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公開番号
2025127645
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-02
出願番号
2024024456
出願日
2024-02-21
発明の名称
ブートストラップ回路及び不揮発性メモリ装置
出願人
ローム株式会社
代理人
弁理士法人 佐野特許事務所
主分類
H03K
19/096 20060101AFI20250826BHJP(基本電子回路)
要約
【課題】ブートストラップ回路によって生成されるブートストラップ電圧の精度を向上させる。
【解決手段】ブートストラップ回路(3)は、フライングキャパシタ(FC)及び調整回路(ADJ)を備える。フライングキャパシタは、第1電圧及び第2電圧が第1レベルであるときに第1電圧と第2電圧との電圧差に応じて充電される。第1電圧及び第2電圧が第1レベルであるときに、第1電圧は第1基準値となり、第2電圧は第2基準値となる。第1電圧及び第2電圧が第2レベルであるときに、第1電圧は前記第2基準値となり、第2電圧は第2基準値とフライングキャパシタの充電電圧の値とに基づく値となる。第1レベル及び第2レベルの一方がローレベルであり、第1レベル及び第2レベルの他方がハイレベルである。調整回路は、第2レベルであるときの第2電圧に応じて第2基準値を調整する。
【選択図】図8
特許請求の範囲
【請求項1】
フライングキャパシタ及び調整回路を備え、
前記フライングキャパシタは、第1電圧及び第2電圧が第1レベルであるときに前記第1電圧と前記第2電圧との電圧差に応じて充電されるように構成され、
前記第1電圧及び前記第2電圧が前記第1レベルであるときに、前記第1電圧は第1基準値となり、前記第2電圧は第2基準値となり、
前記第1電圧及び前記第2電圧が第2レベルであるときに、前記第1電圧は前記第2基準値となり、前記第2電圧は前記第2基準値と前記フライングキャパシタの充電電圧の値とに基づく値となり、
前記第1レベル及び前記第2レベルの一方がローレベルであり、前記第1レベル及び前記第2レベルの他方がハイレベルであり、
前記調整回路は、前記第2レベルであるときの前記第2電圧に応じて前記第2基準値を調整するように構成されている、ブートストラップ回路。
続きを表示(約 740 文字)
【請求項2】
前記調整回路は、前記第2電圧に基づく電圧をサンプルホールドするように構成されたサンプルホールド回路を備え、前記サンプルホールド回路の出力に応じて前記第2基準値を調整するように構成されている、請求項1に記載のブートストラップ回路。
【請求項3】
前記サンプルホールド回路は、サンプルホールドキャパシタを備え、
前記調整回路は、前記サンプルホールドキャパシタをプリチャージするように構成されたプリチャージ回路を備える、請求項2に記載のブートストラップ回路。
【請求項4】
前記第1レベルがローレベルであり、
前記プリチャージ回路は、前記サンプルホールドキャパシタを前記第2基準値の目標値に対応する帰還電圧より高めにプリチャージするように構成されている、請求項3に記載のブートストラップ回路。
【請求項5】
前記第1レベルがハイレベルであり、
前記プリチャージ回路は、前記サンプルホールドキャパシタを前記第2基準値の目標値に対応する帰還電圧より低めにプリチャージするように構成されている、請求項3に記載のブートストラップ回路。
【請求項6】
前記調整回路は、前記第2電圧の前記第1レベルから前記第2レベルへの切り替わり開始から所定期間が経過したタイミングにおける前記第2電圧に応じて前記第2基準値を調整するように構成されている、請求項1に記載のブートストラップ回路。
【請求項7】
請求項1~6のいずれか一項に記載のブートストラップ回路を備える、不揮発性メモリ装置。
【請求項8】
半導体集積回路装置である、請求項7に記載の不揮発性メモリ装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、ブートストラップ回路及び不揮発性メモリ装置に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、ブートストラップ電圧を生成するブートストラップ回路が知られている(例えば特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-133916号公報
【0004】
[概要]
ブートストラップ電圧は、フライングキャパシタとブートストラップ電圧が印加されるラインに接続される寄生容量とによって構成される容量分圧回路の分圧に応じた値となる。
【0005】
したがって、フライングキャパシタは寄生容量よりも十分に大きいことが理想である。しかしながら、ブートストラップ電圧が印加されるラインの面積が大規模になり、寄生容量が大きくなる場合、フライングキャパシタを大きくできなければ理想から大きく乖離することになりブートストラップ電圧の精度が悪化してしまう。
【0006】
本開示に係るブートストラップ回路は、フライングキャパシタ及び調整回路を備える。前記フライングキャパシタは、第1電圧及び第2電圧が第1レベルであるときに前記第1電圧と前記第2電圧との電圧差に応じて充電されるように構成されている。前記第1電圧及び前記第2電圧が前記第1レベルであるときに、前記第1電圧は第1基準値となり、前記第2電圧は第2基準値となる。前記第1電圧及び前記第2電圧が第2レベルであるときに、前記第1電圧は前記第2基準値となり、前記第2電圧は前記第2基準値と前記フライングキャパシタの充電電圧の値とに基づく値となる。前記第1レベル及び前記第2レベルの一方がローレベルであり、前記第1レベル及び前記第2レベルの他方がハイレベルである。前記調整回路は、前記第2レベルであるときの前記第2電圧に応じて前記第2基準値を調整するように構成されている。
【0007】
本開示に係る不揮発性メモリ装置は、上記構成のブートストラップ回路を備える。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1は、本開示の実施形態に係る不揮発性メモリ装置の構成を示す図である。
図2は、データ素子のドレイン電流のゲート・ソース間電圧依存性を示す図である。
図3は、プログラム動作時におけるメモリ素子への電圧印加の一例を示す図である。
図4は、図3に対応するメモリ素子の縦構造断面図である。
図5は、リード動作時におけるメモリ素子への電圧印加の一例を示す図である。
図6は、図5に対応するメモリ素子の縦構造断面図である。
図7は、本開示の実施形態に係る不揮発性メモリ装置の外観斜視図である。
図8は、ブートストラップ回路の一構成例を示す図である。
図9は、ブートストラップ電圧及びドライブ電圧の波形を示すタイミングチャートである。
【0009】
[詳細な説明]
図1は、本開示の実施形態に係る不揮発性メモリ装置の構成を示す図である。本開示の実施形態に係る不揮発性メモリ装置1(以下、不揮発性メモリ装置1という)は、第1データ素子Md1と、第2データ素子Md2と、チャージポンプ回路2と、ブートストラップ回路3と、電圧印加部4と、スイッチSW1と、センスアンプSAと、を備える。
【0010】
第1データ素子Md1と第2データ素子Md2との組み合わせにより、“0”のデータまたは“1”のデータが記憶される。
(【0011】以降は省略されています)
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