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公開番号2025107063
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-17
出願番号2024000804
出願日2024-01-05
発明の名称膜形成装置、膜形成方法および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類H01L 21/027 20060101AFI20250710BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板を一定条件で処理するために有利な技術を提供する。
【解決手段】膜形成装置は、基板を保持する基板保持部を有する基板ステージと、モールドを保持するモールド保持部と、前記基板の上に配置された硬化性組成物と前記モールドとを接触させたり、前記硬化性組成物と前記モールドとを引き離したりするように前記基板保持部と前記モールド保持部との間隔を変更する駆動機構と、前記基板の上の前記硬化性組成物と前記モールドとが接触した状態で前記硬化性組成物を硬化させる硬化部とを備え、前記基板ステージは、前記基板保持部によって保持された前記基板に対して前記硬化性組成物の硬化を阻害するガスを供給するガス吹出部を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持する基板保持部を有する基板ステージと、
モールドを保持するモールド保持部と、
前記基板の上に配置された硬化性組成物と前記モールドとを接触させたり、前記硬化性組成物と前記モールドとを引き離したりするように前記基板保持部と前記モールド保持部との間隔を変更する駆動機構と、
前記基板の上の前記硬化性組成物と前記モールドとが接触した状態で前記硬化性組成物を硬化させる硬化部と、を備え、
前記基板ステージは、前記基板保持部によって保持された前記基板に対して前記硬化性組成物の硬化を阻害するガスを供給するガス吹出部を有する、
ことを特徴とする膜形成装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記ガス吹出部は、前記基板保持部によって保持された前記基板の周囲を取り囲むように配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の膜形成装置。
【請求項３】
前記ガス吹出部は、複数のガス吹出口を含み、
前記複数のガス吹出口は、前記基板の中心と同心の円上に等間隔で配置されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の膜形成装置。
【請求項４】
前記ガス吹出部は、リング形状を有するガス吹出口を含み、
前記リング形状の中心は、前記基板保持部によって保持された前記基板の中心と一致する、
ことを特徴とする請求項２に記載の膜形成装置。
【請求項５】
前記基板ステージに対向するように配置され、前記硬化性組成物の硬化を阻害する硬化阻害ガスを吹き出す第２ガス吹出部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の膜形成装置。
【請求項６】
前記第２ガス吹出部は、前記硬化阻害ガス、または、前記基板と前記モールドとの間に形成される空間への前記硬化性組成物の充填を促進する充填促進ガスを選択的に吹き出す、
ことを特徴とする請求項５に記載の膜形成装置。
【請求項７】
前記第２ガス吹出部は、前記硬化性組成物を硬化させる前に前記充填促進ガスの吹き出しを終了し、その後、前記硬化阻害ガスの吹き出しを開始する、
ことを特徴とする請求項６に記載の膜形成装置。
【請求項８】
前記ガス吹出部は、前記第２ガス吹出部による前記充填促進ガスの吹き出しの終了後に、前記硬化性組成物の硬化を阻害する前記ガスの吹き出しを開始する、
ことを特徴とする請求項７に記載の膜形成装置。
【請求項９】
前記基板ステージに対向するように配置された第３ガス吹出部を更に備え、
前記第３ガス吹出部は、前記硬化性組成物の充填を促進させる充填促進ガスが前記基板と前記モールドとの間に形成される空間に供給されるように前記充填促進ガスを吹き出す、
ことを特徴とする請求項５に記載の膜形成装置。
【請求項１０】
前記第３ガス吹出部は、前記第２ガス吹出部と前記モールド保持部によって保持されるモールドとの間に配置される、
ことを特徴とする請求項９に記載の膜形成装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜形成装置、膜形成方法および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
基板の上の硬化性組成物とモールドを接触させ硬化性組成物を硬化させることによって硬化性組成物の硬化膜を形成する技術が知られている。パターンを有するモールドを使用し、そのパターンを硬化性組成物に転写する膜形成装置は、インプリント装置と呼ばれうる。平坦面を有するモールドを使用して平坦面を有する硬化膜を形成する膜形成装置は、平坦化装置と呼ばれうる。
【０００３】
特許文献１には、基板の表面のうちパターンを形成する領域の上の硬化性組成物に硬化用の光を照射しながら、その領域の周辺には硬化性組成物の硬化を阻害するガス（以下、硬化阻害ガス）を供給するインプリント装置が記載されている。硬化阻害ガスを吹き出す複数のガスノズルは、モールド（型）を保持するモールド保持部を取り囲むように配置されていて、基板あるいは基板保持部に向けてガスを吹き出す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－１７３９１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
硬化阻害ガスを吹き出すガスノズルがモールド保持部を取り囲むように基板あるいは基板保持部の上方に配置された構成では、基板の位置が変わる度に、基板に対する硬化阻害ガスの供給条件が変わりうる。よって、このような構成では、基板を一定条件で処理することが難しい。
【０００６】
本発明は、基板を一定条件で処理するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの側面は、膜形成装置に係り、前記膜形成装置は、基板を保持する基板保持部を有する基板ステージと、モールドを保持するモールド保持部と、前記基板の上に配置された硬化性組成物と前記モールドとを接触させたり、前記硬化性組成物と前記モールドとを引き離したりするように前記基板保持部と前記モールド保持部との間隔を変更する駆動機構と、前記基板の上の前記硬化性組成物と前記モールドとが接触した状態で前記硬化性組成物を硬化させる硬化部とを備え、前記基板ステージは、前記基板保持部によって保持された前記基板に対して前記硬化性組成物の硬化を阻害するガスを供給するガス吹出部を有する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基板を一定条件で処理するために有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態の膜形成装置の構成を模式的に示す図。
第１実施形態の膜形成装置によって実施される膜形成方法を示す図。
パーシャルフィールドの上に硬化性組成物の硬化膜を形成する様子を模式的に示す図。
ガス吹出部の構成例を示す模式的な透視図。
ガス吹出部の他の構成例を示す模式的な透視図。
第２実施形態の膜形成装置の構成を模式的に示す図。
第２実施形態の膜形成装置によって実施される膜形成方法を示す図。
第３実施形態の膜形成装置の構成を模式的に示す図。
物品製造方法の一例を示す図。
物品製造方法の他の例を示し図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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