特許ウォッチ

公開番号2024087535
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-01
出願番号2022202417
出願日2022-12-19
発明の名称画像処理装置
出願人理想科学工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G06T 7/66 20170101AFI20240624BHJP(計算;計数)
要約【課題】処理時間を増加させることなくドットの誤検出を低減することが可能な画像処理装置を提供する。
【解決手段】ドットを含む印刷画像を読み取って得られた画像データにおける探索領域の濃度重心を算出する探索処理を2回実施し、2回目の探索処理で算出した濃度重心をドットの位置と判定するドット探索処理部11を備える。ドット探索処理部11は、1回目の探索処理で算出した濃度重心に基づき、2回目の探索処理における探索領域を設定するものであり、2回目の探索処理で算出した濃度重心が、1回目の探索処理における探索領域の外側にある場合には、1回目の探索処理で算出した濃度重心を含まない領域を探索領域に設定して2回目の探索処理をやり直す。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
ドットを含む印刷画像を読み取って得られた画像データにおける探索領域の濃度重心を算出する探索処理を２回実施し、２回目の探索処理で算出した濃度重心をドットの位置と判定するドット探索処理部を備え、
前記ドット探索処理部は、
１回目の探索処理で算出した濃度重心に基づき、２回目の探索処理における探索領域を設定するものであり、
２回目の探索処理で算出した濃度重心が、１回目の探索処理における探索領域の外側にある場合には、１回目の探索処理で算出した濃度重心を含まない領域を探索領域に設定して２回目の探索処理をやり直す、画像処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像処理装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
画像処理装置のプリントタイミングを補正するために、調整パターンのドット座標と設計上のドット座標とのずれ量からプリントタイミングの補正量を算出することが行われている。ドット位置を算出する際には、基準となるマーカが印字された印刷物をスキャンして画像を解析し、マーカを検出する。検出したマーカの位置に基づいて基準位置を設定し、基準位置を中心として正方形或いは長方形の探索窓を設定し、探索窓内にて濃度重心を算出することにより、ドットの位置を決定する。
【０００３】
しかし、用紙に夾雑物が存在し用紙表面に汚れが生じる場合には、ドット探索に影響を及ぼすことがある。特に、ドット探索窓の境界を跨ぐような大きな汚れが発生した場合に、ドット位置を誤検出してしまう。
【０００４】
また、今回のドット探索によって決定された座標を基準とし、所定距離だけ移動した先に、次回探索時の探索窓を設定するので、一度ドット位置がずれると後続のドット探索で本来探索するべきドットとは異なるドットを探索してしまう場合がある。このため、プリントタイミング補正量の算出精度が低下する。
【０００５】
特許文献１には、ドットや汚れの面積によりノイズを除去することでドットの位置の誤検出を抑制することが開示されている。
【０００６】
特許文献２には、ノイズによりドット検出が失敗した場合には、ユーザが汚れを取り除くなどの対策を採ることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２００１－２９１１０７号公報
特許６９１５６３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上述した特許文献１に開示された技術では、ドットの面積、汚れの面積を計算するため、処理時間が増加する恐れがある。また、特許文献２では、ユーザの手で取り除くことができない汚れが存在する場合には、処理時間が増加する恐れがある。
【０００９】
本発明は、このような従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、処理時間を増加させることなくドットの誤検出を低減することが可能な画像処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本願発明に係る画像処理装置は、ドットを含む印刷画像を読み取って得られた画像データにおける探索領域の濃度重心を算出する探索処理を２回実施し、２回目の探索処理で算出した濃度重心をドットの位置と判定するドット探索処理部を備え、前記ドット探索処理部は、１回目の探索処理で算出した濃度重心に基づき、２回目の探索処理における探索領域を設定するものであり、２回目の探索処理で算出した濃度重心が、１回目の探索処理における探索領域の外側にある場合には、１回目の探索処理で算出した濃度重心を含まない領域を探索領域に設定して２回目の探索処理をやり直す。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許