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公開番号2025166890
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-07
出願番号2024071064
出願日2024-04-25
発明の名称転写フィルム、導体パターンを有する積層体の製造方法
出願人富士フイルム株式会社
代理人個人,個人
主分類G03F 7/004 20060101AFI20251030BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】解像性に優れたパターンを形成可能であり、かつ、現像速度の低下が抑制された、転写フィルムの提供
【解決手段】仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性組成物層と、をこの順で有する転写フィルムであって、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂と、重合性基を有する可塑剤と、重合禁止剤と、光消色性化合物とを含み、上記熱可塑性樹脂層において、上記重合禁止剤の含有量に対する、上記光消色性化合物の含有量の質量比が、400以下であり、上記転写フィルムから上記仮支持体を剥離して得られた積層体に対して、波長365nmの光を含む紫外光を、波長365nmにおける照射量が1000mJ/cm²となるように上記熱可塑性樹脂層側から照射した場合に、上記照射前の上記積層体の波長365nmにおける透過率をT0、上記照射後の上記積層体の波長365nmにおける透過率をT1000とした際に、式(1)の関係を満たす、転写フィルム。
式(1) T1000/T0≧4
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
仮支持体と、
熱可塑性樹脂層と、
中間層と、
感光性組成物層と、をこの順で有する転写フィルムであって、
前記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂と、重合性基を有する可塑剤と、重合禁止剤と、光消色性化合物とを含み、
前記熱可塑性樹脂層において、前記重合禁止剤の含有量に対する、前記光消色性化合物の含有量の質量比が、４００以下であり、
前記転写フィルムから前記仮支持体を剥離して得られた積層体に対して、波長３６５ｎｍの光を含む紫外光を、波長３６５ｎｍにおける照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ
２
となるように前記熱可塑性樹脂層側から照射した場合に、前記照射前の前記積層体の波長３６５ｎｍにおける透過率をＴ０、前記照射後の前記積層体の波長３６５ｎｍにおける透過率をＴ１０００とした際に、式（１）の関係を満たす、転写フィルム。
式（１）Ｔ１０００／Ｔ０≧４
続きを表示（約 640 文字）【請求項２】
前記感光性組成物層が、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂と、ラジカル重合性基を有するモノマーと、ラジカル重合開始剤とを含む、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
前記光消色性化合物の含有量が、前記熱可塑性樹脂層の全質量に対して、５．００～４０．００質量％である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記熱可塑性樹脂層の厚みが、１～１５μｍである、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項５】
前記Ｔ１０００が、６５％以上である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項６】
前記中間層の厚みが、０．１～３μｍである、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項７】
前記中間層が、ポリビニルアルコールを含む、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項８】
前記中間層が、光消色性化合物を含む、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項９】
前記光消色性化合物の波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数が、８０００Ｌ・ｍｏｌ
－１
・ｃｍ
－１
以上である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項１０】
前記照射後の前記感光性組成物層の波長３６５ｎｍにおける透過率が、７５％以上である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は転写フィルム、及び、導体パターンを有する積層体の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
静電容量型入力装置等のタッチパネルを備えた表示装置（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び液晶表示装置等）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線等の導体パターンがタッチパネル内部に設けられている。また、プリント基板配線等においてもエッチング及びめっき工程により配線パターンが形成される。
上記導体パターンの形成には、導体層上にパターン化した層を形成した上で、導体層にエッチング及びめっき等の処理を施す方法が用いられる。このようなパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、転写フィルムを用いて任意の基板上に感光性組成物層を配置して、この感光性組成物層に対してパターン露光した後に現像する方法が広く使用されている。
【０００３】
上記のような転写フィルムとして、例えば、特許文献１には、仮支持体と、界面活性剤を含む中間層と、感光性組成物層とを有し、かつ、上記仮支持体を剥離し、露出した仮支持体を含まない側の表面の表面自由エネルギーが６６．０ｍＪ／ｍ
２
以下である転写フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２３／２１０７７７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記文献には、転写フィルムの一態様として、所定の熱可塑性樹脂層を有する転写フィルムが開示されている。
昨今、形成されるパターンの解像性のより一層の向上が求められている。一方で、同時に、現像速度が確保されていることも求められる。
本発明者らが、解像性の改良を志向して上記文献１に開示されている転写フィルムについて光消色性化合物を適用したところ、露光後の現像速度が低下する場合があり、構成について検討の必要があることを知見した。
【０００６】
そこで、本発明は、解像性に優れたパターンを形成可能であり、かつ、現像速度の低下が抑制された、転写フィルムの提供を課題とする。
また、本発明は、上記転写フィルムに係る導体パターンを有する積層体の製造方法を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成により課題を解決できることを見出した。
【０００８】
〔１〕仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性組成物層と、をこの順で有する転写フィルムであって、
上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂と、重合性基を有する可塑剤と、重合禁止剤と、光消色性化合物とを含み、
上記熱可塑性樹脂層において、上記重合禁止剤の含有量に対する、上記光消色性化合物の含有量の質量比が、４００以下であり、
上記転写フィルムから上記仮支持体を剥離して得られた積層体に対して、波長３６５ｎｍの光を含む紫外光を、波長３６５ｎｍにおける照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ
２
となるように上記熱可塑性樹脂層側から照射した場合に、上記照射前の上記積層体の波長３６５ｎｍにおける透過率をＴ０、上記照射後の上記積層体の波長３６５ｎｍにおける透過率をＴ１０００とした際に、式（１）の関係を満たす、転写フィルム。
式（１）Ｔ１０００／Ｔ０≧４
〔２〕上記感光性組成物層が、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂と、ラジカル重合性基を有するモノマーと、ラジカル重合開始剤とを含む、〔１〕に記載の転写フィルム。
〔３〕上記光消色性化合物の含有量が、上記熱可塑性樹脂層の全質量に対して、５．００～４０．００質量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の転写フィルム。
〔４〕上記熱可塑性樹脂層の厚みが、１～１５μｍである、〔１〕～〔３〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔５〕上記Ｔ１０００が、６５％以上である、〔１〕～〔４〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔６〕上記中間層の厚みが、０．１～３μｍである、〔１〕～〔５〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔７〕上記中間層が、ポリビニルアルコールを含む、〔１〕～〔６〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔８〕上記中間層が、光消色性化合物を含む、〔１〕～〔７〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔９〕上記光消色性化合物の波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数が、８０００Ｌ・ｍｏｌ
－１
・ｃｍ
－１
以上である、〔１〕～〔８〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔１０〕上記照射後の上記感光性組成物層の波長３６５ｎｍにおける透過率が、７５％以上である、〔１〕～〔９〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔１１〕上記感光性組成物層の厚みが、２～２０μｍである、〔１〕～〔１０〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
〔１２〕〔１〕～〔１１〕のいずれか１つに記載の転写フィルムを、上記感光性組成物層側が、表面に金属層を有する基板の上記金属層に接触するように貼合する貼合工程と、
上記基板側とは反対側から、上記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
上記露光された上記感光性組成物層にアルカリ現像液を用いて現像処理を施してレジストパターンを形成する現像工程と、
上記レジストパターンが配置されていない領域にある上記金属層に、エッチング処理を施して導体パターンを形成するエッチング処理工程、及びめっき処理を施すめっき処理工程のいずれか１つと、
上記レジストパターンを剥離するレジスト剥離工程と、
更に、上記めっき処理工程を有する場合、上記レジスト剥離工程により露出した上記金属層を除去して上記基板上に導体パターンを形成する除去工程と、を有する、
導体パターンを有する積層体の製造方法。
〔１３〕上記露光工程前に、上記仮支持体を剥離する工程を含む、〔１２〕に記載の導体パターンを有する積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、解像性に優れたパターンを形成可能であり、かつ、熱可塑性樹脂層の現像速度の低下が抑制された、転写フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、上記転写フィルムに係る導体パターンを有する積層体の製造方法も提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の転写フィルムの構成の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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