TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025021201
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-13
出願番号
2023124972
出願日
2023-07-31
発明の名称
光測定方法
出願人
日機装株式会社
代理人
弁理士法人平田国際特許事務所
主分類
G01J
1/16 20060101AFI20250205BHJP(測定;試験)
要約
【課題】対象発光装置の光出力の測定精度が経時的に低下することを抑制できる光測定方法を提供する。
【解決手段】光測定方法は、光測定装置2を用いて参照用発光装置の光出力の初期測定値A
0
を取得し、光測定装置2を用いて対象発光装置の光出力の測定値Mを取得し、測定値Mの測定の時点における、光測定装置2を用いた参照用発光装置の光出力の測定値の目安値A
n
を取得し、初期測定値A
0
を目安値A
n
で除算した値A
0
/A
n
を時間差補正係数A
0
/A
n
としたとき、測定値Mに少なくとも時間差補正係数A
0
/A
n
を乗算することで、対象発光装置の光出力の補正値M
c
を得る。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
光測定装置を用いて参照用発光装置の光出力の初期測定値A
0
を取得し、
前記光測定装置を用いて対象発光装置の光出力の測定値Mを取得し、
前記測定値Mの測定の時点における、前記光測定装置を用いた前記参照用発光装置の光出力の測定値の目安値A
n
を取得し、
前記初期測定値A
0
を前記目安値A
n
で除算した値A
0
/A
n
を時間差補正係数A
0
/A
n
としたとき、前記測定値Mに少なくとも前記時間差補正係数A
0
/A
n
を乗算することで、前記対象発光装置の光出力の補正値M
c
を得る、
光測定方法。
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記目安値A
n
は、前記測定値Mの測定から前後8時間以内に測定された前記参照用発光装置の光出力の測定値に基づいて決定される、
請求項1に記載の光測定方法。
【請求項3】
前記光測定装置を用いて、参照用集合基板に搭載された状態の前記参照用発光装置の前記初期測定値A
0
を取得するとともに第2参照用集合基板に搭載された状態の第2参照用発光装置の光出力の初期測定値B
0
を取得し、
前記初期測定値B
0
の取得後、前記第2参照用集合基板から前記第2参照用発光装置を個片化し、標準機を用いて、個片化された前記第2参照用発光装置の光出力の基準測定値B
true
を取得し、
前記光測定装置を用いて、対象集合基板に搭載された状態の前記対象発光装置の前記測定値Mを取得し、
前記基準測定値B
true
を前記初期測定値B
0
で除算した値B
true
/B
0
を装置差補正係数B
true
/B
0
としたとき、前記測定値Mに少なくとも前記時間差補正係数A
0
/A
n
と、前記装置差補正係数B
true
/B
0
とを乗算することで、前記補正値M
c
を得る、
請求項1又は2に記載の光測定方法。
【請求項4】
前記初期測定値A
0
及び前記初期測定値B
0
は、互いに8時間以内に測定される、
請求項3に記載の光測定方法。
【請求項5】
前記時間差補正係数A
0
/A
n
は、前記参照用集合基板に搭載された複数の前記参照用発光装置の光出力を複数回ずつ測定して得られた結果に基づいて決定され、
前記装置差補正係数B
true
/B
0
は、前記第2参照用集合基板に搭載された複数の前記第2参照用発光装置の光出力を複数回ずつ測定して得られた結果と、前記第2参照用集合基板から個片化された複数の前記第2参照用発光装置の光出力を複数回ずつ測定して得られた結果と、に基づいて決定される、
請求項3に記載の光測定方法。
【請求項6】
前記参照用発光装置及び前記対象発光装置のそれぞれは、紫外光を発光する、
請求項1又は2に記載の光測定方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、光測定方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、積分球又は積分半球を有する光測定装置を用いて、発光装置としてのLED(Light Emitting Diode)の光出力を測定する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2012-227201号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
光測定装置は、時間経過によって状態が変わり、測定精度が経時的に低下するおそれがある。
【0005】
本発明は、前述の事情に鑑みてなされたものであり、対象発光装置の光出力の測定精度が経時的に低下することを抑制できる光測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、前記の目的を達成するため、光測定装置を用いて参照用発光装置の光出力の初期測定値A
0
を取得し、前記光測定装置を用いて対象発光装置の光出力の測定値Mを取得し、前記測定値Mの測定の時点における、前記光測定装置を用いた前記参照用発光装置の光出力の測定値の目安値A
n
を取得し、前記初期測定値A
0
を前記目安値A
n
で除算した値A
0
/A
n
を時間差補正係数A
0
/A
n
としたとき、前記測定値Mに少なくとも前記時間差補正係数A
0
/A
n
を乗算することで、前記対象発光装置の光出力の補正値M
c
を得る、光測定方法を提供する。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、対象発光装置の光出力の測定精度が経時的に低下することを抑制できる光測定方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
第1及び第2の実施の形態における、発光装置の平面図である。
第1及び第2の実施の形態における、光測定装置の構成を示す断面図である。
第1及び第2の実施の形態における、挿通穴周辺を見た光測定装置の側面図である。
第1及び第2の実施の形態における、標準機の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
[第1の実施の形態]
本発明の第1の実施の形態について、図1乃至図4を参照して説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、本発明を実施する上での好適な具体例として示すものであり、技術的に好ましい種々の技術的事項を具体的に例示している部分もあるが、本発明の技術的範囲は、この具体的態様に限定されるものではない。
【0010】
(発光装置)
まず、本形態の光測定方法にて用いる発光装置について説明する。図1は、本形態の光測定方法にて用いる発光装置1の平面図である。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
日機装株式会社
光測定方法
1日前
日機装株式会社
半導体発光装置
1か月前
日機装株式会社
光測定装置の点検方法
1日前
日機装株式会社
窒化物半導体発光素子
8日前
日機装株式会社
ダイアフラム破損検出装置および往復動ポンプ装置
7日前
日機装株式会社
振動センサユニット、回転電機、およびポンプ装置
8日前
日機装株式会社
半導体発光素子の製造システム
8日前
日機装株式会社
半導体発光素子の製造システム
8日前
日機装株式会社
機械学習装置、絶縁状態診断装置、機械学習方法、機械学習プログラム、絶縁状態診断方法、絶縁状態診断プログラム
今日
個人
集束超音波の測定機
21日前
個人
センサ制御回路
21日前
株式会社大真空
センサ
9日前
甲神電機株式会社
電流検出器
14日前
甲神電機株式会社
電流センサ
14日前
甲神電機株式会社
漏電検出器
14日前
株式会社高橋型精
採尿具
15日前
ユニパルス株式会社
ロードセル
8日前
東レ株式会社
液体展開用シート
1日前
ダイトロン株式会社
外観検査装置
21日前
株式会社トプコン
測量装置
14日前
学校法人東京電機大学
干渉計
22日前
株式会社諸岡
自動運転作業機
25日前
アズビル株式会社
熱式流量計
15日前
キヤノン電子株式会社
サーボ加速度計
1日前
キヤノン電子株式会社
サーボ加速度計
1日前
キヤノン電子株式会社
サーボ加速度計
1日前
株式会社クボタ
作業車両
今日
株式会社ミトミ技研
圧力測定装置
21日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
15日前
豊田合成株式会社
表示装置
14日前
TDK株式会社
磁気センサ
21日前
シャープ株式会社
収納装置
15日前
株式会社JVCケンウッド
撮像装置
22日前
トヨタ自動車株式会社
画像検査装置
9日前
エスペック株式会社
試験装置
22日前
アズビル株式会社
ヒータ温度推定装置
22日前
続きを見る
他の特許を見る