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公開番号2024179110
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-26
出願番号2023097665
出願日2023-06-14
発明の名称光源装置及び膜厚調整機構
出願人ウシオ電機株式会社
代理人弁理士法人南青山国際特許事務所
主分類G21K 5/08 20060101AFI20241219BHJP(核物理;核工学)
要約【課題】速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布すること。
【解決手段】本技術に係る光源装置では、エネルギービームが照射される照射面に当接部材が当接される。当接部材は照射面に直交する方向に移動可能に支持され、照射面に対して押圧される。また当接部材は、照射面と平行な面における断面積が、当接部材及び照射面の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。これにより、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、
前記エネルギービームを照射するビーム源と、
前記液体原料が付着する面であり、かつ前記エネルギービームが照射される面である照射面を有する第１の回転体と、
前記照射面に当接する当接部材と、
前記当接部材を前記照射面に直交する方向に移動可能に支持する支持部材と
を有し、前記当接部材は、前記照射面に対して押圧され、前記照射面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記照射面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する膜厚調整機構と
を具備する光源装置。
続きを表示（約 770 文字）【請求項２】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする第２の回転体である
光源装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、球状の形状を有する
光源装置。
【請求項４】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、砲弾型の形状を有し、先端が前記照射面に当接する
光源装置。
【請求項５】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、円柱形状を有し、側面が前記照射面に当接する
光源装置。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に対して押圧する弾性体を有する
光源装置。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記支持部材は、前記当接部材を重力方向に移動可能に支持し、
前記当接部材は、前記当接部材の自重により前記照射面に対して押圧される
光源装置。
【請求項８】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第１の回転体は、円形状の第１の面、前記第１の面の反対側の面である円形状の第２の面、及び側面からなる円盤形状を有する
光源装置。
【請求項９】
請求項８に記載の光源装置であって、
前記照射面は、前記第１の面である
光源装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の光源装置であって、
前記照射面は、前記側面である
光源装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線や極端紫外光等を発生させる光源装置、及び液体原料の膜厚を調整する膜厚調整機構に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、Ｘ線は、医療用用途、工業用用途、研究用用途に用いられてきた。医療用分野においては、Ｘ線は、胸部Ｘ線写真撮影、歯科Ｘ線写真撮影や、ＣＴ（Computer Tomogram）といった用途に用いられる。工業用分野においては、Ｘ線は、構造物や溶接部などの物質内部を観察する非破壊検査、断層非破壊検査といった用途に用いられる。研究用分野においては、Ｘ線は、物質の結晶構造を解析するためのＸ線回折、物質の構成元素を分析するためのＸ線分光（蛍光Ｘ線分析）といった用途に用いられる。
【０００３】
Ｘ線のうち比較的波長の長い軟Ｘ線領域にある波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）は、近年露光光として使用されている。ここで、微細パターンが構成されているＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、積層構造として、低熱膨張性ガラスから成る基板の上に、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）が設けられてなる反射ミラーである。そして、多層膜上に波長１３．５ｎｍの放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。
【０００４】
また、ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、従来のＡｒＦマスクの場合に比べると大幅に小さくなっており検出することが困難となっている。そこで、ＥＵＶマスクの検査として、通常はアクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。例えば、波長１３．５ｎｍの放射線を用いて検査を行うと、波長以下の分解能で欠陥を検出することが可能となる。
【０００５】
一般にＥＵＶ光源装置としては、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源装置、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）光源装置、及びＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源装置が挙げられる。
【０００６】
ＤＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む気体状のプラズマ原料（放電ガス）が供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。
【０００７】
ＬＤＰ光源装置は、ＤＰＰ光源装置が改良されたものであり、例えば、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してエネルギービーム（例えば、電子ビームやレーザビーム等）を照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。
【０００８】
ＬＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種をレーザビーム等により励起して高温プラズマを生成するものである。この方式の光源装置としては、ＥＵＶ放射用ターゲット材料である微小な液滴状に噴出されたスズ（Ｓｎ）、または、リチウム（Ｌｉ）等のドロップレットに対して、レーザ光を集光することにより当該ターゲット材料を励起してプラズマを発生させるものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
特開２０１４－２１６２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
例えば特許文献１の光源装置では、光量を得るためにエネルギービームの周波数を変化させる必要がある。しかしながらこの場合、照射により発生する熱量もまた増加するため、熱を逃がす方策が必要となる。そこで、例えば回転体の回転を速くすることで、回転体の各々の領域が短いスパンでプラズマ原料に浸漬されるようにし、冷却効率を向上させるという対策が取られる。
（【００１１】以降は省略されています）

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