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公開番号
2025124421
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-08-26
出願番号
2024020471
出願日
2024-02-14
発明の名称
スナバ回路
出願人
ローム株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H02M
3/155 20060101AFI20250819BHJP(電力の発電,変換,配電)
要約
【課題】ドレイン-ソース電圧のピーク電圧を抑制できるスナバ回路を提供する。
【解決手段】スナバ回路1は、スイッチング素子2,3と、スナバコンデンサ4,5と、スナバ抵抗6,7と、スナバダイオード8,9と、を備える。スナバダイオード8,9は、電圧を1V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が100pF以上300pF以下であり、電圧を800V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が10pF以上30pF以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
動作電圧が600V以上2000V以下の回路に使用されるスナバ回路であって、
スイッチング素子と、
スナバコンデンサと、
スナバ抵抗と、
スナバダイオードと、を備え、
前記スナバダイオードは、
電圧を1V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が100pF以上300pF以下であり、
電圧を800V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が10pF以上30pF以下である、スナバ回路。
続きを表示(約 690 文字)
【請求項2】
前記スナバダイオードは、SiC-ショットキーバリアダイオードである、請求項1に記載のスナバ回路。
【請求項3】
前記スイッチング素子は、SiC-MOSFETである、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
【請求項4】
前記スイッチング素子のスイッチング速度は、5V/ns以上200V/ns以下である、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
【請求項5】
前記スナバダイオードの定格電流値は、0.5A以上5.0A以下である、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
【請求項6】
前記スナバコンデンサと前記スナバダイオードとは、電気的に直列に接続されており、
前記スナバ抵抗は、前記スナバダイオードと電気的に並列に接続されている、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
【請求項7】
前記スナバコンデンサと前記スナバダイオードとは、電気的に直列に接続されており、
前記スナバ抵抗の一方端は、前記スナバコンデンサと前記スナバダイオードとの間に接続されており、
前記スナバ抵抗の他方端は、前記スイッチング素子に接続されている、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
【請求項8】
前記スナバ抵抗は、第1スナバ抵抗及び第2スナバ抵抗を含み、
前記スナバコンデンサ、前記スナバダイオード及び前記第2スナバ抵抗は、電気的に直列に接続されており、
前記第1スナバ抵抗は、前記スナバコンデンサと電気的に並列に接続されている、請求項1又は2に記載のスナバ回路。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、スナバ回路に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)
【背景技術】
【0002】
スナバ回路は、スナバコンデンサと、スナバ抵抗と、を備える(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
国際公開第2016/067835号
【0004】
[概要]
本開示は、ドレイン-ソース電圧のピーク電圧を抑制できるスナバ回路を提供する。
【0005】
本開示のスナバ回路は、動作電圧が600V以上2000V以下の回路に使用されるスナバ回路であって、スイッチング素子と、スナバコンデンサと、スナバ抵抗と、スナバダイオードと、を備え、スナバダイオードは、電圧を1V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が100pF以上300pF以下であり、電圧を800V、周波数を1MHzとしたときの静電容量が10pF以上30pF以下である。
【図面の簡単な説明】
【0006】
図1は、第1実施形態に係るスナバ回路を示す図である。
図2は、スナバダイオードにおける逆電圧とキャパシタンスとの関係の一例を示すグラフである。
図3は、比較例及び実施例に係るスナバダイオードを用いた場合におけるドレイン-ソース電圧のピーク電圧を示す表である。
比較例及び実施例に係るスナバダイオードにおける時間とドレイン-ソース電圧との関係を示すグラフである。
図5は、比較例及び実施例に係るスナバダイオードのドレイン-ソース電圧のピーク電圧を示すグラフである。
比較例及び実施例に係るスナバダイオードにおける時間と電流との関係を示すグラフである。
図7は、第2実施形態に係るスナバ回路を示す図である。
図8は、他の実施形態に係るスナバ回路を示す図である。
図9は、他の実施形態に係るスナバ回路を示す図である。
図10は、他の実施形態に係るスナバ回路を示す図である。
【0007】
[詳細な説明]
以下、添付図面を参照して、本開示の実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【0008】
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係るスナバ回路を示す図である。図1に示されるように、スナバ回路1は、第1スイッチング素子2と、第2スイッチング素子3と、第1スナバコンデンサ4と、第2スナバコンデンサ5と、第1スナバ抵抗6と、第2スナバ抵抗7と、第1スナバダイオード8と、第2スナバダイオード9と、を備える。本実施形態に係るスナバ回路1は、非放電型スナバ回路である。スナバ回路1は、動作電圧が600V以上2000V以下の回路に使用される。スナバ回路1は、例えば、スイッチング電源装置等に設けられ得る。
【0009】
スナバ回路1は、ハイサイドに第1スイッチング素子2が接続されると共に、ローサイドに第2スイッチング素子3が接続されるブリッジ構成を有する。第1スイッチング素子2、第1スナバコンデンサ4、第1スナバ抵抗6及び第1スナバダイオード8は、ハイサイドの回路を構成している。第2スイッチング素子3、第2スナバコンデンサ5、第2スナバ抵抗7及び第2スナバダイオード9は、ローサイドの回路を構成している。第1スナバコンデンサ4、第2スナバコンデンサ5、第1スナバ抵抗6、第2スナバ抵抗7、第1スナバダイオード8及び第2スナバダイオード9は、スナバ回路1において、スナバ回路部10を構成している。
【0010】
第1スイッチング素子2及び第2スイッチング素子3のそれぞれは、SiC-MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)である。本実施形態では、第1スイッチング素子2及び第2スイッチング素子3のそれぞれは、NチャネルのSiC-MOSFETである。第1スイッチング素子2及び第2スイッチング素子3のそれぞれのスイッチング速度は、5V/ns以上200V/ns以下であり、40V/ns以上であることが好ましい。
(【0011】以降は省略されています)
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