か月前
アイカ工業株式会社
光硬化性樹脂組成物
3か月前
株式会社大阪ソーダ
熱可塑性材料用組成物
2か月前
富士フイルム株式会社
組成物
2か月前
株式会社カネカ
硬化性組成物
16日前
東亞合成株式会社
硬化性組成物
2か月前
株式会社クラベ
耐摩耗性絶縁組成物及び電線
3か月前
株式会社村田製作所
樹脂組成物
1か月前
伯東株式会社
ビニル化合物中の重合防止方法
29日前
株式会社クラレ
水性エマルジョン及び接着剤
2か月前
アキレス株式会社
燻蒸用生分解性樹脂シート
1か月前
東ソー株式会社
クロロプレンラテックス組成物
3か月前
東ソー株式会社
クロロプレンラテックス組成物
3か月前
大日精化工業株式会社
樹脂成形品
3か月前
東レ株式会社
二軸配向ポリプロピレンフィルム
3か月前
株式会社イーテック
組成物
14日前
東レ株式会社
二軸配向ポリプロピレンフィルム
13日前
東ソー株式会社
導電性高分子溶液及びその用途
23日前
東レ株式会社
プリプレグおよびその製造方法。
2か月前
東ソー株式会社
末端変性ポリマー及び光学素子
1か月前
株式会社イーテック
組成物
1か月前
続きを見る