TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025071857
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-09
出願番号2023182239
出願日2023-10-24
発明の名称カソード、カソードの製造方法および電解装置
出願人本田技研工業株式会社,三井金属鉱業株式会社,株式会社ダイセル
代理人個人,個人,個人
主分類C25B 3/26 20210101AFI20250430BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約【課題】二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元反応の主生成物のファラデー効率を向上させることが可能なカソードを提供する。
【解決手段】カソード10は、二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元に用いられる。カソード10は、ガス拡散層11と、ナノダイヤモンドを含む第一層12と、二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元を促進する触媒を含む第二層13と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元に用いられるカソードであって、
ガス拡散層と、
ナノダイヤモンドを含む第一層と、
前記二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元を促進する触媒を含む第二層と、を備える、カソード。
続きを表示(約 620 文字)【請求項2】
前記ナノダイヤモンドは、水素で終端されている、請求項1に記載のカソード。
【請求項3】
前記ガス拡散層の単位幾何学的面積当たりの前記第一層の目付量が0.005mg/cm

以上10mg/cm

以下である、請求項1または2に記載のカソード。
【請求項4】
フッ素樹脂を含む第三層をさらに備える、請求項1または2に記載のカソード。
【請求項5】
前記第一層は、フッ素樹脂をさらに含む、請求項1または2に記載のカソード。
【請求項6】
二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元に用いられるカソードを製造する方法であって、
ガス拡散層上に、ナノダイヤモンドを含む分散液を塗布して第一層を形成する工程と、
前記ガス拡散層上に、前記二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元を促進する触媒をスパッタリングして第二層を形成する工程と、を含む、カソードの製造方法。
【請求項7】
前記ガス拡散層上に、フッ素樹脂を含む分散液を塗布して第三層を形成する工程をさらに含む、請求項6に記載のカソードの製造方法。
【請求項8】
前記分散液は、フッ素樹脂をさらに含む、請求項6に記載のカソードの製造方法。
【請求項9】
請求項1または2に記載のカソードを備える、電解装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解に用いられるカソード、カソードの製造方法および電解装置に関する。
続きを表示(約 1,100 文字)【背景技術】
【0002】
従来、気候変動の緩和または影響軽減を目的とした取り組みが継続され、この実現に向けて、二酸化炭素の排出量低減に関する研究開発が実施されている。
【0003】
特許文献1には、CO

を多炭素化合物に変換するための急峻界面CO

電気還元触媒が記載されている。急峻界面CO

電気還元触媒は、CO

ガスと接触し、反対側の反応界面側にCO

ガスが通過するように構成されたガス接触側を有する多孔質ガス拡散層と、多孔質ガス拡散層の反応界面側に配置され、多孔質ガス拡散層の反応界面側を覆い、水性電解液と接触するように構成された電解液接触側を有する触媒層と、を含む。多孔質ガス拡散層は、疎水性材料から構成される。触媒層は、水性電解液が触媒層を通過して触媒層の反対側の反応界面側の気液界面を形成するように親水性であり、決定された電解還元条件でCO

を多炭素化合物に変換するために選択された1つまたは複数の金属で構成され、水性電解液中のCO

の拡散制限を防ぎ、多炭素化合物の選択性を高めるために十分薄い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
国際公開第2018/232515号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献1に記載されている急峻界面CO

電気還元触媒は、主生成物のファラデー効率が低い。
【0006】
本発明は、二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元反応の主生成物のファラデー効率を向上させることが可能なカソードを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
(1)二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元に用いられるカソードであって、ガス拡散層と、ナノダイヤモンドを含む第一層と、前記二酸化炭素および/または一酸化炭素の電解還元を促進する触媒を含む第二層と、を備える、カソード。
【0008】
(2)前記ナノダイヤモンドは、水素で終端されている、(1)に記載のカソード。
【0009】
(3)前記ガス拡散層の単位幾何学的面積当たりの前記第一層の目付量が0.005mg/cm

以上10mg/cm

以下である、(1)または(2)に記載のカソード。
【0010】
(4)フッ素樹脂を含む第三層をさらに備える、(1)から(3)のいずれか一項に記載のカソード。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

本田技研工業株式会社
鞍乗り型車両
2日前
本田技研工業株式会社
床下画像表示システム
2日前
本田技研工業株式会社
駐車制御装置及び駐車制御方法
2日前
本田技研工業株式会社
非接触電力伝送システムの制御装置
2日前
本田技研工業株式会社
運転支援装置、情報処理方法、及びプログラム
3日前
個人
水素を作る方式 水の電気分解
1か月前
ノリタケ株式会社
電極および水電解装置
17日前
株式会社Eプラス
電気分解方法、電気分解装置
4日前
JX金属株式会社
金属材料
13日前
株式会社クオルテック
水素製造装置および水素製造方法
1か月前
京セラ株式会社
エネルギーシステム
1か月前
東レ株式会社
アルカリ水電解用隔膜、及びその製造方法
17日前
オリオン機械株式会社
処理装置および燃料供給システム
1か月前
株式会社日立製作所
水電解システム
23日前
NTN株式会社
硬質膜形成体、機械部品、および軸受
3日前
住友金属鉱山株式会社
銅張積層板の製造方法
10日前
三菱重工業株式会社
水素製造設備及び水素製造方法
1か月前
株式会社アイシン
水素製造システム
1か月前
日本軽金属株式会社
アルミニウム部材及びその製造方法
2日前
日本特殊陶業株式会社
電解セル及び電解装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
電解セル及び電解装置
16日前
トヨタ自動車株式会社
金属皮膜の成膜装置
12日前
三菱重工業株式会社
水素生成システム及びその制御方法
1か月前
日本特殊陶業株式会社
電解セル及び電解装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
電解セル及び電解装置
16日前
株式会社豊田中央研究所
水電解システム
5日前
東邦チタニウム株式会社
金属マグネシウムの製造方法
1か月前
三菱重工業株式会社
セパレータ、及び電解装置
17日前
日本特殊陶業株式会社
電解モジュール及び電解装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
電解モジュール及び電解装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
電解モジュール及び電解装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
電解モジュール及び電解装置
16日前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置およびめっき方法
1か月前
デノラ・ペルメレック株式会社
電気化学セル及び電気化学装置
23日前
ミカドテクノス株式会社
表面処理装置及び被覆部材
1か月前
株式会社日立製作所
水電解システム及び水電解制御方法
1か月前
続きを見る