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公開番号2024091581
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-04
出願番号2023216242
出願日2023-12-21
発明の名称表示パネル及びその製造方法
出願人深セン市華星光電半導体顕示技術有限公司
代理人個人,個人
主分類H10K 50/852 20230101AFI20240627BHJP()
要約【課題】異なる発光色の発光ユニットの光学ニーズに適応し、異なる発光色の画素の表示効果を改善する。
【解決手段】表示パネル及びその製造方法を開示し、当該表示パネルはサブストレート、発光機能層、第1の電極層及び光学調整層を含み、発光機能層は発光色の異なる複数の発光ユニットを含み、光学調整層は半導体酸化物を含み、光学調整層は少なくとも第1の光学層及び第2の光学層を含み、第1の光学層と第2の光学層の対応する発光ユニットの発光色が異なり、第1の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率と第2の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率が異なり、本発明は、マグネトロンスパッタリングによる成膜時に、プロセスガスにおける酸素の含有量を調整し、半導体材料の結晶形態を調整し、光学調整層におけるフィルム層の屈折率を調節する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
サブストレートと、
前記サブストレートに位置する第1の電極層と、
光学調整層であって、前記第1の電極層に位置し、前記光学調整層は半導体酸化物を含む光学調整層と、
発光機能層であって、前記光学調整層に位置し、前記発光機能層は発光色の異なる複数の発光ユニットを含む発光機能層と、を含み、
ここで、前記光学調整層は少なくとも第1の光学層及び第2の光学層を含み、前記第1の光学層は1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、前記第2の光学層はもう1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、前記第1の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率は前記第2の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率と異なることを特徴とする表示パネル。
続きを表示(約 1,600 文字)【請求項2】
少なくとも1つの前記第1の光学層は、隣接して設けられた第1のサブ層及び第2のサブ層を含み、前記第2のサブ層は前記第1のサブ層と前記発光機能層との間に位置し、
ここで、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1のサブ層の屈折率より大きいことを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項3】
前記発光機能層は少なくとも第1の有機サブ層を含み、前記第1の有機サブ層は前記第2のサブ層の前記サブストレートの一側から離れた表面に位置し、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1の有機サブ層の屈折率より大きいことを特徴とする請求項2に記載の表示パネル。
【請求項4】
少なくとも1つの前記第1の光学層は、第1のサブ層と、前記第1のサブ層の前記発光機能層に近い一側に位置する第2のサブ層と、前記第2のサブ層と前記発光機能層との間に位置する第3のサブ層と、を含み、
ここで、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1のサブ層の屈折率より小さく、前記第2のサブ層の屈折率は前記第3のサブ層の屈折率より小さいことを特徴とする請求項2に記載の表示パネル。
【請求項5】
前記発光機能層は少なくとも第1の有機サブ層を含み、前記第1の有機サブ層は前記第3のサブ層の前記サブストレートの一側から離れた表面に位置し、前記第3のサブ層の屈折率は前記第1の有機サブ層の屈折率より大きいことを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
【請求項6】
前記第1の光学層のフィルム層数は前記第2の光学層のフィルム層数より多く、前記第1の光学層の対応する色光の波長は前記第2の光学層の対応する色光の波長より長いことを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項7】
前記第1の光学層の厚さは前記第2の光学層の厚さより厚いことを特徴とする請求項6に記載の表示パネル。
【請求項8】
前記表示パネルはさらに、
前記発光機能層の前記第1の電極層から離れた一側に位置する第2の電極層と、
光取り出し層であって、前記第2の電極層の前記発光機能層から離れた一側に位置し、前記光取り出し層は半導体酸化物を含む光取り出し層と、を含み、
ここで、前記光取り出し層は少なくとも第1の取り出し層及び第2の取り出し層を含み、前記第1の取り出し層は1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、第2の取り出し層はもう1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、前記第1の取り出し層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率は前記第2の取り出し層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率と異なることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項9】
少なくとも1つの前記第1の取り出し層は少なくとも第1の取り出しサブ層及び第2の取り出しサブ層を含み、前記第1の取り出しサブ層は前記第1の取り出し層のうちの前記発光ユニットから最も遠いフィルム層であり、前記第2の取り出しサブ層は前記第1の取り出しサブ層の前記第2の電極層に近い一側の表面に設けられ、
ここで、前記第1の取り出しサブ層の屈折率は前記第2の取り出しサブ層の屈折率より大きいことを特徴とする請求項8に記載の表示パネル。
【請求項10】
前記光学調整層はさらに第3の光学層を含み、前記第1の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率、前記第2の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率、及び前記第3の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率は互いに異なり、前記第1の光学層、前記第2の光学層、及び前記第3の光学層に対応する前記発光ユニットの発光色は互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は表示分野に関し、具体的には表示パネル及びその製造方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
近年、OLED(Organic Light Emitting Diode、有機発光ダイオード)表示パネルは広色域、高速応答、高コントラスト、構造が簡単で軽薄である等の特徴を有し、消費者の好みを受け、OLED構造において、TCO(Transparent Conductive Oxide、透明導電酸化物)材料は高導電率、高透過率及び適切な仕事関数によりOLED表示パネルに広く応用され、トポグラフィを平坦化し、電極金属を保護し、光学厚さを補償するという作用を果たし、一般的なTCO材料の成膜方式はマグネトロンスパッタリングであり、一般的に、異なる性質又は異なるタイプのTCOフィルムは複数台の機器を使用する必要があり、そのため、反射電極に応用されるTCOフィルムは通常単一成分であり、各色の発光ユニットに対応するTCOフィルムの性質及びフィルムの厚さが同じであり、異なる発光色の画素に対する最適化コストが高い。
【0003】
従って、上記技術的課題を解決するために表示パネル及びその製造方法が早急に必要とされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、表示パネル及びその製造方法を提供し、現在異なる発光色の画素に対する最適化コストが高いという技術的課題を緩和することができる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明により提供される表示パネルは、
サブストレートと、
前記サブストレートに位置する第1の電極層と、
光学調整層であって、前記第1の電極層に位置し、前記光学調整層は半導体酸化物を含む光学調整層と、
発光機能層であって、前記光学調整層に位置し、前記発光機能層は発光色の異なる複数の発光ユニットを含む発光機能層と、を含み、
ここで、前記光学調整層は少なくとも第1の光学層及び第2の光学層を含み、前記第1の光学層は1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、前記第2の光学層はもう1つの発光色の前記発光ユニットに対応し、前記第1の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率は前記第2の光学層の少なくとも1つのフィルム層の屈折率と異なる。
【0006】
いくつかの実施例では、少なくとも1つの前記第1の光学層は、隣接して設けられた第1のサブ層及び第2のサブ層を含み、前記第2のサブ層は前記第1のサブ層と前記発光機能層との間に位置し、ここで、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1のサブ層の屈折率より大きい。
【0007】
いくつかの実施例では、前記発光機能層は少なくとも第1の有機サブ層を含み、前記第1の有機サブ層は前記第2のサブ層の前記サブストレートの一側から離れた表面に位置し、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1の有機サブ層の屈折率より大きい。
【0008】
いくつかの実施例では、少なくとも1つの前記第1の光学層は、第1のサブ層と、前記第1のサブ層の前記発光機能層に近い一側に位置する第2のサブ層と、前記第2のサブ層と前記発光機能層との間に位置する第3のサブ層と、を含み、ここで、前記第2のサブ層の屈折率は前記第1のサブ層の屈折率より小さく、前記第2のサブ層の屈折率は前記第3のサブ層の屈折率より小さい。
【0009】
いくつかの実施例では、前記発光機能層は少なくとも第1の有機サブ層を含み、前記第1の有機サブ層は前記第3のサブ層の前記サブストレートの一側から離れた表面に位置し、前記第3のサブ層の屈折率は前記第1の有機サブ層の屈折率より大きい。
【0010】
いくつかの実施例では、前記第1の光学層のフィルム層数は前記第2の光学層のフィルム層数より多く、前記第1の光学層の対応する色光の波長は前記第2の光学層の対応する色光の波長より長い。
(【0011】以降は省略されています)

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