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公開番号2024175418
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-18
出願番号2023093197
出願日2023-06-06
発明の名称静電チャック
出願人TOTO株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20241211BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】離脱応答性の良好な静電チャックを提供する。
【解決手段】静電チャック10は、基板Wが載置される面110を有する誘電体基板100と、誘電体基板100に内蔵された吸着電極130と、誘電体基板100に形成された環状の突起であって、その先端が面110の一部となっているシールリング111と、を備える。面110に対し垂直な方向から見た場合において、シールリング111は、第1部分P1と、第1部分P1とは異なる位置にある第2部分P2と、を有し、第1部分P1のうち、吸着電極130と重なる範囲の占めている割合は、第2部分P2のうち、吸着電極130と重なる範囲が占めている割合よりも小さい。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、
前記誘電体基板に内蔵された吸着電極と、
前記誘電体基板に形成された環状の突起であって、その先端が前記載置面の一部となっているシールリングと、を備え、
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記シールリングは、
第１部分と、
前記第１部分とは異なる位置にある第２部分と、を有し、
前記第１部分のうち、前記吸着電極と重なる範囲の占めている割合は、
前記第２部分のうち、前記吸着電極と重なる範囲が占めている割合よりも小さいことを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 400 文字）【請求項２】
前記誘電体基板には、前記シールリングの周囲の空間にガスを供給するためのガス穴が形成されており、
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記第１部分は、前記シールリングのうち前記ガス穴と隣り合う部分であることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記ガス穴は、前記シールリングに沿って並ぶように複数形成されており、
それぞれの前記ガス穴と隣り合う位置に前記第１部分があることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。
【請求項４】
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記第１部分のうち、前記吸着電極と重なっていない領域は、前記ガス穴を中心とした円形の領域の一部であることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばＣＶＤ装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板を備える。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。
【０００３】
下記特許文献１に記載されているように、誘電体基板のうち基板側の面には、環状の突起であるシールリング（シールバンド）が１つまたは複数形成される。シールリングの内側の空間、すなわち、誘電体基板と基板との間の空間には、処理中における基板の温度調整等を目的として、ヘリウム等の不活性ガスが供給される。不活性ガスは、誘電体基板に形成されたガス穴を通じて上記空間に供給される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２３－３４０９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らが行った実験等によれば、ガス穴とシールリングとの位置関係によっては、静電チャックの吸着力が大きくなり過ぎて、所謂離脱応答性が低下してしまうことがあるという知見が得られている。その原因は、ガス穴から供給された不活性ガスの一部が、その近傍にあるシールリングと基板との間の微小な隙間に入り込み、当該部分における吸着力を局所的に増大させてしまうためと考えられる。
【０００６】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、離脱応答性の良好な静電チャックを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る静電チャックは、被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、誘電体基板に内蔵された吸着電極と、誘電体基板に形成された環状の突起であって、その先端が載置面の一部となっているシールリングと、を備える。載置面に対し垂直な方向から見た場合において、シールリングは、第１部分と、第１部分とは異なる位置にある第２部分と、を有し、第１部分のうち、吸着電極と重なる範囲の占めている割合は、第２部分のうち、吸着電極と重なる範囲が占めている割合よりも小さい。
【０００８】
このような構成の静電チャックでは、上面視におけるシールリングと吸着電極との重なり方が、シールリングの全周に亘り一様とはなっておらず、第１部分における重なり方が第２部分における重なり方に比べて小さくなっている。例えば、ガス穴の近傍となる位置に第１部分が配置されるよう、吸着電極の形状等を設定すれば、上記のような吸着力の局所的な増大を抑制し、静電チャックの離脱応答性を向上させることが可能となる。
【０００９】
また、本発明に係る静電チャックでは、誘電体基板には、シールリングの周囲の空間にガスを供給するためのガス穴が形成されており、載置面に対し垂直な方向から見た場合において、第１部分は、シールリングのうちガス穴と隣り合う部分であることも好ましい。
【００１０】
シールリングのうちガス穴と隣り合う部分は、不活性ガスの影響により吸着力が局所的に増大しやすい部分だと考えられる。このような部分を第１部分とし、当該部分における吸着力を抑制することで、静電チャックの離脱応答性を向上させることができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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