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公開番号2025063278
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-15
出願番号2025009416,2019230592
出願日2025-01-22,2019-12-20
発明の名称画像表示装置及び光学体の製造方法
出願人デクセリアルズ株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 5/04 20060101AFI20250408BHJP(光学)
要約【課題】
耐久性が高く、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる、画像表示装置及び光学体の製造方法を提供する。
【解決手段】
上記課題を解決するべく、本発明の画像表示装置は、一方の面にマイクロプリズム構造11が形成された光学体10を備え、該光学体10のマイクロプリズム構造11が、前記画像表示装置の画像表示面側Oに形成されており、前記マイクロプリズム構造11は、形成面13から前記画像表示面側Oに突出した頂点12Cを有する三角波状のプリズム12が複数形成されており、且つ、該三角波状のプリズム12は、前記形成面13から延在する2つの斜面12A、12Bの角度α、βがそれぞれ異なる非対称三角波型プリズムであることを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
一方の面にマイクロプリズム構造が形成された光学体を備える、画像表示装置であって、
前記光学体のマイクロプリズム構造が、前記画像表示装置の画像表示面側に形成されており、
前記マイクロプリズム構造は、形成面から前記画像表示面側に突出した頂点を有する三角波状のプリズムが複数形成されており、且つ、該三角波状のプリズムは、前記形成面から延在する２つの斜面の傾斜角がそれぞれ異なる非対称三角波型プリズムであることを特徴とする、画像表示装置。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
前記三角波状のプリズムを構成する斜面は、前記形成面からの傾斜角が10°以上である第１の斜面と、前記形成面からの傾斜角が前記第１の斜面よりも60°以上大きい第２の斜面と、からなることを特徴とする、請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムがいずれも画像表示装置の横方向に延在し、且つ、前記第１の斜面が下に位置するように、前記光学体が配設されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムの配設ピッチが、5～50μmであることを特徴とする、請求項１～３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムがいずれも連続的に延在していることを特徴とする、請求項１～４に記載の画像表示装置。
【請求項６】
請求項１～５のいずれか１項に記載の画像表示装置に設けられた光学体を製造する方法であって、
三角波状の溝が形成された金型を用意する工程と、
前記金型の溝の表面に剥離コーティングを施す工程と、
前記金型に施された剥離コーティング上に、硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記硬化性樹脂上に、基材フィルムを配置した後、前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記金型から、前記基材フィルムと硬化した樹脂との積層体を剥離させる工程と、を具え、
前記金型の三角波状の溝は、水平面からの傾斜角が10°以上である第１の溝斜面と、水平面からの傾斜角が前記第１の斜面よりも60°以上大きい第２の溝斜面と、からなることを特徴とする、光学体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性が高く、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる、画像表示装置及び光学体の製造方法に関するものである。
続きを表示（約 2,700 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ等の画像表示装置や、スマートフォン、ゲーム機等の画像表示機能を備えた装置は、外部からの強い光にさらされることがあり、光の反射によるコントラストの低下や、画質の悪化（色ムラ、ゴースト等の発生）を抑制することが望まれている。
外光照射によるコントラスト低下を抑制する技術として、例えば、装置の画像表示面に、防眩性フィルムや反射防止フィルムを設ける技術が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、可視光波長帯域以下の平均ピッチを有する微細な凹凸構造（モスアイ構造）を備えた反射防止フィルムを設けることで、反射光の発生を抑える技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００３－９８３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の、画像表示面に防眩性フィルムや反射防止フィルムを設ける技術では、画像表示装置が強い外光さらされる環境に置かれた際、十分な画像のコントラストを得ることができなかった。
また、特許文献１のようなモスアイ構造を備えた反射防止フィルムを用いた場合も、強い外光さらされる環境に置かれた際、十分な画像のコントラストを得ることができず、さらに、微細凹凸構造は繊細な構造であるため、外部からの圧力に対する耐久性についても改善を図る必要があった。
【０００６】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、耐久性が高く、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる、画像表示装置及び光学体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、表面にマイクロプリズム構造が形成された光学体を設けるとともに、該マイクロプリズム構造の形状及び配設方向について適正化を図ることによって、外光照射に起因した反射光を、観察者から見て上方向や下方向へ確実に逸らすことができるため、良好な画像のコントラストが得られること、さらに、マイクロリズム構造は、上述した微細なモスアイ構造に比べて強度が高いため、光学体の耐久性についても向上できることを見出した。
【０００８】
本発明は、上記知見に基づきなされたものであり、その要旨は以下の通りである。
（１）一方の面にマイクロプリズム構造が形成された光学体を備える、画像表示装置であって、
前記光学体のマイクロプリズム構造が、前記画像表示装置の画像表示面側に形成されており、
前記マイクロプリズム構造は、形成面から前記画像表示面側に突出した頂点を有する三角波状のプリズムが複数形成されており、且つ、該三角波状のプリズムは、前記形成面から延在する２つの斜面の傾斜角がそれぞれ異なる非対称三角波型プリズムであることを特徴とする、画像表示装置。
上記構成によって、光学体の耐久性を高め、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる。
（２）前記三角波状のプリズムを構成する斜面は、前記形成面からの傾斜角が10°以上である第１の斜面と、前記形成面からの傾斜角が前記第１の斜面よりも60°以上大きい第２の斜面と、からなることを特徴とする、上記（１）に記載の画像表示装置。
（３）前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムがいずれも画像表示装置の横方向に延在し、且つ、前記第１の斜面が下に位置するように、前記光学体が配設されていることを特徴とする、上記（１）又は（２）に記載の画像表示装置。
（４）前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムの配設ピッチが、5～50μmであることを特徴とする、上記（１）～（３）のいずれかに記載の画像表示装置。
（５）前記マイクロプリズム構造における、前記三角波状のプリズムがいずれも連続的に延在していることを特徴とする、上記（１）～（４）のいずれかに記載の画像表示装置。
（６）上記（１）～（５）のいずれかのいずれか１項に記載の画像表示装置に設けられた光学体を製造する方法であって、
三角波状の溝が形成された金型を用意する工程と、
前記金型の溝の表面に剥離コーティングを施す工程と、
前記金型に施された剥離コーティング上に、硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記硬化性樹脂上に、基材フィルムを配置した後、前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記金型から、前記基材フィルムと前記硬化性樹脂との積層体を剥離させる工程と、を具え、
前記金型の三角波状の溝は、水平面からの傾斜角が10°以上である第１の溝斜面と、水平面からの傾斜角が前記第１の斜面よりも60°以上大きい第２の溝斜面と、からなることを特徴とする、光学体の製造方法。
上記構成によって、耐久性が高く、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる、画像表示装置を得ることができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐久性が高く、外光照射によるコントラスト低下を抑制できる、画像表示装置及び光学体の製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の画像表示装置中の光学体について、一実施形態を模式的に示した斜視図である。
（ａ）は、本発明の画像表示装置中の光学体について、一実施形態を拡大し、模式的に示した断面図であり、（ｂ）は、本発明の画像表示装置中の光学体について、一実施形態を拡大し、模式的に示した正面図である。
画像表示装置中の光学体が、対称三角波型のプリズム構造を有する場合の、画像表示素子から照射された光の流れを模式的に示した断面図である。
本発明の一実施形態に係る画像表示装置に設けられる光学体を製造するための、製造工程の一例を示すフロー図である。
実施例において、実施例１～３及び比較例２～５の光学体サンプルの正反射率の測定に使用した装置構成を説明するための模式斜視図である。
実施例１～３及び比較例２～５の光学体サンプルについて、波長に応じた反射率（％）を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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