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公開番号2025106447
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-15
出願番号2025063792,2023182845
出願日2025-04-08,2023-10-24
発明の名称ステージ装置、基板処理装置、情報処理装置、情報処理方法、プログラム及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250708BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】駆動時間を短縮可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して移動可能なステージと、駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を有し、前記駆動プロファイルは、第1方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第1パラメータと、前記第1パラメータに基づいて決定された第2方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第2パラメータとに基づいて定められ、前記ステージの前記第1方向への移動距離は、前記第2方向への移動距離よりも長い。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持して移動可能なステージと、
駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を有し、
前記駆動プロファイルは、第１方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第１パラメータと、前記第１パラメータに基づいて決定された第２方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第２パラメータとに基づいて定められ、
前記ステージの前記第１方向への移動距離は、前記第２方向への移動距離よりも長い、
ことを特徴とするステージ装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記第２パラメータは、前記第１パラメータと、前記第１方向への前記ステージの移動速度と前記第２方向への前記ステージの移動速度との合成速度の限界速度と、に基づいて決定される、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記第１パラメータは前記ステージが前記第１方向へ移動する速度であり、前記第２パラメータは前記第２方向へ前記ステージが移動を開始する時間、又は、前記ステージが前記第２方向へ移動するときの加速度、又は、前記ステージが前記第２方向へ移動するときの最高速度である、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記第１パラメータは前記第１方向における前記ステージの移動の速度が最高速度から変化する時間であり、前記第２パラメータは前記ステージが前記第２方向へ移動を開始する時間である、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記ステージが前記第１方向へ移動する速度と、前記ステージが前記第２方向へ移動する速度とは、互いに異なる時間においてそれぞれ最高速度となる、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記第１方向は前記基板に対して走査露光を行うときの走査方向であり、前記第２方向は前記第１方向に対して直交する方向である、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記駆動プロファイルは、前記第１方向への前記ステージの移動の制御に用いる第１駆動プロファイルと、前記第２方向への前記ステージの移動の制御に用いる第２駆動プロファイルと、を含み、
前記第１パラメータに基づいて前記第１駆動プロファイルは決定され、前記第２パラメータに基づいて前記第２駆動プロファイルは決定される、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記第２方向への前記ステージの移動の制御に用いる第２駆動プロファイルを記憶する記憶部を有し、
前記第２パラメータに基づいて、前記記憶部に記憶された前記第２駆動プロファイルは調整される、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記記憶部は、前記第１方向への前記ステージの移動の制御に用いる第１駆動プロファイルを記憶しており、
前記第１パラメータと前記第２パラメータとに基づいて前記第１駆動プロファイルは調整される、ことを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記駆動プロファイルは非露光期間における前記ステージの移動の制御に用いられる、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、基板処理装置、情報処理装置、情報処理方法、プログラム及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造工程において、基板を所望の位置に移動させるためにステージ装置が用いられる。特許文献１には、露光終了時から次の露光開始時まで移動するためのステージの目標軌跡を３つ算出し、算出した目標軌跡のうち実現可能でステージの駆動時間が最小となる目標軌跡を採用することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１５－２１６３２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、ステージは基板を保持する面において直交する２方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に駆動して基板を所望の位置に移動させるが、この２方向に同時に駆動した場合のステージ速度は２方向それぞれにおける速度の合成速度となる。この合成速度の最大値（限界速度）はハードウェア構成により決定されてしまっているため、この制限により２方向それぞれにおいて最高速度で駆動することができないことがある。
【０００５】
そこで、本発明は、駆動時間を短縮可能なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのステージ装置は、基板を保持して移動可能なステージと、駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を有し、前記駆動プロファイルは、第１方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第１パラメータと、前記第１パラメータに基づいて決定された第２方向への前記ステージの移動に関するパラメータである第２パラメータとに基づいて定められ、前記ステージの前記第１方向への移動距離は、前記第２方向への移動距離よりも長い、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、駆動時間を短縮可能なステージ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態における基板処理装置の構成を示す概略図である。
基板を走査露光するときの概略図である。
従来における、８４番目のショット領域と８５番目のショット領域を露光するときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
第１実施形態における、８４番目のショット領域と８５番目のショット領域を露光するときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
第１実施形態における、駆動プロファイルの決定のフローチャートを示す図である。
第２実施形態における、８４番目のショット領域と８５番目のショット領域を露光するときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
第３実施形態における、８４番目のショット領域と８５番目のショット領域を露光するときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
従来における、対象の位置に８７番目のショット領域を移動させてから８番目のショット領域を移動させるときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
第４実施形態における、対象の位置に８７番目のショット領域を移動させてから８番目のショット領域を移動させるときの基板ステージの駆動プロファイルを示す図である。
第５実施形態における物品の製造方法のフローチャートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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