TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024161665
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-20
出願番号2023076504
出願日2023-05-08
発明の名称電子装置、及び電磁妨害低減方法
出願人株式会社日立製作所
代理人弁理士法人一色国際特許事務所
主分類G01R 29/26 20060101AFI20241113BHJP(測定;試験)
要約【課題】電磁妨害を容易かつ効果的に低減する。
【解決手段】その所定部位から所定の放射方向5に発せられた電磁波を放射方向以外5の方向に反射させる反射面41を有する反射部材40を備える、電子装置(通信装置30)。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
その所定部位から所定の放射方向に発せられた電磁波を前記放射方向以外の方向に反射させる反射面を有する反射部材を備える、電子装置。
続きを表示(約 830 文字)【請求項2】
前記反射部材は、前記反射面を前記電子装置の所定部位から所定距離離間させるための引出部を有する、請求項1に記載の電子装置。
【請求項3】
前記反射部材は、前記電子装置から前記放射方向に延伸する前記引出部と、前記反射面を有する反射部とを含んで構成され、前記反射部は、前記引出部の延伸方向に対して前記反射面が所定角度をなすように、前記引出部に対して所定部位で屈曲されている、請求項2に記載の電子装置。
【請求項4】
前記所定部位から前記屈曲されている部位までの距離は50mm以下に設定されている、請求項3に記載の電子装置。
【請求項5】
前記電子装置は、所定の通信ケーブルを挿入可能な挿入口を備えており、
前記通信ケーブルが前記挿入口に挿入された場合に当該通信ケーブルが位置することになる、前記反射部材における部位が切削された切削部を備える、
請求項1に記載の電子装置。
【請求項6】
前記反射部は、前記引出部の延伸方向に対して前記反射面が20度超80度以下の角度をなすように前記引出部に対して屈曲されている、請求項3に記載の電子装置。
【請求項7】
前記反射部材における前記反射面は金属製の部材からなる、請求項1に記載の電子装置。
【請求項8】
前記反射部材を脱着可能な脱着構造を備える、請求項1に記載の電子装置。
【請求項9】
前記反射部材は、前記電子装置に接続され、前記所定部位から前記放射方向に発せられた電磁波を前記放射方向以外の方向に反射させる前記反射面を有する略平板状の部材である、請求項1に記載の電子装置。
【請求項10】
電子装置の所定部位から所定の放射方向に発せられた電磁波を前記放射方向以外の方向に反射させる反射面を有する反射部材を、前記電子装置に設ける、電磁妨害低減方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、電子装置、及び電磁妨害低減方法に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)【背景技術】
【0002】
電子製品から発せられる電磁波は、他の製品の動作に悪影響を及ぼす可能性がある。したがって、このような電磁妨害(EMI: Electro-Magnetic Interference)は低減されることが望ましい。そのため、EMIに関する規格が定められており、その規格を満たすための試験(EMI試験)が行われることがある。EMI試験は、例えば、対象の電子製品から所定距離離れた所定高さの位置(電磁波の影響を受けるおそれがある他の製品を想定した位置)において観測される所定周波数の電磁波が、対象の電子製品を中心とする全ての方向(回転角)において所定基準値以下であるかを試験する。
【0003】
EMIの典型的な発信源である電子製品のIC(Integrated Circuit)又は基板に対しては、これまでに様々な対策が提案されている。代表的な対策としては、金属による電磁シールド、電磁波吸収シートの使用、及び、スペクトラム拡散クロックSSC(Spread Spectrum Clock)の使用等により周波数を変調させることでピーク周波数での妨害電磁波量を低減する手法がある。これらの対策は、妨害電磁波を閉じ込めたり外部に放射しないためのアプローチである。このようなアプローチの例としては、特許文献1に、電磁波ノイズ源から発生する電磁波ノイズを低減する低EMI構造体であって、電磁波ノイズ源から所定の位置に、電磁波ノイズ源と対向する面が平面である強誘電体を配置させ、電磁波ノイズ源から放射された電磁波ノイズを強誘電体の法線方向に導くような低EMI構造体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2000-13087号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、妨害電磁波を閉じ込める手法の場合、電磁波の周波数が数GHz以上の高周波(短波長)になると、数cm程度の部品間の隙間又は微小なギャップから電磁波が漏れてしまうことがあり得る。これを防ぐために筐体の加工を行おうとすると、金属(板金)の形状が複雑となり、金型コストの増加又は電磁吸収シートのコストの増加につながってしまうおそれがある。一方、妨害電磁波を外部に放射しない手法の場合(SSC)でも、SSCの高速信号の伝送の性質からエラーレートが悪化してしまったり、最悪の場合は、一部のICで正常にデータ伝送ができず、リンクアップしなくなることがあり得る。
【0006】
特に、ストレージ装置又はサーバ装置の場合、保守性又は構成の自由度の観点から、CPU等が搭載されるメイン基板だけでなく、通信機能を有する外部のI/Oモジュールを有する構成となっていることが多い。このようなI/Oモジュールは一定の範囲に集中してメイン基板に取り付けられるため、これらのI/Oモジュールが原因となりEMIの規格値違反になり易い。特に、近年のI/Oモジュールはより高い伝送速度に対応するためにその基本周波数に対応する電磁波もより高周波数となる傾向があるため、EMI対策はその点でも難しくなっている。
【0007】
さらに、ストレージ装置及びサーバ装置は、規格上又は技術上の制約により複雑な部品構成を有しているため、EMIをシミュレーションして事前検証を行うことは難しく、開発の最終段階にならないと検証は難しい(装置全体でシミュレーションを行うことは複雑に過ぎる)。
【0008】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、電磁妨害を容易かつ効果的に低減することが可能な電子装置、及び電磁妨害低減方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するための本発明の一つは、その所定部位から所定の放射方向に発せられた電磁波を前記放射方向以外の方向に反射させる反射面を有する反射部材を備える、電子装置である。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、電磁妨害を容易かつ効果的に低減することができる。
上記した以外の構成及び効果等は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

株式会社日立製作所
回転電機
12日前
株式会社日立製作所
電動アクチュエータ
24日前
株式会社日立製作所
管理装置、管理方法
11日前
株式会社日立製作所
走行パターン生成装置
19日前
株式会社日立製作所
学習方法及び学習システム
3日前
株式会社日立製作所
状態検知装置、状態検知方法
11日前
株式会社日立製作所
セキュリティ機能実行デバイス
18日前
株式会社日立製作所
データ管理システムおよび方法
12日前
株式会社日立製作所
設計支援装置及び設計支援方法
10日前
株式会社日立製作所
情報処理装置及び情報処理方法
3日前
株式会社日立製作所
音点検システムおよび音点検方法
10日前
株式会社日立製作所
作業支援装置および作業支援方法
3日前
株式会社日立製作所
計算機システム及び検索支援方法
11日前
株式会社日立製作所
生産計画方法及び生産計画システム
3日前
株式会社日立製作所
画像内のユーザを特定するシステム
11日前
株式会社日立製作所
状態出力システム及び状態出力方法
4日前
株式会社日立製作所
移動体評価装置及び移動体評価方法
11日前
株式会社日立製作所
食行動分析システムおよびプログラム
今日
株式会社日立製作所
情報収集システムおよび情報収集方法
今日
株式会社日立製作所
フロー管理システム及びフロー管理方法
11日前
株式会社日立製作所
炭化珪素半導体装置およびその製造方法
今日
株式会社日立製作所
空気調和システム、及び、空気調和方法
11日前
株式会社日立製作所
移動体制御システムおよび移動体制御方法
11日前
株式会社日立製作所
環境価値割当装置、及び環境価値評価方法
18日前
株式会社日立製作所
ツリー生成装置、および、ツリー生成方法
10日前
株式会社日立製作所
金融商品提案装置、及び金融商品提案方法
18日前
株式会社日立製作所
情報処理システム、方法またはプログラム
11日前
株式会社日立製作所
データ収集システム、及びデータ収集方法
3日前
株式会社日立製作所
センサ診断システムおよびセンサ診断方法
今日
株式会社日立製作所
情報処理システム、方法またはプログラム
12日前
株式会社日立製作所
環境負荷算出システム及び環境負荷算出方法
18日前
株式会社日立製作所
チェック支援システム及びチェック支援方法
11日前
株式会社日立製作所
分析装置、分析方法、および分析プログラム
18日前
株式会社日立製作所
作業計画立案システム及び作業計画立案方法
18日前
株式会社日立製作所
運転整理提案システム及び運転整理提案方法
11日前
株式会社日立製作所
ストレージ移行方法及びストレージシステム
18日前
続きを見る