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公開番号2025123278
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-22
出願番号2025096866,2024103739
出願日2025-06-10,2016-12-27
発明の名称走査方法の決定方法、および計測方法
出願人パイオニア株式会社
代理人個人,個人
主分類G01S 7/481 20060101AFI20250815BHJP(測定;試験)
要約【課題】計測装置における計測の効率を高める。
【解決手段】計測装置200は計測部202及び制御部204を有する。計測部202は、照射方向を変えながら電磁波を照射して走査を行う。制御部204は、N 回の連続する主走査で合計 M 回電磁波を照射し、前記 N 回の主走査において電磁波の照射タイミングが互いに異なり、各主走査で少なくとも1回電磁波が照射されるように、計測部202を制御する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
移動体に設置される計測装置の走査方法の決定方法であって、
前記計測装置は照射方向を変えながら電磁波を照射して走査を行う装置であり、
前記移動体が移動している際に生じる振動の周波数よりも高い周波数を、前記計測装置の主走査の走査周波数として決定し、
決定した前記主走査の走査周波数にて、１つの画素に対して、電磁波を照射しうる連続した主走査を複数行い、かつ前記複数の連続した主走査において前記１つの画素に対する電磁波の照射が１回となるように電磁波の照射タイミングを決定する、走査方法の決定方法。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
請求項１に記載の決定方法において、
所定の平面において、電磁波の複数のスポットが互いに重ならないように電磁波の照射タイミングを決定する決定方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の決定方法において、
電磁波のスポットの大きさを、画素の大きさに応じて設定する決定方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の決定方法において、
前記計測装置は電磁波の照射方向を、主走査方向と副走査方向という２つの方向について時間と共に変化させることで、走査を行う装置であり、
主走査方向の走査周波数を副走査方向の走査周波数よりも高くする決定方法。
【請求項５】
請求項４に記載の決定方法において、
前記複数の連続する主走査において電磁波の照射タイミングが互いに異なり、各主走査で少なくとも１回電磁波が照射されるように電磁波の照射タイミングを決定する、決定方法。
【請求項６】
請求項５に記載の決定方法において、
N 回の連続する主走査で合計 M 回電磁波を照射し、前記 N 回の主走査において電磁波の照射タイミングが互いに異なり、各主走査で少なくとも１回電磁波が照射されるように走査方法を決定し、
副走査方向の走査間隔を dy とし、副走査方向の１画素の幅をAとすると、前記N は、A/dy以下の最大の整数及びA/dy以上の最小の整数のいずれか一方であり、
主走査方向のスキャン範囲の幅を X とし、主走査方向の１画素の幅を B とすると、前記 M は、X/B 以上の最小の整数及び X/B 以下の最大の整数のいずれか一方である決定方法。
【請求項７】
請求項６に記載の決定方法において、
前記 N 回の主走査それぞれにおける電磁波の照射回数を、M/N 以上の最小の整数及び M/N 以下の最大の整数のうちのいずれか一方とする決定方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の決定方法において、
前記Mは、前記複数の連続する主走査において前記計測装置に求められる解像度の画素数である、決定方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の決定方法において、
各主走査において電磁波を等間隔に照射させるよう決定する決定方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の決定方法で決定された走査方法で、前記計測装置が走査する計測方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波を照射して計測を行う技術に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
電磁波を照射して物体を走査することで障害物などの検出を行う技術が開発されている。特許文献１は、自動車等に設置される装置において、レーザ光を照射して目標領域内でスキャンを行うことで、障害物などの検出を行う技術を開示している。また特許文献１では、自動車の操舵角度に応じて、スキャン領域の横方向の中心軸を変更する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００６－２５８６０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に示すような計測装置では、求められる解像度（測定の粒度）以上の粒度で計測が行われることがあり、電力が無駄に消費されるなどの問題がある。
【０００５】
本発明は、上述の課題鑑みてなされたものであり、計測装置による計測の効率を高くする技術を提供することを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の発明は、
移動体に設置される計測装置の走査方法の決定方法であって、
前記計測装置は照射方向を変えながら電磁波を照射して走査を行う装置であり、
前記移動体が移動している際に生じる振動の周波数よりも高い周波数を、前記計測装置の主走査の走査周波数として決定し、
決定した前記主走査の走査周波数にて、主走査方向に一列に並んだ複数の画素に対して、複数の連続する主走査の合計で、各画素に１回ずつ電磁波が照射されるように、電磁波の照射タイミングを決定する、走査方法の決定方法である。
【０００７】
第２の発明は、
上記の決定方法で決定された走査方法で、前記計測装置が走査する計測方法である。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
実施形態１に係る計測装置を例示する図である。
一般的な計測装置による揺動走査を概念的に例示する図である。
一般的な計測装置による揺動走査の走査範囲を xy 平面について平面視した図である。
一般的な計測装置による回転走査を概念的に例示する図である。
一般的な計測装置による回転走査の走査範囲を xy 平面に展開して平面視した図である。
図３から軌跡を除いた図である。
電磁波のスポットの重なりを例示する図である。
本実施形態の計測装置による揺動走査の走査範囲を、xy 平面で平面視した様子を例示する図である。
図８から軌跡を除いた図である。
図９における各電磁波のスポットを例示する図である。
本実施形態の計測装置による回転走査の走査範囲を、xy 平面で展開して平面視した様子を例示する図である。
図８で示した計測装置による揺動走査の一部を表す図である。
計測装置による回転走査の一部を表す図である。
主走査方向の走査周波数を低くした例を示す図である。
計測装置によって電磁波が等間隔で照射されるケースを例示する図である。
各主走査において最初に電磁波が照射される画素について説明するための図である。
各主走査で電磁波が照射される回数の差が１以下であるケースを例示する図である。
制御部のハードウエア構成を例示する図である。
計測部のハードウエア構成を例示する図である。
光を照射する計測部のハードウエア構成を例示する図である。
走査器を介さずに反射波が受信される計測装置のハードウエア構成を例示する図である。
光源駆動信号を例示する図である。
移動体に設置されている計測装置を例示する図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、特に断らない限り、各ブロックは、ハードウエア単位の構成ではなく、機能単位の構成を表している。
【００１０】
図１は、実施形態１に係る計測装置２００を例示する図である。計測装置２００は、計測部２０２及び制御部２０４を有する。計測部２０２は、照射方向を変えながら電磁波を照射し、照射した電磁波の反射波を受信することで、物体を走査する。制御部２０４は、計測部２０２による走査を制御する。さらに制御部２０４は、計測部２０２によって電磁波が照射されてからその電磁波の反射波が受信されるまでの時間を測定する。この測定結果は、例えば、上記電磁波を反射した物体と計測装置２００との距離を把握するため（いわゆる測距）に利用される。計測装置２００は、例えばライダ（Lidar：Light Detection and Ranging）センサやミリ波レーダなどである。
（【００１１】以降は省略されています）

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