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公開番号2025116291
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-07
出願番号2025095551,2022552896
出願日2025-06-09,2021-03-02
発明の名称供給装置
出願人イリノイトゥールワークスインコーポレイティド
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B05B 1/20 20060101AFI20250731BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】電子部品の加工領域内の空気の清浄度を保証すること。
【解決手段】電子部品の加工で用いる供給装置が、第1と第2のトラック部品の頂部に配置された第1と第2の流れ誘導部品を備えており、第1の流れ誘導部品は、清浄ガス源に連通する第1のガス入口と、第1のガス出口とを有し、第2の流れ誘導部品は、第1のガス出口に向かって配置された第2のガス入口と、ガス排出動力装置に連通する第2のガス出口を有しており、清浄ガスは第1のガス出口から第2のガス入口に向かって流れ、加工される電子部品の上方に不純物による汚染を防止する清浄ガス領域が形成される。
【選択図】図1B
特許請求の範囲【請求項１】
電子部品を加工する供給装置において、
並列に配置され、加工される電子部品を保持する第１のトラック部品（１０１）及び第２のトラック部品（１０２）と、
第１の流れ誘導部品（１０３）及び第２の流れ誘導部品（１０４）であって、該第１の流れ誘導部品（１０３）は、前記第１のトラック部品（１０１）の頂部に配置され、該第２の流れ誘導部品（１０４）は、前記第２のトラック部品（１０２）の頂部に配置され、該第１の流れ誘導部品（１０３）は第１の内側部（２１４）を有し、該第２の流れ誘導部品（１０４）は第２の内側部（３１４）を有し、該第１の内側部（２１４）及び該第２の流れ誘導部品の内側部（３１４）は互いに対面するように配置される、第１の流れ誘導部品（１０３）及び第２の流れ誘導部品（１０４）とを具備し、
前記第１の流れ誘導部品（１０３）は、互いに連通する少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）及び少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）を有し、前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）は、清浄ガス源と連通し、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の前記第１の内側部（２１４）に配置され、前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、互いに連通する少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）及び少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）を有し、前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）は、前記第２の流れ誘導部品（１０４）の前記第２の内側部（３１４）に配置され、前記少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）はガス排出動力装置と連通し、その結果、清浄ガスは、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）に向かって流れることができ、これにより、加工される前記電子部品の上に清浄ガス領域を形成し、
前記第１の流れ誘導部品（１０３）は、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）にそれぞれ対応する少なくとも１つの送出チャネル（４０５）を有し、該少なくとも１つの送出チャネル（４０５）は、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から前記第１の流れ誘導部品（１０３）の内部へと延在するフレア形状に形成され、前記第１のトラック部品（１０１）に垂直な長さ方向における前記送出チャネル（４０５）の高さは、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から内側に向かって徐々に減少し、
前記第１の流れ誘導部品（１０３）は第１の収容キャビティ（４０３）を有し、該第１の収容キャビティ（４０３）は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の長さ方向に延在し、前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）及び前記少なくとも１つの送出チャネル（４０５）と連通している供給装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）は、複数のガス出口と、該複数のガス出口にそれぞれ対応する複数の送出チャネルとを含み、前記複数のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の長さ方向において分散されることを特徴とする請求項１に記載の供給装置。
【請求項３】
前記第１の流れ誘導部品（１０３）の前記長さ方向における前記複数のガス出口のうちの最初のガス出口の外面と最後のガス出口の外面との間の距離は、加工される電子部品の長さ以上であることを特徴とする請求項２に記載の供給装置。
【請求項４】
前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）に対応する少なくとも１つの導入チャネル（５０５）を有し、該少なくとも１つの導入チャネル（５０５）は、前記第２のガス入口（３０４）から前記第２の流れ誘導部品（１０４）の内部へと延在するように形成され、前記第２のトラック部品（１０２）に垂直な長さ方向における前記少なくとも１つの導入チャネル（５０５）の高さは、前記第２のガス入口（３０４）から内側に向かって徐々に減少することを特徴とする請求項１に記載の供給装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）は、複数のガス入口と、該複数のガス入口にそれぞれ対応する複数の導入チャネルとを含み、前記複数のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において分散され、
前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、第２の収容キャビティ（５０３）を有し、該第２の収容キャビティ（５０３）は、前記第２の流れ誘導部品（１０４）の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）及び前記少なくとも１つの導入チャネル（５０５）と連通することを特徴とする請求項４に記載の供給装置。
【請求項６】
前記第１の流れ誘導部品（１０３）の内面と前記第２の流れ誘導部品（１０４）の内面との間の距離は、加工される前記電子部品の幅よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の供給装置。
【請求項７】
入口端部（６３０）及び出口端部（６４０）を有する空気濾過装置（６０８）を更に具備し、
前記入口端部（６３０）は空気源と連通し、前記出口端部（６４０）は前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）と連通し、該空気濾過装置（６０８）により清浄空気が前記第１の流れ誘導部品（１０３）に供給されることを特徴とする請求項１に記載の供給装置。
【請求項８】
前記第２のガス出口（３０２）と連通し、該第２のガス出口（３０２）から流出する空気を浄化可能なガス処理装置（７２０）を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の供給装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
［関連出願］
本出願は、２０２０年３月３日に出願された中国特許出願第２０２０１０１３９４０１．０号の利益を主張する。中国特許出願第２０２０１０１３９４０１．０号の全体が引用することにより明示的に本明細書の一部をなす。
続きを表示（約 1,900 文字）【０００２】
本出願は、供給装置に関し、特に、電子部品加工の分野において使用される供給装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
電子部品加工の分野において、供給装置を使用して流体液滴を電子部品の表面上又は電子部品内に供給することが必要であり、流体供給工程において、流体又は加工が行われる電子部品の領域を塵又は不純物が汚染した場合、電子部品の加工品質に影響が及ぶ。したがって、塵又は不純物による汚染を可能な限り避けるために、電子部品の加工領域内の空気の清浄度を保証することが必要である。
【発明の概要】
【０００４】
本出願は、動作中における塵又は不純物による汚染を効果的に避けることができる供給装置を提供する。該供給装置は、並列に配置され、加工される電子部品を保持する第１のトラック部品及び第２のトラック部品と、第１の流れ誘導部品及び第２の流れ誘導部品であって、該第１の流れ誘導部品は、前記第１のトラック部品の頂部に配置され、該第２の流れ誘導部品は前記第２のトラック部品の頂部に配置され、該第１の流れ誘導部品は第１の内側部を有し、該第２の流れ誘導部品は第２の内側部を有し、該第１の内側部及び該第２の流れ誘導部品の内側部は、互いに対面するように配置される、第１の流れ誘導部品及び第２の流れ誘導部品とを備え、前記第１の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第１のガス入口及び少なくとも１つの第１のガス出口を有し、前記少なくとも１つの第１のガス入口は、清浄ガス源と連通し、前記少なくとも１つの第１のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品の前記第１の内側部に配置され、前記第２の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第２のガス入口及び少なくとも１つの第２のガス出口を有し、前記少なくとも１つの第２のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の前記第２の内側部に配置され、前記少なくとも１つの第２のガス出口はガス排出動力装置と連通し、その結果、清浄ガスは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から前記少なくとも１つの第２のガス入口に向かって流れることができ、これにより、加工される前記電子部品の上に清浄ガス領域を形成する。
【０００５】
上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品は、前記少なくとも１つの第１のガス出口にそれぞれ対応する少なくとも１つの送出チャネルを有し、該少なくとも１つの送出チャネルは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から前記第１の流れ誘導部品の内部へと延在するように形成され、前記第１のトラック部品に垂直な長さ方向における前記送出チャネルの高さは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から内側に向かって徐々に減少する。
【０００６】
上記の供給装置において、前記少なくとも１つの第１のガス出口は、複数のガス出口と、該複数のガス出口にそれぞれ対応する複数の送出チャネルとを含み、前記複数のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品の長さ方向において分散される。
【０００７】
上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品は、第１の収容キャビティを有し、該第１の収容キャビティは、前記第１の流れ誘導部品の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第１のガス入口及び前記少なくとも１つの送出チャネルと連通する。
【０００８】
上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品の前記長さ方向における前記複数のガス出口のうちの最初のガス出口の外面と最後のガス出口の外面との間の距離は、加工される電子部品の長さ以上である。
【０００９】
上記の供給装置において、前記第２の流れ誘導部品は、前記少なくとも１つの第２のガス入口に対応する少なくとも１つの導入チャネルを有し、該少なくとも１つの導入チャネルは、前記第２のガス入口から前記第２の流れ誘導部品の内部へと延在するように形成され、前記第２のトラック部品に垂直な長さ方向における前記少なくとも１つの導入チャネルの高さは、前記第２のガス入口から内側に向かって徐々に減少する。
【００１０】
上記の供給装置において、前記少なくとも１つの第２のガス入口は、複数のガス入口と、該複数のガス入口にそれぞれ対応する複数の導入チャネルとを含み、前記複数のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において分散され、
前記第２の流れ誘導部品は第２の収容キャビティを有し、該第２の収容キャビティは前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第２のガス出口及び前記少なくとも１つの導入チャネルと連通する。
（【００１１】以降は省略されています）

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