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公開番号2025101946
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-08
出願番号2023219058
出願日2023-12-26
発明の名称洗浄装置、洗浄方法、およびEUVL用マスクブランクの製造方法
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人志賀国際特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250701BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】スピン洗浄の洗浄ムラを低減すると共に、フットプリントを低減する、技術を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、複数の基板を水平に保持する保持部と、前記保持部と共に複数の前記基板を回転させる回転部と、前記保持部で保持している複数の前記基板の上面に洗浄液の液膜を形成する1以上のノズルと、を備える。各前記基板の前記上面は、一対の長辺と一対の短辺を有する長方形である。各前記基板は、前記長方形の長辺に沿う第1端面と第2端面と、前記長方形の短辺に沿う第3端面と第4端面とを有する。前記保持部は、一の前記基板の前記第1端面と、別の前記基板の前記第1端面とを向かい合わせて、複数の前記基板を水平に保持する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
複数の基板を水平に保持する保持部と、
前記保持部と共に複数の前記基板を回転させる回転部と、
前記保持部で保持している複数の前記基板の上面に洗浄液の液膜を形成する１以上のノズルと、
を備え、
各前記基板の前記上面は、一対の長辺と一対の短辺を有する長方形であり、
各前記基板は、前記長方形の長辺に沿う第１端面と第２端面と、前記長方形の短辺に沿う第３端面と第４端面とを有し、
前記保持部は、一の前記基板の前記第１端面と、別の前記基板の前記第１端面とを向かい合わせて、複数の前記基板を水平に保持する、洗浄装置。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記基板を搬送する搬送部を備え、
前記搬送部は、前記基板の前記第３端面と前記第４端面を挟んで支持する一対の挟持部を有する、請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記搬送部は、前記基板を押さえる押さえ部を、前記第２端面に対向して有し、前記第１端面に対向して有しない、請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記搬送部は、前記基板の前記第２端面の斜め下又は下に前記押さえ部を対向配置しながら、前記基板を上下反転させ、
前記搬送部が前記基板を上下反転させた後、再び、前記保持部が一の前記基板の前記第１端面と、別の前記基板の前記第１端面とを向かい合わせて、複数の前記基板を水平に保持する、請求項３に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記保持部で保持している前記基板の前記上面から、前記保持部の回転中心線とは反対側に向けて水平方向に前記洗浄液を導くガイド板を備え、
前記回転部は、前記保持部と前記ガイド板を、同一の回転中心線を中心に、同一の回転速度で回転させる、請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記ガイド板を昇降させる昇降部を備える、請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、
前記保持部の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる移動部と、
を備える、請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項８】
請求項１～７のいずれか１項に記載の洗浄装置を用いて、前記基板を洗浄することを有する、洗浄方法。
【請求項９】
請求項１～７のいずれか１項に記載の洗浄装置を用いて、ガラス基板または前記ガラス基板の上に形成された機能膜を洗浄することを有する、ＥＵＶＬ用マスクブランクの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、洗浄装置、洗浄方法、およびＥＵＶＬ用マスクブランクの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme Ultra-Violet）を用いた露光技術であるＥＵＶリソグラフィー（ＥＵＶＬ）が開発されている。ＥＵＶは、１３．５ｎｍ程度の波長を有する。ＥＵＶＬでは、反射型マスクが用いられる。反射型マスクは、ガラス基板などの基板と、ＥＵＶ光を反射する多層反射膜と、ＥＵＶ光を吸収する吸収膜と、をこの順で有する。吸収膜は、ＥＵＶ光を吸収するだけではなく、ＥＵＶ光の位相をシフトしてもよい。つまり、吸収膜は、位相シフト膜であってもよい。吸収膜には、開口パターンが形成される。ＥＵＶＬでは、吸収膜の開口パターンを半導体基板などの対象基板に転写する。転写することは、縮小して転写することを含む。
【０００３】
特許文献１に記載の洗浄方法は、基板をスピン洗浄する。基板をスピン洗浄する工程は、基板を回転させながら、基板の上面に洗浄液を供給する工程と、洗浄液の供給を停止した後、基板を回転させながら、基板の上面に残る洗浄液を振り切る工程と、を有する。基板は、液晶表示装置の基板、または液晶表示装置の製造に用いられるフォトマスク基板である。基板は、長方形基板である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００４－２９４８７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板の上面は、例えば長方形である。長方形は、４辺の長さが等しい正方形ではないことがある。つまり、長方形は、一対の長辺と一対の短辺を有することがある。長辺の長さは、短辺の長さよりも長い。この場合、基板の上面の中心を中心に基板を回転させると、基板の回転中心線と基板の周縁との距離の、最大値と最小値の差が大きい。それゆえ、スピン洗浄の洗浄ムラが生じやすい。また、基板一枚当たりの洗浄装置のフットプリント（設置面積）が大きい。
【０００６】
本開示の一態様は、スピン洗浄の洗浄ムラを低減すると共に、基板一枚当たりの洗浄装置のフットプリントを低減する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一態様に係る洗浄装置は、複数の基板を水平に保持する保持部と、前記保持部と共に複数の前記基板を回転させる回転部と、前記保持部で保持している複数の前記基板の上面に洗浄液の液膜を形成する１以上のノズルと、を備える。各前記基板の前記上面は、一対の長辺と一対の短辺を有する長方形である。各前記基板は、前記長方形の長辺に沿う第１端面と第２端面と、前記長方形の短辺に沿う第３端面と第４端面とを有する。前記保持部は、一の前記基板の前記第１端面と、別の前記基板の前記第１端面とを向かい合わせて、複数の前記基板を水平に保持する。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の一態様によれば、複数の基板の第１端面同士を向かい合わせて、複数の基板を水平に保持することで、複数の基板でアスペクト比の小さい長方形を作成可能である。よって、スピン洗浄の洗浄ムラを低減できる。また、一の基板を回転させるスペースと別の基板を回転させるスペースとを一部重ねることができ、基板一枚当たりの洗浄装置のフットプリントを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、一実施形態に係る洗浄装置を示す平面図である。
図２（Ａ）は基板の一例を示す平面図であり、図２（Ｂ）は基板の一例を示す断面図である。
図３は、洗浄ヘッドの内部構造の一例を示す断面図である。
図４は、洗浄ヘッドの内部構造の別の一例を示す断面図である。
図５は、搬送部の一例を示す平面図である。
図６（Ａ）は基板の反転の一例を示す断面図であり、図６（Ｂ）は図６（Ａ）に続いて基板の反転の一例を示す断面図であり、図６（Ｃ）は図６（Ｂ）に続いて基板の反転の一例を示す断面図であり、図６（Ｄ）は図６（Ｃ）に続いて基板の反転の一例を示す断面図であり、図６（Ｅ）は図６（Ｄ）に続いて基板の反転の一例を示す断面図である。
図７（Ａ）は基板の搬入の一例を示す平面図であり、図７（Ｂ）は図７（Ａ）に続いて基板の搬入の一例を示す平面図であり、図７（Ｃ）は図７（Ｂ）に続いて基板の搬入の一例を示す平面図であり、図７（Ｄ）は図７（Ｃ）に続いて基板の搬入の一例を示す平面図である。
図８（Ａ）は基板の反転の一例を示す平面図であり、図８（Ｂ）は図８（Ａ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図であり、図８（Ｃ）は図８（Ｂ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図であり、図８（Ｄ）は図８（Ｃ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図である。
図９（Ａ）は図８（Ｄ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図であり、図９（Ｂ）は図９（Ａ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図であり、図９（Ｃ）は図９（Ｂ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図であり、図９（Ｄ）は図９（Ｃ）に続いて基板の反転の一例を示す平面図である。
図１０（Ａ）は基板の搬出の一例を示す平面図であり、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）に続いて基板の搬出の一例を示す平面図であり、図１０（Ｃ）は図１０（Ｂ）に続いて基板の搬出の一例を示す平面図であり、図１０（Ｄ）は図１０（Ｃ）に続いて基板の搬出の一例を示す平面図である。
一実施形態に係るＥＵＶＬ用マスクブランクの製造方法を示すフローチャートである。
図１２は、ＥＵＶＬ用マスクブランクを構成するガラス基板の一例を示す断面図である。
図１３は、ＥＵＶＬ用マスクブランクの一例を示す断面図である。
図１４は、ＥＵＶＬ用マスクの一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本開示を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において同一の又は対応する構成には同一の符号を付し、説明を省略することがある。明細書中、数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。数値範囲は、四捨五入した範囲を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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