特許ウォッチ

公開番号2025065220
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-17
出願番号2025015978,2021114321
出願日2025-02-03,2021-07-09
発明の名称希土類焼結磁石のリサイクル方法
出願人信越化学工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C23F 1/40 20060101AFI20250410BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】希土類磁石表面に施されたNiめっきを、希土類磁石の特性を落とすことなく剥離して希土類磁石をリサイクルでき、これにより希土類磁石の製品歩留まりを向上させることが出来る希土類磁石のリサイクル方法を提供する。
【解決手段】本発明の希土類磁石のリサイクル方法は、Niを含有する被膜を表面に有する希土類磁石を、ニトロベンゼンの誘導体、エチレンジアミン及びアンモニアを含有する剥離液に浸漬することを特徴とする。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
Ｎｉを含有する被膜を表面に有する希土類磁石を、ニトロベンゼンの誘導体、エチレンジアミン及びアンモニアを含有する剥離液に浸漬することを特徴とする希土類磁石のリサイクル方法。
続きを表示（約 650 文字）【請求項２】
前記ニトロベンゼンの誘導体が、ｏ－ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム、ｍ－ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム、及びｐ－ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウムからなる群から選択される少なくとも１種のニトロベンゼンスルホン酸ナトリウムであることを特徴とする請求項１に記載の希土類磁石のリサイクル方法。
【請求項３】
前記Ｎｉを含有する被膜を表面に有する希土類磁石が、希土類磁石の製造工程で発生した不良品であることを特徴とする請求項１又は２に記載の希土類磁石のリサイクル方法。
【請求項４】
前記Ｎｉを含有する被膜を表面に有する希土類磁石の前記剥離液への浸漬中に、周波数２０～１００ｋＨｚの超音波を前記剥離液に印加することを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の希土類磁石のリサイクル方法。
【請求項５】
前記Ｎｉを含有する被膜を表面に有する希土類磁石の前記剥離液への浸漬温度が、２０～７０℃であることを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の希土類磁石のリサイクル方法。
【請求項６】
前記剥離液のｐＨが、１０．０～１３．５であることを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の希土類磁石のリサイクル方法。
【請求項７】
前記剥離液に浸漬する前後で、前記希土類磁石の磁束密度及び保磁力の変化が１．０％以下であることを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の希土類磁石のリサイクル方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、希土類磁石のリサイクル方法、特にネオジム磁石の表面に形成されためっき被膜を除去し、ネオジム磁石を再利用する希土類磁石のリサイクル方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
希土類磁石は、省エネルギー化や高機能化に必要不可欠な機能性材料として、その応用範囲はエアコン等の一般家電製品からＨＥＶやＥＶ等の自動車用途まで幅広い分野に広がっている。世界的なＥＶ促進の動き、また、クラウドサービスや動画配信の普及に伴う、データセンター向けの超大容量ＨＤＤ需要の高まりなど、今後ますます生産量が伸びることが予想されている。
【０００３】
一般的な希土類磁石は、所定組成に調整した原料合金を不活性ガス雰囲気中で微粉砕し、磁場印加しながらある程度の大きさに圧粉成形し、真空あるいは不活性ガス雰囲気中で焼結することにより製造される。製造された希土類磁石は、機械加工や研削加工により製品形状に加工され、更にめっきや塗装等の表面処理を施されて製品となる。各工程では不良品やスラッジ等のロスが発生するが、希少資源の有効活用、廃棄物発生量の低減、更には希土類磁石の価格低減の観点から、これらのロスを低減するためのリサイクルは重要なプロセスとして位置づけられている。
【０００４】
上記各工程のうち、表面処理工程では希土類磁石に耐食性を付与するために希土類磁石表面に処理を施すが、耐食性が良好であり量産も容易であるため一般的にはＮｉめっきが施される場合も多い。しかしながら、このＮｉめっきを施す表面処理工程ではその歩留まり改善に限界があり、一定量のめっき不良品が発生することは避けられない。上記の通り、希土類磁石には貴重な資源である希土類元素が含まれているため、めっき不良品を再利用することが検討されている。
【０００５】
例えば特許文献１には、Ｎｉ被覆希土類合金の製造工程で発生するＮｉ被覆付きの廃材を再利用する際に、Ｎｉ被覆膜を安全、容易かつ安価に除去できる方法として、希土類合金のＮｉ被覆膜を電解酸化により除去する技術が記載されており、電解酸化は電気めっきとは逆の反応であり、制御が容易で、安全かつ安価に実施することができることが報告されている。
【０００６】
また、特許文献２には、めっき処理において発生しためっき加工失敗品は、ネオジム系磁石が高価であるため、めっき皮膜を剥離し再めっき処理することを前提に、ネオジム系磁石等の被処理物の素地を侵食すること
なく銅及びＮｉ金属又は合金を剥離することができる非シアン系の銅及びＮｉの浸漬剥離剤を提供できることが報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開平５－３３０７４号公報
特開平７－１３８７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載されている技術は、希土類合金から希土類元素を抽出する前段階としてＮｉめっき膜を除去することを目的としており、希土類磁石をリサイクルする場合に重要となるＮｉめっき除去後の磁気特性については言及がない。
【０００９】
また、特許文献２に記載されている技術は、剥離温度（室温～９０℃，特に７０℃～８０℃）の点で改善の余地がある。希土類磁石は塩基性溶液中で高温に晒されると、素地が侵食され溶けだすことはないものの、希土類磁石組み立て時に加熱を行う場合に特性劣化を起こすことがある。
【００１０】
さらに、特許文献２に記載されている技術は、処理温度７０～８０℃において通常２～１０μｍ／ｈｒのめっき剥離速度が報告されているが、この剥離速度はリサイクル工程の効率化の観点からは十分とは言えない。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許